JPS5813999B2 - Denkaketsugososhinokudohou - Google Patents

Denkaketsugososhinokudohou

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JPS5813999B2
JPS5813999B2 JP9458775A JP9458775A JPS5813999B2 JP S5813999 B2 JPS5813999 B2 JP S5813999B2 JP 9458775 A JP9458775 A JP 9458775A JP 9458775 A JP9458775 A JP 9458775A JP S5813999 B2 JPS5813999 B2 JP S5813999B2
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JP
Japan
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gate electrode
charge
diffusion layer
input gate
transfer
Prior art date
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JP9458775A
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Japanese (ja)
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JPS5218141A (en
Inventor
谷川紘
長島功夫
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5813999B2 publication Critical patent/JPS5813999B2/en
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C19/00Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
    • G11C19/28Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
    • G11C19/287Organisation of a multiplicity of shift registers

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電荷結合素子の駆動法に関するものであり、そ
の目的とするところは、周辺回路の簡略化にある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for driving a charge-coupled device, and its purpose is to simplify peripheral circuitry.

近年、集積回路技術を背景に急速な発展を遂げてきた電
荷結合素子は各種分野への応用が提案されてきた。
In recent years, charge-coupled devices have been rapidly developed on the back of integrated circuit technology, and their applications in various fields have been proposed.

当該素子の特徴は、アナログ量に対応する電荷群の移動
を外部回路から制御することにある。
The feature of this element is that the movement of a group of charges corresponding to an analog quantity is controlled from an external circuit.

該電荷の移動の機構については各種の解析がなされ、よ
り高速移動が可能であるような素子構造も提案されてい
る。
Various analyzes have been conducted on the mechanism of charge movement, and device structures that enable faster charge movement have also been proposed.

しかし、該移動には有限な時間を必要とするため、素子
構造、製造プロセスにより決定される最大の移動速度が
存在する。
However, since this movement requires a finite amount of time, there is a maximum movement speed determined by the element structure and manufacturing process.

すなわち、最高動作周波数が存在する。That is, there is a maximum operating frequency.

一方、通信理論によれば、電荷結合素子内部を伝播する
最高信号周波数は、動作周波数の因であることが知られ
ている。
On the other hand, according to communication theory, it is known that the highest signal frequency propagating inside a charge-coupled device is a factor in the operating frequency.

このため、当該素子では、前記最高動作周波数のi以上
の信号を伝播し得ないことになる。
Therefore, the element cannot propagate a signal higher than the maximum operating frequency i.

しかしながら、複数列の電荷結合素子を用いて、それぞ
れの動作周波数の位相を移相させることにより、見かけ
上の伝播周波数を増加させることが可能である。
However, by using multiple rows of charge-coupled devices and shifting the phase of their respective operating frequencies, it is possible to increase the apparent propagation frequency.

かかる構成はマルチブレツクス構成と呼ばれ、MOS素
子群によるシフトレジスタでの伝播周波数を増加させる
方法として良く知られてきた。
Such a configuration is called a multiplex configuration, and has been well known as a method of increasing the propagation frequency in a shift register using a group of MOS elements.

かかるマルチブレツクス構成は、電荷結合素子を信号遅
延線あるいは撮像装置として利用する場合にも容易に達
成され得る。
Such a multiplex configuration can also be easily achieved when a charge-coupled device is used as a signal delay line or an imaging device.

一方、電荷結合素子の動作には、転送効率の上昇あるい
は該素子内部での歪発生を小さくするために、一定量の
バイアス電荷を注入する必要がある。
On the other hand, in order to operate a charge-coupled device, it is necessary to inject a certain amount of bias charge in order to increase the transfer efficiency or reduce the occurrence of distortion inside the device.

さらに、かかるバイアス電荷の注入は十分に安定であっ
て、雑音が低いことが要求される。
Furthermore, such bias charge injection is required to be sufficiently stable and have low noise.

本発明はかかるマルチブレツクス構成の電荷結合素子に
、低雑音で信号電荷あるいはバイアス電荷を注入するた
めの新規な駆動法を提供することにある。
The object of the present invention is to provide a novel driving method for injecting signal charges or bias charges into a charge-coupled device having such a multiplex configuration with low noise.

