JPH01290141A - 光記録原盤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光ビームを用いて情報の記録や再生を行う光カ
ードおよび光ディスク等の光記録媒体の製造に供される
、通常ガラス基板上にフォトレジストが被覆され、適当
な手段により案内溝や情報信号部などが刻設された光記
録原盤の製造方法に関する。

［従来の技術］ 集光ビームにより情報を記録し、また再生する光記録媒
体には、光ビーム照射による発熱によって（１）金属膜
や有機膜等に穴をあける方法、（２）相変化させて屈折
率等の光学定数を変化せしめる方法等種々の方法が提案
されている。

これらの光記録媒体１こは、記録時の光ビームを効率良
く吸収し、尚且つ記録した信号をコントラスト良く再生
する特性が要求される。この条件を満足する光記録・媒
体としては、少なくとも記録膜の片面に微細な凹凸構造
を設けることが有効である。特に、微細な凹凸構造の凹
部と凹部の間または凸部と凸部の間の距ｍ＜以下微細な
凹凸構造の大きさという）を記録、再生に用いる光ビー
ムの大きさ以下に設定すれば、記Ｄ！！の光ビームの吸
収率も大幅に増大させ、かつ、再生時のノイズを低減さ
せることが可能である。なお上記微細な凹凸構造のパタ
ーンは直線状、曲線状、島状等のいずれでも良く、また
配列は周期性であっても非周期性であっても良い。

上述の微細な凹凸構造は例えば以下の方法で形成される
。（１）「レーザ応用技術ハンドブックＪ（レーザ協会
編集）に記載されているようにガラス基板にフォトレジ
ストを塗布し、＾ｒ°レーザ又はＨｅ−Ｃｄレーザ等か
ら出射されるレーザビームをすりガラス等の拡散板に照
射して得られるスペックルパターンの潜像を形成した後
、現像処理を行う方法、（２）平行レーザビームを２方
向から照射する所謂、レーザ干ｆ）ｇ先決によりグレー
ティング状の潜像を形成した後、現像処理を行う方法、
（３）無機物微細粒子を吹きつける方法、（４）化学的
手段によりまたはプラズマ等による物理的手段によって
表面をエツチングする方法等により形成される。

原盤の微細な凹凸構造の形状は、この原盤から製造され
た光記録媒体における表面反射率や吸収率に大きく影響
するので、厳密に制御して形成されなければならない。

特に凹部と凸部の段差（以下深さという）は、案内溝及
び／又は情報信号の深さと相まってトラッキング差動信
号、情報出力信号、記録信号等の特性に大きく影響する
ことから極めて重要となる。

上述の微細な凹凸構造と案内溝及び／又は情報信号部を
刻設した光記録原盤の製造に際し、微細な凹凸構造の潜
像と案内溝及び／又は情報信号部−括して現像を行ｉ″
１ｉｉ４”６６ｍを刻設する方法が一般に行われている
。

［発明が解決しようとする課題］ 上記従来の方法では、微細な凹凸構造の深さを最適化す
べく現像を実施すると、案内溝及び／又は情報信号部の
深さの制御が困難である。この結果、この光記録原盤か
ら製造された光記録媒体のトラッキング差動信号、情報
出力信号、記録信号等の緒特性が不良になる問題点があ
った。

本発明は上記問題点を鑑みてなされたものであって、そ
の目的は、微細な凹凸構造と案内溝及び／又は情報信号
部を表面に刻設した光記録原盤を、制御性良く、又、再
現性良く製造する方法を提供するものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明に係る光記録原盤の製造方法は、（イ）ガラス等
の基板上に設けた感光性材料層に微細な凹凸構造のパタ
ーンを露光し、連続して上記感光性材料を現像すること
により微細な凹凸構造を形成する工程と、（（１）上記
感光性材料層に案内溝および／または情報信号部のパタ
ーンを露光し、連続して上記感光性材料層２ および／または情報信号部を形成する工程、とを含んで
いることを特徴とするので、各工程毎に微細な凹凸構造
の深さと案内溝及び／又は情報信号部の深さを各々独立
に制御できる。

上記（イ）および（（１）の工程はどちらを先に実施し
ても良い。しかし感光性材料層に案内溝及び／又は情報
信号部である凹凸が先に存在すると、微細な凹凸構造を
、たとえばレーザ干渉露光法により形成する場合、案内
溝及び／又は情報信号部とその他の部分で干渉縞のコン
トラストが異なり、微細な凹凸構造の深さが互いに大き
く異なることがある。したがって、本発明に係る光記録
原盤の製造方法においては、微細な凹凸構造の形成工程
（イ）を案内溝及び／又は情報信号部の形成工程（［＋
）よりも先に実施することが好適である。

