JPH01289655A - 遠心式プロセス機械 - Google Patents

遠心式プロセス機械

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Publication number
JPH01289655A
JPH01289655A JP1019370A JP1937089A JPH01289655A JP H01289655 A JPH01289655 A JP H01289655A JP 1019370 A JP1019370 A JP 1019370A JP 1937089 A JP1937089 A JP 1937089A JP H01289655 A JPH01289655 A JP H01289655A
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JP
Japan
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container
gap
casing
process machine
centrifugal process
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Pending
Application number
JP1019370A
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English (en)
Inventor
Friedhold Ditscherlein
フリードホルド ディットスケルライン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Max Spaleck GmbH and Co KG
Original Assignee
Max Spaleck GmbH and Co KG
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Publication date
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Application filed by Max Spaleck GmbH and Co KG filed Critical Max Spaleck GmbH and Co KG
Publication of JPH01289655A publication Critical patent/JPH01289655A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B31/00Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/10Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving other means for tumbling of work
    • B24B31/108Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving other means for tumbling of work involving a sectioned bowl, one part of which, e.g. its wall, is stationary and the other part of which is moved, e.g. rotated

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、例えばワークピースの研磨、艶出しクリーニ
ング並びにバリ取りのような機械的!I!l即を施すた
めの遠心式ブ1コレス機械であって、ワークピース及び
処理剤を収容する働きをなす容器を備えており、該容器
は実質的に円ぬ形のゲージングと、ぞのケーシングとF
111軸的に取り付けられたプレートのような形態の回
転ボトムとを有して構成されていて、該ボトムの周縁が
円筒形ケーシングへ向かつて突出されて狭い間隙を形成
するようになされている、遠心式ブOI?ス機械に関す
る。
この容器ケーシング及び回転ボトムは共通の支持S!f
fの−F1或いは別々の支持装ごのトに取り付けられる
。本発明に係わる機械の場合には、容器の全周回りに於
るffJ隙幅を:gl整する目的のためにケーシングは
ボトムに対して昇降されるようになされているのである
従来の技術 回転ボトムに対してRM ’rきるようになされた容器
ケーシングを有する機械は既に知られている(EP−8
1−0171527)。これに於ては、間隙幅は所望の
1法となるように調整及び再調整できるようになされて
いる。再調整は、間隙を形成している壁面に於る摩耗や
、fli!’!ケーシング及び回転ボトムを形成してい
る材料の膨らみや熱膨張の結果として間隙幅が変化する
ならば、機械が運転されている間に行えることが強く望
まれるばかりか、更に一層必要とされるのCある。
例えばこの間隙は、機械が始りjされ、その運転中にワ
ークピースのための容器がrJl磨を摩擦によって掌編
から80℃以上の温度に迄加熱されると、それらが作ら
れている0利の特性によっては、容器ケーシング及び特
に容器ボトムの熱膨張によって1m1以上も減少されて
しまうのである。間隙を形成している壁面に於るIf?