本発明は、並列に配置された複数の電荷転送列群と、当
該転送列群の一端に設けられた単一の電荷検出用浮動拡
散層と、リセットゲート電極を介して当該拡散層を一定
周期で充電する手段と、当該拡散層の電位検出手段と、
前記転送列群の他の一端に設けられた単一の電荷注入用
拡散層と、第一入力ゲート電極と、直流バイアス手段を
有する第二入力ゲート電極と、前記転送列群を構成する
第一の転送電極下へ順次に電荷注入を行なわしめる作用
をする第三入力ゲート電極とから構成される電荷結合素
子において、前記リセットゲート電極と前記第三入力ゲ
ート電極とに共通のパルス列を印加することにより容易
に達成される。
The present invention includes a plurality of charge transfer column groups arranged in parallel, a single charge detection floating diffusion layer provided at one end of the transfer column group, and a reset gate electrode that moves the diffusion layer at a constant period. means for charging the diffusion layer, means for detecting the potential of the diffusion layer,
a single charge injection diffusion layer provided at the other end of the transfer column group; a first input gate electrode; a second input gate electrode having a DC bias means; In a charge-coupled device comprising a third input gate electrode that functions to sequentially inject charges under a transfer electrode, applying a common pulse train to the reset gate electrode and the third input gate electrode. easily achieved by

従来技術においては、前記リセットゲート電極と前記第
三入カゲート電極とが異なるパルサーにより、異なる位
相で駆動されていたが、本発明では単一のパルサによる
1駆動が可能となる。
In the prior art, the reset gate electrode and the third input gate electrode were driven by different pulsers with different phases, but in the present invention, it is possible to drive them with a single pulser.

即ち本発明によれば、周辺回路の簡略化が可能で、さら
に、素子パッケージのピン数を減少させ得る等の大きな
利点が存在する。
That is, according to the present invention, there are great advantages such as the simplification of peripheral circuits and the ability to reduce the number of pins of an element package.

次に図面を参照して詳細な説明を行なう。Next, a detailed explanation will be given with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す図であり、電荷結合素
子を示す構造平面図である。
FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of the present invention, and is a structural plan view showing a charge coupled device.

同図において、1は接地された基板半導体とは導電型を
異にする入力拡散層である。
In the figure, reference numeral 1 denotes an input diffusion layer having a conductivity type different from that of the grounded substrate semiconductor.

本明細書においては、便宜上Nチャネル構造、すなわち
p型半導体基板を用いた構造を用いる。
In this specification, for convenience, an N-channel structure, that is, a structure using a p-type semiconductor substrate is used.

かかる場合には、1はn型拡散層である。In such a case, 1 is an n-type diffusion layer.

2,3,4はそれぞれ第1、第2、第3人カゲート電極
で、前記基板を被う酸化膜等の絶縁膜上に互いに隣接し
て配置されている。
Reference numerals 2, 3, and 4 are first, second, and third gate electrodes, respectively, which are arranged adjacent to each other on an insulating film such as an oxide film covering the substrate.

11,12.13・・・18.19および1 1’,
1 2’, 1 3’,・・・18’,19’はそれぞ
れ一組の電荷転移路を形成する転送電極群である。
11, 12.13...18.19 and 1 1',
12', 13', . . . 18', 19' are transfer electrode groups forming a set of charge transfer paths, respectively.

第1図において、当該電極形状内に示された数値1,2
は、当該電極へ印加される転送パルスの種類を示してい
る。
In Figure 1, the numbers 1 and 2 shown within the electrode shape
indicates the type of transfer pulse applied to the electrode.

すなわち、同図においては、二相駆動型電荷結合素子が
実施例として示されていることが明らかである。
That is, it is clear that the figure shows a two-phase drive type charge coupled device as an example.

