JPH01291254A - 周辺露光機と現像機 - Google Patents
周辺露光機と現像機Info
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- JPH01291254A JPH01291254A JP63120470A JP12047088A JPH01291254A JP H01291254 A JPH01291254 A JP H01291254A JP 63120470 A JP63120470 A JP 63120470A JP 12047088 A JP12047088 A JP 12047088A JP H01291254 A JPH01291254 A JP H01291254A
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- Japan
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- photosensitive resin
- light source
- peripheral
- substrate
- glass substrate
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、大形の角形基板に微細パターンを形成する加
工工程に使用される周辺露光機および現像機に関するも
のである6 (従来の技術) 107im以下のパターン精度を有する微細加工技術は
、従来、シリコン系の半導体集積回路を対象とするため
、基板はほとんどが丸形であった。わずかに写真食刻工
程で用いられるホトマスクが角形であるが、シリコン系
の集積回路と比べると圧倒的に製作数量が少なく、製作
工程が短いうえに価格が高いなどの理由により、角形基
板の微細加工に関して量産性や生産性が問われることは
なかった。なお、プリンIへ基板は角形であるが、微細
加工の基準が緩く、また製作工程が短いこともあって、
量産技術が確立している。
工工程に使用される周辺露光機および現像機に関するも
のである6 (従来の技術) 107im以下のパターン精度を有する微細加工技術は
、従来、シリコン系の半導体集積回路を対象とするため
、基板はほとんどが丸形であった。わずかに写真食刻工
程で用いられるホトマスクが角形であるが、シリコン系
の集積回路と比べると圧倒的に製作数量が少なく、製作
工程が短いうえに価格が高いなどの理由により、角形基
板の微細加工に関して量産性や生産性が問われることは
なかった。なお、プリンIへ基板は角形であるが、微細
加工の基準が緩く、また製作工程が短いこともあって、
量産技術が確立している。
近年、液晶材料や薄膜技術の向上につれて、ガラス基板
を用いた液晶パネルでテレビジョン画像の表示が可能と
なり、画素毎にスイッチング素子を内蔵したアクティブ
形では高いコン1−ラス1〜比も保証されるようになっ
た。特に、アクティブ形では解像力が数μmを要求され
る工程が多く、未だ件数は多くないが、15印ないし4
5cm角のガラス基板に従来の集積回路作製工程並みの
量産性が要求されるようになってきた。しかし、対象が
画像表示機能素子のため、線欠陥は言うに及ばず、点欠
陥に関しても要求が厳しく、従って歩留りも低いので、
工業製品として確固たる地位を築いたとは言えない状況
である。冗長な工程設計によってノウハウの蓄積が図ら
れているが、大面積角形基板の量産技術が生産設備も含
めて確立した状況とはなっていない。
を用いた液晶パネルでテレビジョン画像の表示が可能と
なり、画素毎にスイッチング素子を内蔵したアクティブ
形では高いコン1−ラス1〜比も保証されるようになっ
た。特に、アクティブ形では解像力が数μmを要求され
る工程が多く、未だ件数は多くないが、15印ないし4
5cm角のガラス基板に従来の集積回路作製工程並みの
量産性が要求されるようになってきた。しかし、対象が
画像表示機能素子のため、線欠陥は言うに及ばず、点欠
陥に関しても要求が厳しく、従って歩留りも低いので、
工業製品として確固たる地位を築いたとは言えない状況
である。冗長な工程設計によってノウハウの蓄積が図ら
れているが、大面積角形基板の量産技術が生産設備も含
めて確立した状況とはなっていない。
従来の角形基板に微細パターンを形成する工程について
、液晶表示パネルの基板を例として説明する。
