JPH0128510Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0128510Y2 JPH0128510Y2 JP4907981U JP4907981U JPH0128510Y2 JP H0128510 Y2 JPH0128510 Y2 JP H0128510Y2 JP 4907981 U JP4907981 U JP 4907981U JP 4907981 U JP4907981 U JP 4907981U JP H0128510 Y2 JPH0128510 Y2 JP H0128510Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- liquid
- circulation
- storage tank
- circulation pump
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D13/00—Processing apparatus or accessories therefor, not covered by groups G11B3/00 - G11B11/00
- G03D13/006—Temperature control of the developer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/02—Details of liquid circulation
- G03D3/06—Liquid supply; Liquid circulation outside tanks
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、感光材料の処理装置やその他の処理
装置に関する。
装置に関する。
一般に、感光材料処理装置においては、非処理
時であつても貯液槽より処理槽に処理液を移送循
環しながら温度調節を行つていたが、最近は処理
液の空気酸化および電力消費量の節約等の考慮か
ら、感光材料の処理時以外は温度調節専用循環の
みを行う構成が多く採用されている。このような
構成の一つとして、循環系に電磁弁を設け、処理
時以外は電磁弁の切り替えによつて温度調節の循
環を行い、感光材料が入ると、電磁弁でもつて処
理槽への処理液移送循環に切り替えるものがある
が、この構成では、吐出容量の大きい循環ポンプ
を常に駆動することになり、節電という目的を十
分には達成できず、また、ポンプ容量が大きいた
め電磁弁のオリフイスも大きなものが要求され、
しかも電磁弁として３方弁１個または２方弁２個
が必要であるという問題がある。また、他の構成
として、温度調節専用の循環ポンプと処理槽への
処理液移送循環専用の循環ポンプの２台を設ける
ものがあるが、この構成では節電という目的は達
成できるが、この構成を処理液の供給、回収を容
易にしたいわゆるカートリツジ方式の貯液槽を備
える処理装置に採用すると、配管が複雑になり貯
液槽への挿入部の外径が大きくなるため、市販の
ポリエチレン容器等をカートリツジタンク（貯液
槽）として使用できないという問題がある。
時であつても貯液槽より処理槽に処理液を移送循
環しながら温度調節を行つていたが、最近は処理
液の空気酸化および電力消費量の節約等の考慮か
ら、感光材料の処理時以外は温度調節専用循環の
みを行う構成が多く採用されている。このような
構成の一つとして、循環系に電磁弁を設け、処理
時以外は電磁弁の切り替えによつて温度調節の循
環を行い、感光材料が入ると、電磁弁でもつて処
理槽への処理液移送循環に切り替えるものがある
が、この構成では、吐出容量の大きい循環ポンプ
を常に駆動することになり、節電という目的を十
分には達成できず、また、ポンプ容量が大きいた
め電磁弁のオリフイスも大きなものが要求され、
しかも電磁弁として３方弁１個または２方弁２個
が必要であるという問題がある。また、他の構成
として、温度調節専用の循環ポンプと処理槽への
処理液移送循環専用の循環ポンプの２台を設ける
ものがあるが、この構成では節電という目的は達
成できるが、この構成を処理液の供給、回収を容
易にしたいわゆるカートリツジ方式の貯液槽を備
える処理装置に採用すると、配管が複雑になり貯
液槽への挿入部の外径が大きくなるため、市販の
ポリエチレン容器等をカートリツジタンク（貯液
槽）として使用できないという問題がある。
本考案は上記の点に鑑みてなされたもので、そ
の目的は、配管が簡易で節電が可能な、しかも電
磁弁等を用いない処理装置を提供することにあ
る。
の目的は、配管が簡易で節電が可能な、しかも電
磁弁等を用いない処理装置を提供することにあ
る。
この目的を達成する本考案の構成は、貯液槽内
の処理液を第１の循環ポンプで熱交換器に送りそ
の温度調整を行う温調循環流路と、処理時に、第
１の循環ポンプより吐出容量が大きい第２の循環
ポンプで処理液を処理槽に供給しこの処理槽内の
残液を貯液槽に戻す処理液移送循環流路とを具備
し、処理液移送循環流路の往路側管路の一部と温
調循環流路の復路側管路の一部とを同一管路で構
成したことを特徴とするものである。
の処理液を第１の循環ポンプで熱交換器に送りそ
の温度調整を行う温調循環流路と、処理時に、第
１の循環ポンプより吐出容量が大きい第２の循環
ポンプで処理液を処理槽に供給しこの処理槽内の
残液を貯液槽に戻す処理液移送循環流路とを具備
し、処理液移送循環流路の往路側管路の一部と温