第1図において5は外部電源により直流バイアスされる
手段を含む出力ゲート電極、6は電荷検出のための浮動
n型拡散層、8は直流バイアスされるn型拡散層、7は
6および8の中間に位置するリセットゲート電極、旦は
MOSFETである。
In FIG. 1, 5 is an output gate electrode including means to be DC biased by an external power source, 6 is a floating n-type diffusion layer for detecting charges, 8 is an n-type diffusion layer biased to DC, and 7 is an output gate electrode including a means for DC biasing by an external power source. The reset gate electrode located in the middle is a MOSFET.

当該MOSFETのゲート電極10は、前記浮動拡散層
6と電気的に接続されている。
The gate electrode 10 of the MOSFET is electrically connected to the floating diffusion layer 6.

なお、当該電気的接続は、絶縁膜に設けられたコンタク
ト穴を介して直流的に接続されていても良いし、当該絶
縁膜を介して静電容量による交流的な結合によっても良
い。
Note that the electrical connection may be a direct current connection via a contact hole provided in the insulating film, or may be an alternating current coupling using capacitance via the insulating film.

さらに当該MOSFET 9のソース20、ドレイン2
1はそれぞれ適当な外部電気回路網に接続されており、
lはソースフオロアあるいはソース接地型の増幅器とし
て動作する。
Furthermore, the source 20 and drain 2 of the MOSFET 9
1 are each connected to a suitable external electrical network,
1 operates as a source follower or a source-grounded amplifier.

第2図は第1図に示した実施例を駆動するための各部パ
ルス波形、および、出力信号波形のタイムチャートであ
る。
FIG. 2 is a time chart of pulse waveforms of various parts and output signal waveforms for driving the embodiment shown in FIG. 1.

同図において、31.32はそれぞれ11,13,・・
・18,12’,・・・19′および12,・・・19
,11’,13’・・・18′の転送電極群へ供給され
るパルス波形で、それぞれ第1相、第2相パルスと呼ぶ
In the same figure, 31.32 are respectively 11, 13,...
・18, 12',...19' and 12,...19
, 11', 13', .

33は入力拡散層1へ供給されるパルス波形、34は第
3入力ゲート電極4およびリセットゲート電極7へ共通
に接続されるパルス波形であり、35はMOSFET9
を介して素子外部に観測される出力信号波形であり、6
の電位変化と相似である。
33 is a pulse waveform supplied to the input diffusion layer 1, 34 is a pulse waveform commonly connected to the third input gate electrode 4 and reset gate electrode 7, and 35 is a pulse waveform supplied to the MOSFET 9.
This is the output signal waveform observed outside the element via 6
It is similar to the potential change of .

次に、第1図の実施例の動作を第2図のタイムチャート
を用いて説明する。
Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 1 will be explained using the time chart shown in FIG.

前記した如く、第1図の一組の電荷転送路は31.32
の第一相、第二相パルス群により、二相駆動されており
、当該転送路内部の信号電荷は周知の動作に従って順次
右方向、すなわち、浮動拡散層6の存在する側へ転送さ
れる。
As mentioned above, one set of charge transfer paths in FIG.
It is driven in two phases by the first phase and second phase pulse groups, and the signal charges inside the transfer path are sequentially transferred to the right, that is, to the side where the floating diffusion layer 6 is present, according to a well-known operation.

出力ゲート電極5に隣接する二つの転送路の最終電極1
9および19′には、それぞれ異なる相のパルス波形す
なわち、32.31が印加されているので、該電極5へ
の印加電圧が当該パルス波形の尖頭値よりも小さければ
、19,19′から信号電荷が放出される時刻は、それ
ぞれ、32.31の立下り時刻1,,14と一致する。
Final electrode 1 of two transfer paths adjacent to output gate electrode 5
Since pulse waveforms of different phases, that is, 32.31, are applied to electrodes 9 and 19', if the voltage applied to the electrode 5 is smaller than the peak value of the pulse waveform, the voltage from 19, 19' The times at which the signal charges are released coincide with falling times 1, 14 of 32.31, respectively.

従って、19.19’への印加パルスの位相が移相して
いるので、二つの当該転送路からの信号電荷は交互に放
出されることになる。
Therefore, since the phases of the pulses applied to 19 and 19' are shifted, the signal charges from the two transfer paths are alternately released.