滅もかなりのmであり、これはワークピースのための容
器内に使用される研磨剤によって、又、該間隙を通して
流れる処理流体によって、連続的に除去されて生じるの
である。
RIll Oと1苅 しかしながら、特に小さな寸法のワークピースを処理す
る際は、一方ではワークピースがその間隙内に入り込ん
でワークピース並びに間隙を形成する壁面をに′1勾す
るのを防止し、他方ではその間隙を通して過大量の流体
及び研磨剤が流出するのを防止するために、特定の間隙
幅が非常に@散とされるのである。
1達した取知の機械に於ては、容器ケーシングを昇降さ
Iるように支持装置上に該’fV器ケーシングを支持し
ている調整スクリューを備えることによって、この間隙
の調整が行われてきた。しかしながら、このような手動
による:A整は、l# l!12幅の変化に応じて極め
て正確に行われた場合にのみ、正確で長期にわたり保持
できる間隙幅を確保することができるのである。このこ
とは、間隙幅及びその変化、並びに調整頻度並びに調整
精度の記録を常にI12察することを必要とするのであ
る。
それ故に本発明の目的は、INN輻幅手動調整1段を備
えたこれ迄知られてきた機械に生じた問題を排除するこ
と、即ち、絶えずチエツクする必Vをなくして一定した
間隙を確保できる機械を設i1すること、である。
X1題を解決するための手段および作用本発明によれば
、この目的はボトムに対する容器ケーシングの昇降が与
えられた間隙幅、III 15変化する間隙幅、の関数
として自動的に行われることで達成されるのである。こ
のために、機械的、流体圧作動式、空気圧作動式、或い
は電気的に伯!IJ flる間隙測定装置が備えられ、
この1〜隙測定装置がケーシングを昇降させるための手
段と連結されるのである。この手段は、装置の測定結果
によって、間隙幅が特定の値となるように、月つ又その
蛤に保持されるように、υJiltされるのである。
この種の装置は機械の処理運転全体にわたって−・定の
間隙幅を維持することができるようになす。
このことは、0.5層以下の比較的解いワークピースの
処理可能となし、1つ又、それらのワークピースが間隙
内に進入しくそこに止まって、これにより間隙を形成り
る容器ケーシング又は回転ボ1−ムの壁IAIを破壊し
或いは11 (lすることを防止するのである。
本発明による機械に備えられた上述した測定装置は、流
体圧或いは空気圧のピトーヘッドを含み、このピトーヘ
ッドは間隙に流体又は気体の媒体を供給するためのライ
ンに介装される。又、このピトーヘッドは、そのライン
に於る動11−を測定するのであり、この動圧は1題隙
幅によつ【変化するのである。動1丁の測定は)fカピ
ンサー、例えば誘導式或いは圧電抵抗式の11カドラン
スデユーサによって行われるのであり、このような圧力
]・シンスデューサは市販されている〈例えば、西独国
フルダ、エル−カー・ニーヒバイム◆ゲーエムベーハー
・ラン!・・カンパニーにより製造されている[1−モ
ーJ  LH)MO)(商標名))。これにより測定さ
Kて圧力、もしくは測定された圧力変化は電気的信号に
変換され、装WlのW降をυ制御づるようになされるの
である。更に他の可能な測定装置は、如何に説明される
容器ケーシングを自動的にラフ降させるための装置は、
1つ又はそれ以りの数の弾性的な圧縮性の空気圧或いは
流体ル作彷のパッドを含lυで右利に構成される。これ
らのパッドは、ケーシングの周囲に配置され、回転ボト
ムに夕・1して一定の^さイひ置に配置された支持装埴
土に支持されるのrあ゛つて、この支持装置は容器ケー
シングを支持している。この1つ或いは複数のパッドは
チューブとされるか、或いはチューブの断片とされてg
8鼎の周縁に沿って支持装置と容器ケーシングとの間に
配置される。しかしながら、これらのパッドは複数のべ
[1−ズ、即ちいわゆる空気ばねとされたり、或いは空
気圧作動或いは流体圧作動のリフトシリンダーとされる
ことができる。リフトシリンダーに充填される空気圧或
いは流体圧は間隙幅を測定する装置によって制御される
のである。垂直り向に作動するねじ付スピンドルもこの
目的に使用できる。このスピンドルは測定装置に連結さ
れ口部装置によつI制御されるモーターによって駆動さ
れるのである。
本発明による遠心式プロセス機械の特に右利な実施例が
以J・に添イ・1図面に関連しC非帛′に詳細に説明さ
れる。
訂用−落遭1 図示した全ての実施例に於て、このブOt?ス容器即ら
処理容器は−F部円筒形クりシング1及びこのケーシン
グど共に同軸的に取りイ・h)られているF部の回転す
