JPH01285021A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH01285021A JPH01285021A JP11311688A JP11311688A JPH01285021A JP H01285021 A JPH01285021 A JP H01285021A JP 11311688 A JP11311688 A JP 11311688A JP 11311688 A JP11311688 A JP 11311688A JP H01285021 A JPH01285021 A JP H01285021A
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- magnetic
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- Pending
Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は磁気記録媒体に関するものである。
従来の技術
従来の磁気記録媒体は以下の様に形成されていた。先ず
Ａ１合金基板を用意し、Ａ１合金基板の機械的及び化学
的強度をもたせるために、Ａ１合金基板の上にＮｉＰ合
金等の膜を形成する。モしてＮｉＰ合金等の膜の表面が
平坦になる様に鏡面研磨を施し、磁気記録媒体基板を形
成する。次に、この様に形成された磁気記録媒体基板の
上に、スパッタリング等によって磁性層を形成し、磁性
層の上に保護層をスパッタリング等により磁気記録媒体
全面に均一に形成する。
Ａ１合金基板を用意し、Ａ１合金基板の機械的及び化学
的強度をもたせるために、Ａ１合金基板の上にＮｉＰ合
金等の膜を形成する。モしてＮｉＰ合金等の膜の表面が
平坦になる様に鏡面研磨を施し、磁気記録媒体基板を形
成する。次に、この様に形成された磁気記録媒体基板の
上に、スパッタリング等によって磁性層を形成し、磁性
層の上に保護層をスパッタリング等により磁気記録媒体
全面に均一に形成する。
又磁気記録再生装置には磁気記録再生動作の開始時と終
了時には磁気記録媒体と接触状態となるコンタクト・ス
タート・ストップ方式（以下Ｃ８Ｓ方式と略す）がある
。この様なＣ８Ｓ方式では磁気記録媒体上に記録再生動
作の開始時と終了時に磁気ヘッドが接触する特定の領域
があり、これをコンタクト・スタート・ストップ領域（
以下Ｃ３Ｓ領域と略す）という。
了時には磁気記録媒体と接触状態となるコンタクト・ス
タート・ストップ方式（以下Ｃ８Ｓ方式と略す）がある
。この様なＣ８Ｓ方式では磁気記録媒体上に記録再生動
作の開始時と終了時に磁気ヘッドが接触する特定の領域
があり、これをコンタクト・スタート・ストップ領域（
以下Ｃ３Ｓ領域と略す）という。
発明が解決しようとする課題
近年、磁気記録再生装置の高密度記録に伴い、磁気ヘッ
ドと磁気記録媒体の磁性層の間隔を小さ（する事が求め
られている。その方法として磁気ヘッドの浮上量を小さ
くするとともに、磁気記録媒体の磁性層上の保護層の厚
みを薄（する事が考えられる。しかしながらこの方法を
用いるとＣ８Ｓ領域内の磁気記録媒体の保護層が、磁気
ヘッドとの摩擦によりすぐに摩耗してしまい、磁性層が
剥き出しになってしまう。従って保護層が無くなって磁
性層が剥き出しになった部分は耐食性が著しく低下し、
すぐに腐食してしまい、磁気記録媒体の寿命が短くなる
という問題点があった。又、磁性層が剥き出しになった
事によってＣ８Ｓ領域内の磁気記録媒体の表面と磁気ヘ
ッドの間の静止摩擦係数が増加し、Ｃ８Ｓ領域内の磁気
記録媒体の表面と磁気ヘッドの間の静止摩擦力が増加す
る。
ドと磁気記録媒体の磁性層の間隔を小さ（する事が求め
られている。その方法として磁気ヘッドの浮上量を小さ
くするとともに、磁気記録媒体の磁性層上の保護層の厚
みを薄（する事が考えられる。しかしながらこの方法を