また、当該信号電荷の放出は、浮動拡散層領域6に対し
て行なわれるので、当該放出時刻11.14に先行する
時刻to,t3にリセットパルス34により、リセット
ゲート電極7を介して、当該6を8と同電位に充電して
おけば、当該信号電荷の6への放出は、6の充電電荷を
一部放電させる。
Further, since the signal charge is released to the floating diffusion layer region 6, the reset pulse 34 is applied to the floating diffusion layer region 6 via the reset gate electrode 7 at time to, t3 preceding the release time 11.14. If is charged to the same potential as 8, the release of the signal charge to 6 will partially discharge the charged charge of 6.

また、浮動拡散層6はリセットパルスが印加される時刻
t。
Further, the floating diffusion layer 6 is applied with a reset pulse at time t.

,t3以外には外部回路から絶縁されているので、t1
時刻からt3時刻およびt4時刻からt6時刻までは電
位が保持される。
, t3 are insulated from the external circuit, so t1
The potential is held from time t3 to time t4 and from time t4 to t6.

前記放電量は、当該信号電荷と等しいので、6の電位は
出力信号波形35に示すように、転送電荷信号列と等し
くなる。
Since the amount of discharge is equal to the signal charge, the potential of 6 becomes equal to the transfer charge signal train, as shown in the output signal waveform 35.

かかる動作に従って、一組の電荷転送路からの電荷が交
互に出力信号として検出されることになる。
According to this operation, charges from a set of charge transfer paths are alternately detected as an output signal.

次に、該一組の電荷転送路に交互に電荷を注入する手段
について説明する。
Next, a description will be given of means for alternately injecting charges into the set of charge transfer paths.

前述した如く、入力拡散層1には負方向性のパルス33
が供給されている。
As mentioned above, the negative direction pulse 33 is applied to the input diffusion layer 1.
is supplied.

該パルスの尖頭値が負になることは、pn接合を順方向
にバイアスさせるので好ましくない。
It is undesirable for the peak value of the pulse to be negative because it forward biases the pn junction.

該パルスの好ましい波形は、時刻t2,t5以外はパル
ス群31,32の尖頭値の百以上の正電圧であり、時刻
t2,t5に0ボルトに近い正電圧となるような負方向
性パルス波形である。
A preferable waveform of the pulse is a negative direction pulse in which a positive voltage of 100 or more is the peak value of the pulse groups 31 and 32 at times other than times t2 and t5, and a positive voltage close to 0 volts at times t2 and t5. It is a waveform.

第2入力ゲート電極は外部直流電源により直流バイアス
される手段を有している。
The second input gate electrode has means for being DC biased by an external DC power source.

該バイアス値は、パルス群31,32の尖頭値の7の正
電圧値であることが好ましい。
Preferably, the bias value is a positive voltage value of 7, which is the peak value of the pulse groups 31 and 32.

第1入力ゲート電極は、被遅延信号を発する入力信号源
へ接続される手段を有する。
The first input gate electrode has means connected to an input signal source for emitting a delayed signal.

当該被遅延信号電圧の最大値は第2入力ゲート電極の直
流バイアス値で、最小値はOボルトであることが必要で
ある。
The maximum value of the delayed signal voltage needs to be the DC bias value of the second input gate electrode, and the minimum value needs to be O volts.

なお、当該素子を撮像素子として動作させる際にバイア
ス電荷を注入する場合には、該第1入力ゲート電極を直
流バイアスしなければならない。
Note that when bias charges are injected when operating the device as an imaging device, the first input gate electrode must be biased with DC bias.

かかるバイアス値は必要なバイアス電荷量に応じて決定
される。
Such a bias value is determined according to the required amount of bias charge.

時刻t0からt2に到る時間内では、33が正電圧値、
34はOボルトであるので、入力拡散層1は大きく逆バ
イアスされ、一方、第3入力ゲート電極4下の基板表面
には転送電荷に対して大きな電位障壁が形成されている
During the time from time t0 to t2, 33 is a positive voltage value,
Since 34 is O volt, the input diffusion layer 1 is strongly reverse biased, and on the other hand, a large potential barrier is formed on the substrate surface under the third input gate electrode 4 against transferred charges.