るプレート状ボトム2により構成されており、ボI・ム
2の周れはケーシング1の上部端縁に向かって間隙3を
形成するように突出しでいる。プレートこのプレート状
ボ1−ムの下側には集合容器4が配置され、処理流体が
間隙3を通して流入ケるようになされている。この容器
を通してプレート状ボトムの駆動シャフト5が挿通され
ていて、このシ1フフトは集合容器4の下方に配置され
ている七−タ−6によって駆動されるように<1されて
いる。
下側の集合容34は容器ケーシング1の支持装置ともな
っている。このために、第1図〜第3図による実施例に
於ては、平面図で円形であるこの集合容器はぞの上側端
縁にフランジ7を1111侍している。この7ランジ7
は端縁の全周回りにて半径方向へ延在しており、又、円
周方向に沿う四部をhしていて、このII!1部内に環
状の流体ハ[或いは空気圧による弾性的な11力ヂコー
グ8が取りfNlけられている。この圧力ブーニー18
は、横断面に於C実質的に半径方向へ11.縮されるよ
うに41されている。この圧力チューブは流体f11或
いは空気圧の作動媒体を流入出さぼるためのライン5〕
を備えで゛いる。I−Eカチューブはこの媒体を充満さ
れて1f縮されるのである。ケーシング1の下側端縁に
配置され(いる半径方向フランジ10μ圧力チユーブ8
の十に支持されており、又、下側容器4の7ランジ7と
同様に圧力チューブを受は入れるための四部を形成され
ている。
容4ケーシング1の「1まfユーブ8に荷重として伝え
られる。この他中は、ブ]−ブを几縮して第3図に示す
円形横断面の形状から同図に示す−高さを低くされた偏
平の横断面の形状へと変形させるように働くのである。
この圧縮は、チューブ内に供給されている流体1或(月
ま空気I〔の作!II媒体による圧力に応じて抑制され
、i++ 罪される。このことが容器形状1の上界又は
−ト降を可能ならしめるのであり、これによつC間隙3
の幅を空化させるようになケのである。この間隙3は、
この図示実施例に於ては、容器の軸線に対して45°の
角度で延在されている1、容器の軸線に対するその他の
角度す使用0J能である。しかし、圧力チューブ8とさ
れたlFl’Fl!冒によって与えられる容器ケーシン
グの高さの変化は、間隙と容器軸線との間の角度が減少
するに伴って小さくなる。
間隙3の内側に於る回転ボトム2の端縁及び容器ケーシ
ング1の端縁の磨滅を最低限にすることに関しては、容
器軸線Xに対ηる間隙3の角度を選定して鋭い端縁が生
じないように保Mすることが望ましいのである。
圧)Jチューブ8に関しては、容器の全周回りに延在さ
れるだけでなく、全周の大部分に沿つ−(−延在される
ようになされることもできる。容器の円周方向の一部に
沿って複数のチューブ部分を協えることも可能−〇あり
、これらのチューブ部分の各科はライン9を経てそれら
の部分に対してJ1力を供給する圧力源に接続されるの
である。このような場合には、集合容器4及び処理容器
のケーシング1のフランジ7.10の間はシールされね
ばならない。回転ボトム2に対して容器ケーシング1を
中央に位置保持するために、ガイドポルi〜11が容器
ケーシング1の円1.+II7’i向に沿って均等に配
置されている。これらのボルド容器軸線Xと平行して延
在され、支持Hv′!4の7ランジ7に対して螺合され
る。これらのボルトは容器形状1のフランジ1oに形成
されている穴に挿通さ−れており、容器ケーシングがボ
ルトに沿って1iVvfできるようになさ゛れている。
ポル1〜の端部にはフランジ10より上方にて圧縮ばね
12を担持している。これらの圧縮ばね12は、一端が
ボルトヘッド13に支持され、又、(ljl端はフラン
ジ10の土面に支持されている。容器ケーシング1はこ
のようにして、支持装置4へ向かって押圧され、又、ブ
ユーブ8はj1縮されているのである。
この実施例に於て容2:ケーシングをy?降させるよう
に作用りる測定S4置は、圧力i・ランスデューサ14
を含んで構成されている。このj1カトランスデューリ
14は流体圧或いは空気j1の供給うイン15に介装さ
れている。この供給ライン15はり一−シング1の五側
端縁に於て間隙3内に聞[1している。、流体或いは気
体の媒体がこのラインを通して間隙内に専かれるのであ
り、これはその媒体が間隙3を形成するボトム2の端縁
に対してはば直角に突き当たるように導かれるのである
。間隙からの媒体の流出量は間隙の幅寸法に依存してい
る。このようにして、定常流れにより供給ライン15に