調循環流路の復路側管路の一部とを同一管路で構
成したことを特徴とするものである。
以下、本考案を詳細に説明する。
第１図は本考案に係る処理装置の一実施例を示
す断面図、第２図は非処理時の温度調節循環を示
す作動説明図、第３図は処理時での処理液の移送
循環を示す作動説明図である。第１図乃至第３図
において、１は処理槽で、その下方にはカートリ
ツジ方式の貯液槽２が配置され、また処理槽１の
下部は排液パイプ３により貯液槽２内に連通して
いる。４は第１の循環ポンプで、往路側管路５に
よつて処理液６を熱交換器７に送り、復路側管路
８によつて貯液槽２内に戻すものである。９は第
２の循環ポンプで、第１の循環ポンプ４より吐出
容量が大きいもの（例えば２倍以上のもの）であ
る。１０はフイルター、１１は吹き出しノズル
で、この吹き出しノズル１１、フイルター１０、
第２の循環ポンプ９および貯液槽２は、往路側管
路１２によつて連結されている。また、往路側管
路１２の貯液槽２側部分（第１図の分岐点Ａより
右方向の部分）と往路側管路８の貯液槽２側部分
（同じく第１図の分岐点Ａより右方の部分）とは、
一体にすなわち同一管路で構成されている。１３
は被処理材を送るローラ、１４は処理槽１等を支
持するフレームである。貯液槽２内の処理液６の
温度調節を行う温調循環回路は、第１の循環ポン
プ４、往路側管路５、熱交換器７および復路側管
路８によつて構成され、処理液を処理槽に供給し
その残液を貯液槽２に戻す処理液移送循環回路
は、第２の循環ポンプ９、フイルター１０、吹き
出しノズル１１、往路管側管路１２および排液パ
イプ３（往路側管路に相当）によつて構成され
る。
す断面図、第２図は非処理時の温度調節循環を示
す作動説明図、第３図は処理時での処理液の移送
循環を示す作動説明図である。第１図乃至第３図
において、１は処理槽で、その下方にはカートリ
ツジ方式の貯液槽２が配置され、また処理槽１の
下部は排液パイプ３により貯液槽２内に連通して
いる。４は第１の循環ポンプで、往路側管路５に
よつて処理液６を熱交換器７に送り、復路側管路
８によつて貯液槽２内に戻すものである。９は第
２の循環ポンプで、第１の循環ポンプ４より吐出
容量が大きいもの（例えば２倍以上のもの）であ
る。１０はフイルター、１１は吹き出しノズル
で、この吹き出しノズル１１、フイルター１０、
第２の循環ポンプ９および貯液槽２は、往路側管
路１２によつて連結されている。また、往路側管
路１２の貯液槽２側部分（第１図の分岐点Ａより
右方向の部分）と往路側管路８の貯液槽２側部分
（同じく第１図の分岐点Ａより右方の部分）とは、
一体にすなわち同一管路で構成されている。１３
は被処理材を送るローラ、１４は処理槽１等を支
持するフレームである。貯液槽２内の処理液６の
温度調節を行う温調循環回路は、第１の循環ポン
プ４、往路側管路５、熱交換器７および復路側管
路８によつて構成され、処理液を処理槽に供給し
その残液を貯液槽２に戻す処理液移送循環回路
は、第２の循環ポンプ９、フイルター１０、吹き
出しノズル１１、往路管側管路１２および排液パ
イプ３（往路側管路に相当）によつて構成され
る。
以上のように構成された本考案流体回路の作動
を次に説明する。まず非処理時の場合について
は、第２図に示す如く、貯液槽２内の処理液６
は、第１の循環ポンプ４によつて熱交換器７に送
られ、そこで加熱（温度調節）された後復路側管
路８に案内され再び貯液槽２内に戻る。この場
合、第２の循環ポンプ９は作動していない。次
に、被処理材が処理槽１内に送入されると、これ
を図示しないセンサが検出し、第２の循環ポンプ
９を作動させる。この第２の循環ポンプ９の吐出
容量は第１の循環ポンプ４の吐出容量より大きい
ため、第３図に示す如く、熱交換器７から送り出
された処理液６と貯液槽２内の処理液６の双方
が、第２の循環ポンプ９に吸引され、分岐点Ａで
合流した後フイルター１０を介して吹き出しノズ
ル１１に送られ、被処理材に噴射される。この吹
き出しノズル１１から噴射された処理液６は処理
槽１の下部にたまり、排液パイプ３に案内されて
再び貯液槽２内に戻る。
を次に説明する。まず非処理時の場合について
は、第２図に示す如く、貯液槽２内の処理液６
は、第１の循環ポンプ４によつて熱交換器７に送
られ、そこで加熱（温度調節）された後復路側管
路８に案内され再び貯液槽２内に戻る。この場
合、第２の循環ポンプ９は作動していない。次
に、被処理材が処理槽１内に送入されると、これ
を図示しないセンサが検出し、第２の循環ポンプ
９を作動させる。この第２の循環ポンプ９の吐出
容量は第１の循環ポンプ４の吐出容量より大きい
ため、第３図に示す如く、熱交換器７から送り出
された処理液６と貯液槽２内の処理液６の双方
が、第２の循環ポンプ９に吸引され、分岐点Ａで
合流した後フイルター１０を介して吹き出しノズ
ル１１に送られ、被処理材に噴射される。この吹
き出しノズル１１から噴射された処理液６は処理
槽１の下部にたまり、排液パイプ３に案内されて
再び貯液槽２内に戻る。
このように構成された処理装置においては、貯
液槽２内に３本の配管が挿入されるだけであるた
め、市販のポリエチレン容器等の入口にも挿通可
能であり、これをカートリツジタンクとして使用
することもできる。また、非処理時においては吐
出容量の小さい第１の循環ポンプが作動している
だけなので節電が可能になる。さらに、電磁弁等
を用いない構成のため、それに付随した数々の問
題が生じない。