次に、時刻t2において、入力拡散層1が弱く逆バイア
スされると、当該拡散層内の電荷(本明細書の場合には
電子)は多量に第1入力ゲート電極下を通過して、第2
入力ゲート電極下に達する。
Next, at time t2, when the input diffusion layer 1 is weakly reverse biased, a large amount of charge (electrons in this case) in the diffusion layer passes under the first input gate electrode and 2
It reaches below the input gate electrode.

かかる場合における電荷量は、第1入力ゲート電極への
印加電圧に依存せず、前記拡散層1の電位に依存する。
The amount of charge in such a case does not depend on the voltage applied to the first input gate electrode, but depends on the potential of the diffusion layer 1.

時刻t2直後において、パルス33の電圧が大きな正電
圧に復帰すると、第2入力ゲ−ト電極下に局在した電荷
の一部は、第1入力ゲート電極下を通過して、領域1へ
戻る。
Immediately after time t2, when the voltage of the pulse 33 returns to a large positive voltage, part of the charge localized under the second input gate electrode passes under the first input gate electrode and returns to region 1. .

しかるに、かかる場合においては、全ての電荷が1へ戻
ることは無く、第1入力ゲート電極下の表面電位と、第
2入力ゲート電極下の表面電位とが互いに等しくなる状
態で、電荷の戻りは停止される。
However, in such a case, all the charges do not return to 1, and the return of charges is in a state where the surface potential under the first input gate electrode and the surface potential under the second input gate electrode are equal to each other. will be stopped.

この結果、第2入力ゲート電極下には、第1入力ゲート
電極への印加電圧に対応した電荷量が取り残される。
As a result, an amount of charge corresponding to the voltage applied to the first input gate electrode is left behind under the second input gate electrode.

なお、当該電荷量は、第1入力ゲート電極への印加電圧
が大きい程少なくなり、該電圧が第2入力ゲート電極へ
の印加電圧よりも大きい場合にはOとなることは明らか
である。
Note that it is clear that the amount of charge decreases as the voltage applied to the first input gate electrode increases, and becomes O when the voltage is higher than the voltage applied to the second input gate electrode.

次に、時刻t3でパルス34が第3入力ゲート電極4に
印加されるので、前記電位障壁は消滅して、当該局在電
荷は第1相パルスの印加されている転送電極11下へ導
かれる。
Next, at time t3, the pulse 34 is applied to the third input gate electrode 4, so the potential barrier disappears and the local charge is guided below the transfer electrode 11 to which the first phase pulse is applied. .

なお、該時刻では、電極11′に印加されている第2相
パルス32は0ボルトであるので、基板表面に電荷を受
容する電位の井戸が形成されず、前記局在電荷が11′
下に流入することはない。
Note that at this time, the second phase pulse 32 applied to the electrode 11' is 0 volts, so no potential well for receiving charges is formed on the substrate surface, and the localized charges are 11'.
There is no flow downward.

時刻t3後には、第3入力ゲート電極下に再び電位障壁
が形成され、11直下からの電荷の逆流を阻止すると同
時に、第2入力ゲート電極3下の領域を電気的に絶縁す
る。
After time t3, a potential barrier is formed again under the third input gate electrode 11, preventing the reverse flow of charges from directly below 11, and at the same time electrically insulating the region under the second input gate electrode 3.

時刻t5で、再び1から3下への電荷の注入が行なわれ
、時刻t6で4下を介して第2相パルス32の印加され
ている転送電極11′下へ電荷注入が行なわれる。
At time t5, charge is again injected from 1 to 3 below, and at time t6, charge is injected via 4 below to transfer electrode 11' to which the second phase pulse 32 is applied.

以上の動作に従がい、入力拡散層1からの電荷は、第3
入力ゲート電極4により、転送電極11および11′へ
交互に注入される。
Following the above operation, the charge from the input diffusion layer 1 is transferred to the third
Input gate electrode 4 injects alternately into transfer electrodes 11 and 11'.