、液晶表示パネルの基板を例として説明する。
液晶表示パネルの角形ガラス基板は、厚さが1■でシリ
コン基板の2倍はどあり、その面取りは0.3nwn程
度である。角形ガラス基板の表面には、回転塗布法によ
り感光性樹脂を塗布した後、縮小投影式露光機で露光し
て現像し、微細パターンを形成する。
コン基板の2倍はどあり、その面取りは0.3nwn程
度である。角形ガラス基板の表面には、回転塗布法によ
り感光性樹脂を塗布した後、縮小投影式露光機で露光し
て現像し、微細パターンを形成する。
また、上記の加工工程では、角形ガラス基板は基板収納
用カセットを用いて搬送される。
用カセットを用いて搬送される。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記の構成では、感光性樹脂膜は回転塗
布法で形成されるため、四隅が厚くなり、また、面取り
寸法が0.3W11もあり鋭角でないため、側面や裏側
にまで回り込み、側面および裏面にも形成され、さらに
、縮小投光式露光機を用いマスクパターンを露光するた
め、配線パターンの周辺は露光されないことになる。
布法で形成されるため、四隅が厚くなり、また、面取り
寸法が0.3W11もあり鋭角でないため、側面や裏側
にまで回り込み、側面および裏面にも形成され、さらに
、縮小投光式露光機を用いマスクパターンを露光するた
め、配線パターンの周辺は露光されないことになる。
そのため、ポジ形の感光性樹脂膜では、角形ガ 。
ラス基板の側面および裏面に形成された感光性樹脂膜が
生産機器や基板収納用カセットとの接触で剥離し、ダス
ト源となったり、また、エツチング工程で感光性樹脂膜
の除去性が悪かったり、処理時間が長くなるという問題
があった。また、ネガ形の感光性樹脂膜では露光されな
い周辺部が重合しないため、密着性が悪く、エツチング
工程で剥離して浮遊し、配線パターン部に再付着し、短
絡を発生させるという問題があった。
生産機器や基板収納用カセットとの接触で剥離し、ダス
ト源となったり、また、エツチング工程で感光性樹脂膜
の除去性が悪かったり、処理時間が長くなるという問題
があった。また、ネガ形の感光性樹脂膜では露光されな
い周辺部が重合しないため、密着性が悪く、エツチング
工程で剥離して浮遊し、配線パターン部に再付着し、短
絡を発生させるという問題があった。
本発明は上記の問題を解決するもので、感光性樹脂がポ
ジ形の場合は除去性がよく、ネガ形の場合は密着性がよ
くする周辺露光機を提供するものである。
ジ形の場合は除去性がよく、ネガ形の場合は密着性がよ
くする周辺露光機を提供するものである。
(課題を解決するための手段)
上記の課題を解決するため、本発明は、線光源を用い角
形基板の周辺部を一括して露光するか、あるいは点光源
を用い周辺部に沿って走査するものである。
形基板の周辺部を一括して露光するか、あるいは点光源
を用い周辺部に沿って走査するものである。
(作 用)
上記の構成により、縮小投光式露光機で露光されない周
辺部も十分に露光されるので、ポジ形の感光性樹脂膜の
場合には周辺部の除去性もよく、感光性樹脂膜がそのま
ま剥離することはない。また、ネガ形の感光性樹脂膜の
場合には密着性がよく、剥離することがない。
辺部も十分に露光されるので、ポジ形の感光性樹脂膜の
場合には周辺部の除去性もよく、感光性樹脂膜がそのま
ま剥離することはない。また、ネガ形の感光性樹脂膜の
場合には密着性がよく、剥離することがない。
(実施例)
本発明による実施例2例を第1図および第2図により説
明する。
明する。
第1図は第1の実施例を示す周辺露光機の要部斜視図で
、感光性樹脂を塗布された角形ガラス基板1は、回転自
在の支持台2に載せ、回路パターンの形成部を紫外線に
対して不透明な金属板のような遮蔽板3で用い、上記の
角形ガラス基板1の一辺の近くに設置された紫外線ラン
プを光源とする線状光源4で照射する。なお、上記の遮
蔽板3は、マスクパターンが投射される領域を覆って線
状光源4からの紫外光で露光しないような位置関係と大
きさが必要である。なお、感光性樹脂にネガ形を用いた
場合で周辺の特定領域のみを露光したい場合には、遮蔽
板3にスリン1−を形成しておけばよい。
、感光性樹脂を塗布された角形ガラス基板1は、回転自
在の支持台2に載せ、回路パターンの形成部を紫外線に
対して不透明な金属板のような遮蔽板3で用い、上記の