生じる動圧は間隙3が拡がるに連れて減少し、間隙が狭
まるに連れて増大する。動Ifのこの変化は圧カドラン
スデューサによって測定され、電気信号に変換される。
この電気イへ号は電気的リード線18を介して図示され
ていない電気的制御装置へ送られる。例えば、図示され
ていないが媒体供給源からチューブ8へ通じているライ
ン9に介装された圧力II、I+御パルプによって、こ
の制御バルブはチューブ8内の奴体IE力を調整する。
これにより、ライン15に介装された間隙の幅j沫を指
示する圧カドランスデユーIL14によって、動圧給が
合本ケーシング1の自動的な胃時のために使用できるか
どうかを決定されることが可能とされるのであり、又、
これにより間隙3の幅の自A)調整に使用できるかどう
かを決定されることが可藺とされるのである。
この実施例に装備され、’6器の全周回りに冶って延在
された汁カチューブ8は容器ケーシング1を昇降させる
ためだけに使用されるわけではない。
同時に、容器ケーシングと、これを指示している集合ケ
ーシング4との間に満足できるシールを形成するのであ
る。この結果として、間隙3を通して処理容器から流出
する処理流体の全てが容器4内に集合されることになる
処理容器のケーシング1及びプレート状ボトム2、これ
らの両名の間に存在する間隙3、容器のための支持Vt
置として作用する集合容器4、ボトム2の取り付は及び
駆動f段、そして容器ケーシングのガイド手段の形状及
び配置を考yBすれば、第4図及び第5図に示した実施
例は第1図〜第33図による実施例と相違する、即ら実
質的に異4する、ことはない。だれ故に、図面にて同じ
部分は同じ符号で示している。しかしながらこの実施例
に於ては、処理容器の形状1を昇降させるための装置は
円周方向の圧カチ」−ブではなく、複数の汗カベローズ
19とされている。これらのベローズ19は容器の円周
回りに分散配置され、又、第1図〜第3図の実施例に於
る圧力チューブ8と同様に渡体圧或いは空気Ji:の圧
力媒体のための供給ライン20に接続されている。異な
る形状の圧力パッドをこの圧力へローズに代えて使用す
ることらI′II能である。この場合、間隙の幅は温度
測定装置21によって保証されるのである。この温度測
定賃1ffi21は温度センナ−22を含んで構成され
、この温度センサー22は集合容器4内に突出されて該
容器内の流体の温度を測定するのに使用される。
この−度測定装置i¥21によって決定されたlaは、
圧力ベローズ19或いは■−力パッドに於る空気f1或
いは流体圧を制御するために使用されている装置へ、信
号ライン23を介して送られるのである。
それ故に、この実施例に於ては、間隙の幅は直接に測定
されるわけではなく、そのIN隙3を通して集合容器4
内へ流入する流体−度によって間接的に測定されるので
ある。この温度に応じて、す1理容器の一部が熱膨張を
生じて、この温度膨張が間隙の幅に影響を及ぼすのであ
る。
再び述べるが、この第6図による実施例に於ては、ケー
シング1及びボトム2を有する処理容器、ケーシング1
の支持装置をなす集合容器4、ボトム2の駆動装置、そ
して処理ケーシング1の昇降移動のガイド手段は、第1
図〜第3図の実施例に於るのと同じ設8[であり、同じ
符号を付されている。この実施例に於ては、胃降させる
装置は空気圧或いは流体圧作動によるリフトシリンダー
24とされている。このリフトシリンダー24は、集合
容+lA4のフランジ7の周囲に均等に分散配行されて
おり、又、処理容器のケーシング1に於るフランジ10
へ向かつ−C1方へ突出するピストン25を含んでいる
。このピストンの端面上にケーシング1がフランジ10
を叔t!′で支持されている。
これらのシリンダーは空気圧或いは流体L「ライン26
を通して圧力源へ接続されており、この圧力源は上述の
リフトシリンダーに対する圧力媒体の供給をtIII 
Ill bでいる。この、ljl 111はこの実施例
では間隙内へ向かって移動可能とされた機械的ヒンサー
27の測定装置によって行われている。このセンサーは
間隙3の幅方向へ移動可能とされて、該間隙を形成して
いるF[ltl端縁の、ケーシング1内に挿入されたハ
ウジング内に、取り付けられている。又、このセンサー
は必要な時間にわたりボトム2の端縁上に当接する迄ヘ
ッドに力を作用させて押し込めることかできるようにな
っている。このセンサー27の押し込め位nが指示スキ
ャナー28によって測定されて測定詩語仕掛け29上に
表示される。測定の結果は、リフi・シリンダー24に
対して圧力媒体を(It給する供給源のv制御5A胃へ