第1図で示されるように、かかる動作を能率よく達成す
るためには、第2入力ゲート電極3、最初の転送電極1
1.11’の面積を、他の転送電極12.13,・・・
12′,13′・・・の面積の二倍にしておくことが好
ましい。
As shown in FIG. 1, in order to efficiently accomplish this operation, the second input gate electrode 3, the first transfer electrode 1
1.11' area as other transfer electrodes 12.13,...
It is preferable to make the area twice the area of 12', 13', . . . .

勿論、11.11’の面積を12.13・・・,12’
,13′・・・の面積と同一にして、1 1 . 1
1’への印加パルスの尖頭値のみを他のパルスの尖頭値
の二倍に設定することも可能ではあるが、パルサーの台
数が増加するので好ましくない。
Of course, the area of 11.11' is 12.13...,12'
, 13'..., 1 1 . 1
Although it is possible to set only the peak value of the pulse applied to 1' to twice the peak value of the other pulses, this is not preferable because the number of pulsers increases.

以上、本発明について一実施例に基づき詳細な説明を行
った。
The present invention has been described in detail based on one embodiment.

本発明に従えば、第3入力ゲート電極とリセットゲート
電極とを一台のパルサーにより同一波形のパルスを供給
することが可能なため、周辺回路が簡単になると同時に
、半導体基板上で当該二電極を配線することによりパッ
ケージのピン数が減少するという大きな利点がある。
According to the present invention, since it is possible to supply pulses of the same waveform to the third input gate electrode and the reset gate electrode by one pulser, the peripheral circuit becomes simple, and at the same time, the two electrodes can be connected to the third input gate electrode and the reset gate electrode on the semiconductor substrate. This has the great advantage of reducing the number of pins on the package.

特に後者の利点は、本発明をサーベンタイン構造電荷結
合素子に適用した場合、右方向電荷転送の列と左方向電
荷転送の列との入出力部が互いに接近するので、容易に
配線が可能となることは明らかである。
Particularly, the latter advantage is that when the present invention is applied to a surventine structure charge-coupled device, the input/output parts of the rightward charge transfer column and the leftward charge transfer column are close to each other, making wiring easier. It is clear that this will happen.

また、第1図の一組の電荷転送列の中間部分に光電変換
素子群を設け、該素子群の偶数番目、奇数番目の素子か
らの光電変換された電荷をそれぞれ上、下の転送列へ送
り込むような固体撮像素子にも本発明は伺ら変更するこ
となく適用されることは明らかである。
In addition, a group of photoelectric conversion elements is provided in the middle of a set of charge transfer columns in FIG. It is clear that the present invention can be applied to a solid-state image pickup device that is transported without any modification.

なお、かかる構造においては、前記光電変換素子から上
下の転送列へ電荷を送り込む際に、31 .32のパル
スを一時停止させることが必要である。
In this structure, when sending charges from the photoelectric conversion element to the upper and lower transfer columns, 31. It is necessary to pause 32 pulses.

かかる停止期間内では、リセットゲート電極および第3
入力ゲート電極への共通なパルスを停止しても良く、連
続して供給しても良い。
During this stop period, the reset gate electrode and the third
The common pulse to the input gate electrode may be stopped or may be continuously supplied.

すなわち、本発明はパルス列の断続に依らない。That is, the present invention does not depend on intermittent pulse trains.