以下に実施例をもって本発明をより詳細に説明する。

［実施例］ 第１図および第２図はそれぞれこの発明に係る光記録原
盤の１つの実施例を示す断面斜視図および部分断面図で
ある。本発明に係る光記録原盤は第１図に示すように表
面全面に微細な凹凸を有するフォトレジスト等の感光性
材料Ｉｌｌに、案内溝１３及び／又は情報信号部１４が
形成されている。１５は案内溝および情報信号部の形成
されていない部分である。第２図は第１図の光記録原盤
の部分断面図であり、案内溝１３及び情報信号部１４が
刻設されていない部分１５の微細な凹凸構造の深さを２
０、案内溝１３及び／又は情報信号部１４の深さを２１
、案内溝１３又は情報信号部１４が刻設された部分の微
細な凹凸構造の深さを２２で表す。

上記光記録原盤の製造方法の１つの実施例を以下に説明
する。

ガラス基板１０上にポジ型フォトレジスト１１を５００
ｎｍの厚さでスピンコード法により均一に塗布した。フ
ォトレジスト１１の塗布膜厚は、最終的に所望する微細
な凹凸構造の深さ２０と、案内溝及び／又は情報信号部
の深さ２１との合計値に２回の現像によるフォトレジス
トの膜減り量を加えた値以上に設定する。

次にＨｅ−Ｃｄレーザを光源とする波長３２５ｎｍの平
行レーザビームを拡散板を通して該フォトレジスト１１
に照射することにより微細な凹凸構造の潜像を形成した
。その後、現像処理を行い、フォトレジスト１１上に深
さＩｏｎｓの微細な凹凸構造を形成した。該第１回目の
現像深さは、後述の第２回目の現像による更なる膜減り
を考慮して、最終的に所望する深さよりも浅く設定する
。尚、現像の過程は、フォトレジストが感光しない波長
６３３ｎ園のＨｅ−Ｍｅレーザビームを該フォトレジス
トに照射し、その反射光強度をモニターすることにより
監視した。

引き続き、該ガラス基板ＩＯを回転させながら記録ヘッ
ドを半径方向に移動させて、Ｈｅ　−Ｃｄレーザビーム
で案内溝１３及び情報信号部１４の潜像を１．６μ■ピ
ツチのスパイラル状に形成した。該露光に際しては、基
板の内外周域での露光エネルギーか−、定になるように
、レーザパワーを線速に応じて変えた。

該露光後、上述の方法でモニターしながら現像処理を行
い、案内溝１３及び／又は情報信号部１４の深さ２１が
８Ｑｎｍｑ該部位内の微細な凹凸構造の深さ２２が４０
ｎ−１更に、部位１５における微細な凹凸構造の深さ２
０が２０ｎｍである目的の光記録原盤を精度良く得るこ
とができた。

本実施例においては（イ）微細な凹凸構造の形成工程を
（［り案内溝及び／又は情報信号部の形成工程より先に
行ったが、上記（α）を先に（イ）を後に実施してもよ
い。

また上記実施例では感光材料層としてポジ型フォトレジ
ストを用いたが、本発明にはパターニングの可能な任意
の感光性材料を用いることができる。また微細な凹凸構
造のパターンの露光方法としては、先に述べたいずれの
方法であってもよい。

微細な凹凸構造のパターンは直線状、曲線状、島状等の
いずれでもよい。この配列は周期性でも非周期性でもよ
い。案内溝および／または情報信号部のパターンの露光
は、上記実施例に示したレーザビームによる他にマスク
露光性等任意の方法によって行える。案内溝および／ま
たは情報信号部のパターンは曲線状、直線等いずれでも
よい。感光性材料の現像方法は現像液を用いたウェット
現像に限られず、現像液を用いないいわゆるドライ現像
でもよい。

なお本発明に係る光記録原盤は、光カード用、光デイス
ク用など任意の光記録媒体の製造に用いられることは言
うまでもない。

［発明の効果］ 以上説明したようにこの発明によれば、第１回目の露光
及び現像工程と第２回目の露光及び現像工程を有してい
るので、微細な凹凸構造の深さと案内溝及び／又は情報
信号部の深さを独立して制御でき、それぞれの最適値が
ともに精度良く、また再現性良く得られる光記録原盤が
提供できる。

したがってこの光記録原盤から製造された光記録媒体は
高品質である。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係る光記録原盤の製造方法により製
造される光記録原盤の一例を部分的に示す断面斜視図、
第２図は上記光記録原盤の一例を示す部分断面図である
。 １Ｏ二基　　板、　　　！ｌ：感光材料層、１３：案内
溝、　　　１４；情報信号部。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）表面に微細な凹凸構造を有し、かつ、案内溝およ
   び／または情報信号部を有する光記録原盤の製造方法に
   おいて、 （イ）基板上に設けた感光性材料層に微細な凹凸構造の
   パターンを露光し、連続して上記感光性材料を現像する
   ことにより微細な凹凸構造を形成する工程と、 （ロ）上記感光性材料層に案内溝および／または情報信
   号部のパターンを露光し、連続して上記感光性材料を現
   像することにより案内溝および／または情報信号部を形
   成する工程、とを含んでいることを特徴とする光記録原
   盤の製造方法。
2. （２）上記（イ）の工程の後に、上記（ロ）の工程を行
   うことを特徴とする請求項１記載の光記録原盤の製造方
   法。