液槽２内に３本の配管が挿入されるだけであるた
め、市販のポリエチレン容器等の入口にも挿通可
能であり、これをカートリツジタンクとして使用
することもできる。また、非処理時においては吐
出容量の小さい第１の循環ポンプが作動している
だけなので節電が可能になる。さらに、電磁弁等
を用いない構成のため、それに付随した数々の問
題が生じない。
なお、上記説明においては第１、第２の循環ポ
ンプ４，９をそれぞれ熱交換器７、フイルター１
０より上流側に配置したが、この逆であつても良
い。また、フイルター１０については必ずしも必
要でない。
ンプ４，９をそれぞれ熱交換器７、フイルター１
０より上流側に配置したが、この逆であつても良
い。また、フイルター１０については必ずしも必
要でない。
以上説明したように、本考案によれば、配管が
簡易で節電が可能な、しかも電磁弁等を用いない
処理装置を実現できる。
簡易で節電が可能な、しかも電磁弁等を用いない
処理装置を実現できる。
第１図は本考案に係る処理装置の一実施例を示
す断面図、第２図は非処理時の温度調節循環を示
す作動説明図、第３図は処理時での処理液の移送
循環を示す作動説明図である。 １……処理槽、２……貯液槽、３……排液パイ
プ、４……第１の循環ポンプ、５，１２……往路
側管路、６……処理液、７……熱交換器、８……
復路側管路、９……第２の循環ポンプ、１０……
フイルター、１１……吹き出しノズル、１３……
ローラ、１４……フレーム。
す断面図、第２図は非処理時の温度調節循環を示
す作動説明図、第３図は処理時での処理液の移送
循環を示す作動説明図である。 １……処理槽、２……貯液槽、３……排液パイ
プ、４……第１の循環ポンプ、５，１２……往路
側管路、６……処理液、７……熱交換器、８……
復路側管路、９……第２の循環ポンプ、１０……
フイルター、１１……吹き出しノズル、１３……
ローラ、１４……フレーム。
Claims (1)
- 貯液槽内の処理液を第１の循環ポンプで熱交換
器に送りその温度調節を行う温調循環流路と、処
理時に、前記第１の循環ポンプより吐出容量が大
きい第２の循環ポンプで処理液を処理槽に供給し
該処理槽内の残液を前記貯液槽に戻す処理液移送
循環流路とを具備し、前記処理液移送循環流路の
往路側管路の一部と前記温調循環流路の復路側管
路の一部とを同一管路で構成したことを特徴とす
る処理装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4907981U JPH0128510Y2 (ja) | 1981-04-04 | 1981-04-04 | |
| EP19820901005 EP0075027A4 (en) | 1981-04-04 | 1982-04-02 | FLUID CIRCUIT FOR A TREATMENT DEVICE. |
| PCT/JP1982/000099 WO1982003470A1 (en) | 1981-04-04 | 1982-04-02 | Fluid circuit for treatment device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4907981U JPH0128510Y2 (ja) | 1981-04-04 | 1981-04-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57162644U JPS57162644U (ja) | 1982-10-13 |
| JPH0128510Y2 true JPH0128510Y2 (ja) | 1989-08-30 |
Family
ID=12821079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4907981U Expired JPH0128510Y2 (ja) | 1981-04-04 | 1981-04-04 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0075027A4 (ja) |
| JP (1) | JPH0128510Y2 (ja) |
| WO (1) | WO1982003470A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0612454B2 (ja) * | 1985-09-10 | 1994-02-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料現像装置 |
| US5541698A (en) * | 1993-11-29 | 1996-07-30 | Agfa-Gevaert N. V. | Apparatus for processing photographic material and a method of regenerating a process liquid therein |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR801534A (fr) * | 1935-08-20 | 1936-08-06 | Appareil pour le développement des films | |
| US2177706A (en) * | 1938-05-31 | 1939-10-31 | Warner Bros | Apparatus for processing motion picture film |