なお、本明細書においては便宜上、一実施例についての
み説明を行ったが、他の構造、例えば三相、四相、疑似
二相、疑似単相駆動の電荷結合素子、複数列の電荷転送
路から構成されるマルチブレツクス構造等にも広く応用
可能なことは明細書の記載より明らかである。
In this specification, for the sake of convenience, only one embodiment has been described; however, other structures such as three-phase, four-phase, pseudo-two-phase, pseudo-single-phase drive charge-coupled devices, and multiple rows of charge transfer paths are also possible. It is clear from the description of the specification that the present invention can be widely applied to a multi-break structure constructed from the above.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を説明するための図面で、1
は入力拡散層、2,3.4はそれぞれ第1、第2、第3
入力ゲート電極、11,12,13・・・18 , 1
9 , 11’, 12’,・・・18’,19’は転
送電極群、5は出力ゲート電極、6は浮動拡散層、7は
リセットゲート電極、8は拡散層、9はMOSFETで
ある。 第2図は第1図の実施例の動作を説明するための各部電
圧波形のタイムチャートである。 同図において、31.32は転送パルス、33は1への
印加パルス、34は4および7への共通な供給パルス、
35は出力信号波形である。
FIG. 1 is a drawing for explaining one embodiment of the present invention.
are the input diffusion layers, 2, 3.4 are the first, second, and third layers, respectively.
Input gate electrodes, 11, 12, 13...18, 1
9, 11', 12', . . . 18', 19' are transfer electrode groups, 5 is an output gate electrode, 6 is a floating diffusion layer, 7 is a reset gate electrode, 8 is a diffusion layer, and 9 is a MOSFET. FIG. 2 is a time chart of voltage waveforms at various parts for explaining the operation of the embodiment shown in FIG. In the figure, 31 and 32 are transfer pulses, 33 is an application pulse to 1, 34 is a common supply pulse to 4 and 7,
35 is an output signal waveform.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 並列に配置された複数の電荷転送列群と、尚該転送
列群の一端に設けられた単一の電荷検出用浮動拡散層と
、リセットゲート電極を介して当該拡散層を一定周期で
充電する手段と、当該拡散層の電位検出手段と、前記転
送列群の他の一端に設けられた単一の電荷注入用拡散層
と、第一入力ゲート電極と、直流バイアス手段を有する
第二入力ゲート電極と、前記転送列群を構成する第一の
転送電極下へ順次に電荷注入を行なわしめる作用をする
第三入力ゲート電極とから構成される電荷結合素子にお
いて、前記リセットゲート電極と前記第三入力ゲート電
極とに共通のパルス列を印加することを特徴とする前記
電荷転送素子の1駆動法。
1 A plurality of charge transfer column groups arranged in parallel, a single charge detection floating diffusion layer provided at one end of the transfer column group, and charging the diffusion layer at a constant cycle via a reset gate electrode. a means for detecting the potential of the diffusion layer, a single charge injection diffusion layer provided at the other end of the transfer column group, a first input gate electrode, and a second input having a DC bias means. In a charge-coupled device comprising a gate electrode and a third input gate electrode that functions to sequentially inject charges under the first transfer electrode constituting the transfer column group, the reset gate electrode and the third input gate electrode 1. A driving method for the charge transfer device, characterized in that a common pulse train is applied to three input gate electrodes.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60119709U (en) * 1984-01-23 1985-08-13 来栖 昭佳 Extremely processed isotropic ferrite magnet
JPS617609A (en) * 1984-06-21 1986-01-14 Nichirei Magnet Kk Multipolar strip form rubber magnet and manufacture thereof
JPS61188314U (en) * 1985-05-16 1986-11-25
JPH037187Y2 (en) * 1984-03-10 1991-02-22

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52110244A (en) * 1976-03-12 1977-09-16 Hitachi Ltd Method and apparatus for welding
JPS5545555A (en) * 1978-09-25 1980-03-31 Hitachi Zosen Corp Welding method of austenitic stainless steel
JPS55126395A (en) * 1979-03-23 1980-09-30 Babcock Hitachi Kk Repair welding method
JPS60187054A (en) * 1984-03-06 1985-09-24 Matsushita Electronics Corp Charge transfer device and driving method thereof
JPH04328836A (en) * 1991-04-26 1992-11-17 Nec Corp Charge transfer device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60119709U (en) * 1984-01-23 1985-08-13 来栖 昭佳 Extremely processed isotropic ferrite magnet
JPH037187Y2 (en) * 1984-03-10 1991-02-22
JPS617609A (en) * 1984-06-21 1986-01-14 Nichirei Magnet Kk Multipolar strip form rubber magnet and manufacture thereof
JPS61188314U (en) * 1985-05-16 1986-11-25

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