と信号ライン30を介して送られる。
このプロセス機械が作動されているならば、センサー2
7は回転ボトム2の平面上に定常的に支持されることは
なく、大きな磨滅は回避される。
自動制御により、ごのしンサーは機械が運転されている
闇にrawでさる設定時間間隔にて前進即ち押し込めら
れるのである。そして、回転ボトム2の平面に対して短
時間だ番〕当付けられた後、間隙の幅寸法が測定される
や否や速やかに初期位置へと戻されて、該平面に対する
支持が解除されるようになされるのである。
再び述べるがこの実施例に於ては、処理容器のケーシン
グ1とその下側の東合容ta4との間の適当なシールを
確実なものとするために、弾性的なシールリング31が
7ランジ7と10との間に介装されているのである。
又、実質的に垂直方向作動されると共に、処理容器に於
るケーシング1のための支持装置の上、例えば図示実施
例では集合¥V器4のフランジ7の上、に取り付けられ
るのが好ましく、これによりケーシング1を支持するね
じ付スピンドルの上昇及び測定装置としで使用されるこ
とがpT能であり、このねじ付スピンドルは測定装置に
連結されてこれにより制御される−し一ターで駆動され
るようになされるのである。
この測定装置を容器ケーシング1の下側端柱の外側に配
置し、間隙3の外側にて回転ボトム2の端縁のこの方向
に於る膨張によって作1I11jるようになすことも可
能である。
本発明によるIFIR装aが例えば第15tJ〜第5肉
に示した設J【のように空気圧或いは流体圧による作動
方式のものであるならば、空気圧或し箇、&流体圧の供
給ラインに手操作されるエレメントを備えて、この装置
に於る昇圧及び降圧の調整を測定装置によって与えられ
た結果とは別にそれぞれ調整するようになし、これによ
り処理容器のケーシング1が該測定装ぎにより与えられ
た結果と関係4にく4降できるようになされることが々
fましいのである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、ワークピース−容器及びその支持駆@lJ装
置を通る軸線に沿う断面にて第1の実施例を示す断面図
。 第2図は、間隙の幅を測定するために−F記実施例に備
えられている装置を通る拡大したスケールの!!断面図
。 第3図は、容器−ケーシングをy1降させるために上記
実施例に備えられている流体lモ作動或いは空気圧作動
のチューブの、異なる2つの位置に於る状態を示1j横
断而図。 第4図は、本発明による機械の第2の実施例の、第1図
と同様な断面図。 第5図は、この第2の実施例の昇降装置のベローズを通
る横断面図。 第6図は、本発明による礪械の第3の実施例の、第1図
と同様な断面図。 第7図は、拡大したスケールで横断面にて第6図のHf
細をポリ断面図。 1・・・処1141容器のケーシング、2・・・処理容
器の回転ボトム、3・・・間隙、4・・・集合容器、5
・・・駆動シャフト、6・・・し−ター、7,10・・
・フランジ、8・・・jfカチューブ、9・・・作動媒
体の供給ライン、11・・・ポルh、12・・・圧縮ば
ね、13・・・ボルトヘッド、14・・・圧力トランス
デユー9.15・・・流体11或いは空気圧の供給ライ
ン、18・・・電気的リード線、19・・・バカベロー
ズ、20・・・圧力供給ライン、21・・・温度測定装
置、23・・・信号ライン、24・・・リフトシリンダ
ー、25・・・ピストン、26・・・圧力供給ライン、
27・・・機械的廿ン鹸ナー、28・・・誘導スキャナ
ー、29・・・114計イ]掛け、30・・・信号ライ
ン。

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ワークピース及び処理剤を収容するための容器を
    含み、該容器は実質的に円筒形のケーシング及びこのケ
    ーシングと同軸的に取り付けられているプレートのよう
    な形状の回転ボトムを含んで構成されていて、前記ボト
    ムの周縁はその円筒形ケーシングへ向けて突出されて狭
    い間隙を形成するようにされており、容器の全周回りの
    間隙幅を与えられた或いは変化する間隙幅の関数として
    自動的に調整する目的のために前記ケーシングがボトム
    に対して昇降するようになされている、例えばワークピ
    ースの研磨、艶出しクリーニング及びバリ取りのような
    機械加工プロセスを施す遠心式プロセス機械であつて、
    間隙幅を測定するために機械的、流体圧式、空気圧式、