| GB855229A (en) * | 1956-03-13 | 1960-11-30 | John Varney & Company Ltd | Method of and apparatus for controlling the temperature of a liquid in a tank or other container |
| US3623416A (en) * | 1968-06-24 | 1971-11-30 | Claes Johan Anderberg | Processing system for photographic material |
| JPS5232255B2 (ja) * | 1971-12-09 | 1977-08-20 | ||
| JPS5410941Y2 (ja) * | 1973-09-14 | 1979-05-18 | ||
| JPS5086345A (ja) * | 1973-11-28 | 1975-07-11 | ||
| DE2361150B2 (de) * | 1973-12-07 | 1980-12-11 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Fotografisches Gerät zur Naßbehandlung fotografischer Schichtträger |
| US4128424A (en) * | 1973-12-07 | 1978-12-05 | Agfa-Gevaert Ag | Method for treating photographic processing fluids prior to sewering thereof |
| DE2733030C3 (de) * | 1977-07-21 | 1981-05-27 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Durchlauf-Entwicklungsmaschine |
-
1981
- 1981-04-04 JP JP4907981U patent/JPH0128510Y2/ja not_active Expired
-
1982
- 1982-04-02 EP EP19820901005 patent/EP0075027A4/en not_active Withdrawn
- 1982-04-02 WO PCT/JP1982/000099 patent/WO1982003470A1/ja not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0075027A4 (en) | 1983-08-09 |
| JPS57162644U (ja) | 1982-10-13 |
| EP0075027A1 (en) | 1983-03-30 |
| WO1982003470A1 (en) | 1982-10-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3878095A (en) | Dialysis apparatus | |
| JPH0110524Y2 (ja) | ||
| JPH0128510Y2 (ja) | ||
| US10021891B2 (en) | Energy-efficient apparatus for making cheese | |
| JPH10225503A (ja) | 殺菌装置における過剰殺菌防止装置 | |
| NZ334969A (en) | Cooling system including a liquid flow path from a vat through an apparatus for heat exchange | |
| JPS5832320B2 (ja) | 復水器保護装置 | |
| CN214260714U (zh) | 一种高效的蛋白溶浆浓缩系统 | |
| CN217176735U (zh) | 联合光伏发电使用的尿素溶液储存与运输系统 | |
| CN215412694U (zh) | 一种透析器生产车间的循环冷却系统 | |
| CN212685965U (zh) | 一种药液加热包装机 | |
| CN220024774U (zh) | 供水系统及管线机 | |
| CN214861240U (zh) | 一种蛋白溶浆的浓缩酶解系统 | |
| CN208817716U (zh) | 一种工业热水节能供应装置 | |
| CN217659270U (zh) | 带预热的即热式分机饮水机 | |
| CN216654514U (zh) | 一种模块化的热回收反应系统 | |
| JPH03195832A (ja) | セントラル給湯方式における給湯循環装置 | |
| JPS6020116Y2 (ja) | 自動現像装置 | |
| JPH10262627A (ja) | 殺菌装置 | |
| JPH0315935Y2 (ja) | ||
| JPH03224524A (ja) | 循環浴装置 | |
| JPH0330716Y2 (ja) | ||
| JPH0212492Y2 (ja) | ||
| JPH086174Y2 (ja) | 氷水熱交換器 | |
| JP2009239059A (ja) | 基板処理装置 |