角形ガラス基板1の一辺の近くに設置された紫外線ラン
プを光源とする線状光源4で照射する。なお、上記の遮
蔽板3は、マスクパターンが投射される領域を覆って線
状光源4からの紫外光で露光しないような位置関係と大
きさが必要である。なお、感光性樹脂にネガ形を用いた
場合で周辺の特定領域のみを露光したい場合には、遮蔽
板3にスリン1−を形成しておけばよい。
第2図は本発明による第2の実施例を示す周辺露光機の
要部斜視図で、第2の実施例が第1図に示した第1の実
施例と異なる点は、線状光源4に替って末端を集光レン
ズと紫外線ランプからなる光源5に接続した石英ファイ
バ6の先端から照射される点光源を用いることで、石英
ファイバ6の先端を角形ガラス基板1の周辺に沿って走
査させることである。
要部斜視図で、第2の実施例が第1図に示した第1の実
施例と異なる点は、線状光源4に替って末端を集光レン
ズと紫外線ランプからなる光源5に接続した石英ファイ
バ6の先端から照射される点光源を用いることで、石英
ファイバ6の先端を角形ガラス基板1の周辺に沿って走
査させることである。
同図において、角形ガラス基板]の一辺に平行に配置さ
れた線状案内7に案内された摺動自在の台車8に石英フ
ァイバ6の先端部が固定され、支持台2で載せられた角
形ガラス基板1の周辺部を順次走査する。なお、必要の
場合には、遮蔽板も設置される。
れた線状案内7に案内された摺動自在の台車8に石英フ
ァイバ6の先端部が固定され、支持台2で載せられた角
形ガラス基板1の周辺部を順次走査する。なお、必要の
場合には、遮蔽板も設置される。
以上の2つの実施例について、生産性を向」ニするため
、線状光源4または石英ファイバ6をそれぞれ2辺また
は4辺に同時に露光できるように、複数個設置し、並列
処理することが可能である。
、線状光源4または石英ファイバ6をそれぞれ2辺また
は4辺に同時に露光できるように、複数個設置し、並列
処理することが可能である。
しかしながら、−船釣には塗布機、露光機、現像機等の
写真食刻工程の生産機器は、タクトタイム1〜2分間隔
の毎葉処理が大部分であるので、支持台2に回転機能を
与えた、−辺ずつの処理で十分である。
写真食刻工程の生産機器は、タクトタイム1〜2分間隔
の毎葉処理が大部分であるので、支持台2に回転機能を
与えた、−辺ずつの処理で十分である。
次しこ、本発明による第3の実施例の現像機について説
明する。本発明による現像機は、基板収納用力セラ1−
から取り出した角形ガラス基板1を現像用カップ内に送
り込む待機位置に周辺露光機を設置する。且つ、上記の
周辺露光機の処理時間を現像時間と等しく、毎葉処理の
タフ1〜タイムを合わせる。
明する。本発明による現像機は、基板収納用力セラ1−
から取り出した角形ガラス基板1を現像用カップ内に送
り込む待機位置に周辺露光機を設置する。且つ、上記の
周辺露光機の処理時間を現像時間と等しく、毎葉処理の
タフ1〜タイムを合わせる。
(発明の効果)
以」二説明したように、本発明によれば、角形基板の周
辺部は、側面部も含めて不要な感光性樹脂の存在しない
角形基板となる。従って、角形基板の処理・移載工程に
おいて発生するダスト源は角形基板材のみとなり、付着
するダストが低減し、歩留りが大幅に向上する。さらに
、基板収納用力セラ1〜や生産機器の清掃やメンテナン
スに有機溶材を使う必要がなくなり、安全性や作業性が
向上する。また、未露光の感光性樹脂膜がなくなるので
、エツチング工程や水洗工程で薬液槽、水洗槽内に浮遊
物が発生せず、従って、乾燥工程で再付着によるパター
ンの短絡がない。従って、製造工程の清浄度が向上し、
歩留りが大幅に向上する。
辺部は、側面部も含めて不要な感光性樹脂の存在しない
角形基板となる。従って、角形基板の処理・移載工程に
おいて発生するダスト源は角形基板材のみとなり、付着
するダストが低減し、歩留りが大幅に向上する。さらに
、基板収納用力セラ1〜や生産機器の清掃やメンテナン
スに有機溶材を使う必要がなくなり、安全性や作業性が
向上する。また、未露光の感光性樹脂膜がなくなるので
、エツチング工程や水洗工程で薬液槽、水洗槽内に浮遊
物が発生せず、従って、乾燥工程で再付着によるパター
ンの短絡がない。従って、製造工程の清浄度が向上し、
歩留りが大幅に向上する。
また、感光性樹脂膜の剥離工程においても、四隅の膜厚
の厚い領域が少ないので、処理時間が短く、生産性がよ