    或いは電気的に作動する測定装置が備えられ、該測定装
    置はケーシングを自動的に昇降させるための手段に連結
    され、該手段は測定装置の測定結果によつて制御され、
    特定の値となるように且つ又その値に保持されるように
    調整されるようになつていることを特徴とする遠心式プ
    ロセス機械。
  2. (2)測定装置が流体圧作動或いは空気圧作動のピトー
    ヘッドであり、該ピトーヘッドが間隙を形成する2つの
    壁面の中の1方へ向けて備えられた流体圧或いは空気圧
    の供給ラインに介装され、間隙内又はその近くにて間隙
    の他方の壁面に対してほぼ直角になされていることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項に記載の遠心式プロセス
    機械。
  3. (3)流体圧又は空気圧の供給ラインが間隙を形成する
    容器ケーシングの下側端縁に備えられていることを特徴
    とする特許請求の範囲第2項に記載の遠心式プロセス機
    械。
  4. (4)ピトーヘッドが測定結果を電気的にリリースする
    圧力トランスデューサを含んでいることを特徴とする特
    許請求の範囲第2項に記載の遠心式プロセス機械。
  5. (5)測定装置が少なくとも1つの機械的センサーを含
    み、このセンサーは間隙を形成する下側端縁もしくはそ
    の近くに変位可能に取り付けられて、対向するボトムの
    周縁に対して突き当たるように前進させることができる
    ようになつていることを特徴とする特許請求の範囲第2
    項に記載の遠心式プロセス機械。
  6. (6)測定装置が温度測定装置であり、この温度測定装
    置は容器ケーシングを昇降させるための駆動装置に接続
    されていると共に、ボトム又は容器ケーシングの下側に
    位置された集合チャンバー内に配置されて該チャンバー
    内或いは前記容器内の流体温度を測定する温度センサー
    を含んでいることを特徴とする特許請求の範囲第1項に
    記載の遠心式プロセス機械。
  7. (7)容器ケーシングを自動的に昇降させる装置が1つ
    又はそれ以上の数の弾性的な圧縮性の空気圧又は流体圧
    で作動されるパッドで構成され、これらのパッドはボト
    ムに対して一定の高さ位置にて容器の周縁に固定され且
    つケーシングを担持している支持装置上に支持されてい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の遠心
    式プロセス機械。
  8. (8)前記パッドが弾性的な環状の円周方向チューブ又
    は複数のチューブ部分であり、支持装置と容器ケーシン
    グとの間に配置されていることを特徴とする特許請求の
    範囲第7項に記載の遠心式プロセス機械。
  9. (9)前記チューブ又はチューブ部分の内径が15mm
    から30mmの間であることを特徴とする特許請求の範
    囲第8項に記載の遠心式プロセス機械。
  10. (10)前記パッドが1つ又はそれ以上の数の空気圧又
    は流体圧のばね又はベローズであることを特徴とする特
    許請求の範囲第7項に記載の遠心式プロセス機械。
  11. (11)容器ケーシングを自動的に昇降させるための装
    置が容器の周縁に沿つて分散配置されているピストンシ
    リンダーユニットで構成されていることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項に記載の遠心式プロセス機械。
  12. (12)容器ケーシングを自動的に昇降させるための装
    置がねじ付スピンドルで構成され、これらのねじ付スピ
    ンドルが容器の周縁回りに分散配置され、実質的に垂直
    方向に作動すると共に、モーター駆動されていることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の遠心式プロセ
    ス機械。
  13. (13)空気圧又は流体圧の昇降装置の供給ラインに手
    動操作制御されるエレメントが備えられ、測定装置によ
    る測定結果に無関係に昇降圧力を単独に調整可能となし
    ている特許請求の範囲第5項から第10項迄のいずれか
    一項に記載の遠心式プロセス機械。
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