いばかりでなく、基板上の薄膜素子の損傷が皆無となる
。
の厚い領域が少ないので、処理時間が短く、生産性がよ
いばかりでなく、基板上の薄膜素子の損傷が皆無となる
。
第1図および第2図は、共に本発明による周辺露光機の
要部斜視図である。 1・・角形ガラス基板、 2・・支持台、 3・・・
遮蔽板、 4 ・線状光源、 5・・光源、6・・石
英ファイバ、 7・・・線状案内、 8・・・台車。 特許出願人 松下電器産業株式会社 第1図 1 角形力゛ラス羞オ反
要部斜視図である。 1・・角形ガラス基板、 2・・支持台、 3・・・
遮蔽板、 4 ・線状光源、 5・・光源、6・・石
英ファイバ、 7・・・線状案内、 8・・・台車。 特許出願人 松下電器産業株式会社 第1図 1 角形力゛ラス羞オ反
Claims (4)
- (1)感光性樹脂を塗布した角形基板の周辺部に選択的
に紫外線を照射する機能を有する周辺露光機。 - (2)感光性樹脂を塗布した角形基板の表面を選択的に
遮蔽板で覆い、その周辺部に線状光源により一括露光す
ることを特徴とする請求項(1)記載の周辺露光機。 - (3)先端部が感光性樹脂を塗布した角形基板の周辺部
を照射しながら周辺部に沿って自走する光ファイバを有
する請求項(1)記載の周辺露光機。 - (4)基板収納用カセットから取り出された角形基板に
、現像前の待機位置で感光性樹脂を塗布した角形基板の
周辺部に選択的に紫外線を照射する装置と、現像処理す
る装置と、ポストベークのための加熱処理を施す装置と
、上記の両機構の間を角形基板を搬送する搬送装置とか
らなる現像機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63120470A JPH01291254A (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 周辺露光機と現像機 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63120470A JPH01291254A (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 周辺露光機と現像機 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01291254A true JPH01291254A (ja) | 1989-11-22 |
Family
ID=14786968
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63120470A Pending JPH01291254A (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 周辺露光機と現像機 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01291254A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4000980C1 (en) * | 1990-01-16 | 1991-07-25 | Krause Biagosch Gmbh, 4800 Bielefeld, De | Appts. for exposing printing plate - has frusto=conical casing filled with plastics light absorbing balls |
-
1988
- 1988-05-19 JP JP63120470A patent/JPH01291254A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4000980C1 (en) * | 1990-01-16 | 1991-07-25 | Krause Biagosch Gmbh, 4800 Bielefeld, De | Appts. for exposing printing plate - has frusto=conical casing filled with plastics light absorbing balls |
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