用いるとＣ８Ｓ領域内の磁気記録媒体の保護層が、磁気
ヘッドとの摩擦によりすぐに摩耗してしまい、磁性層が
剥き出しになってしまう。従って保護層が無くなって磁
性層が剥き出しになった部分は耐食性が著しく低下し、
すぐに腐食してしまい、磁気記録媒体の寿命が短くなる
という問題点があった。又、磁性層が剥き出しになった
事によってＣ８Ｓ領域内の磁気記録媒体の表面と磁気ヘ
ッドの間の静止摩擦係数が増加し、Ｃ８Ｓ領域内の磁気
記録媒体の表面と磁気ヘッドの間の静止摩擦力が増加す
る。
すると、磁気記録媒体を回転させようとした場合、その
静止摩擦力によって磁気記録媒体が起動できない事があ
るという問題点があった。
静止摩擦力によって磁気記録媒体が起動できない事があ
るという問題点があった。
本発明は前記従来の問題点を解決するもので、磁気記録
媒体の寿命を長（する事ができるとともに、長期間磁気
ヘッドとの静止摩擦係数があまり増加しない磁気記録媒
体を提供する事を目的としている。
媒体の寿命を長（する事ができるとともに、長期間磁気
ヘッドとの静止摩擦係数があまり増加しない磁気記録媒
体を提供する事を目的としている。
課題を解決するための手段
この目的を達成するために本発明の磁気記録媒体は、基
板の一部の厚みを他の部分よりも薄くするとともに、基
板を薄（した部分に薄（した分だけ保護層を他の部分よ
りも厚くした。
板の一部の厚みを他の部分よりも薄くするとともに、基
板を薄（した部分に薄（した分だけ保護層を他の部分よ
りも厚くした。
作 用
この構成により、一部分の耐摩耗性を向上させる事がで
きる。
きる。
実施例
第１図は本発明の実施例における磁気記録媒体の要部断
面図を示すものである。第１図において、１はＡ１合金
基板、２はＮｉＰ合金めっきで形成された非磁性中間層
で、非磁性中間層２はＡ１合金基板１の機械的及び化学
的強度を持たせるために、Ａ１合金基板１の上に形成さ
れている。３は磁性層、４はカーボン等で形成された保
護層である。第２図は本発明の実施例における磁気記録
媒体の平面図を示すものである。第２図において、Ａは
Ｃ８Ｓ領域、Ｂは磁気記録再生領域である。
面図を示すものである。第１図において、１はＡ１合金
基板、２はＮｉＰ合金めっきで形成された非磁性中間層
で、非磁性中間層２はＡ１合金基板１の機械的及び化学
的強度を持たせるために、Ａ１合金基板１の上に形成さ
れている。３は磁性層、４はカーボン等で形成された保
護層である。第２図は本発明の実施例における磁気記録
媒体の平面図を示すものである。第２図において、Ａは
Ｃ８Ｓ領域、Ｂは磁気記録再生領域である。
次に、本発明の実施例における磁気記録媒体の製造方法
について第１図、第２図に従って説明する。Ａ１合金基
板１を研削加工し、Ａ１合金基板１の上に非磁性中間層
２を形成した後、鏡面研摩を施し、磁気記録媒体基板を
形成する。次に磁気記録媒体基板上の第２図に示すｃｓ
ｓｅｔ域となる部分のＮｉＰ合金だけを研削加工やイオ
ンミリング等のドライエツチングにより０．１μｍ除去
する。この磁気記録媒体基板上に、磁性層３をスパッタ
リングにより形成する。次に磁性層の上にスパッタリン
グ等で保護層４を形成する。この時磁気記録再生領域Ｂ
の磁性層の上面よりもＣ８Ｓ領域Ａに形成される保護層
の上面の方が上になる様に保護層を形成する。次にＣ８
Ｓ領域Ａにマスクを被せて、イオンミリング等によって
磁気記録再生領域Ｂの保護層を、はぼＣ８Ｓ領域Ａに形
成した保護層の高さになるまで削る。最後にＣ３Ｓ領域
Ａと磁気記録再生領域Ｂの段差が無（なる様に鏡面加工
等を行う。
について第１図、第２図に従って説明する。Ａ１合金基
板１を研削加工し、Ａ１合金基板１の上に非磁性中間層
２を形成した後、鏡面研摩を施し、磁気記録媒体基板を
形成する。次に磁気記録媒体基板上の第２図に示すｃｓ
ｓｅｔ域となる部分のＮｉＰ合金だけを研削加工やイオ
ンミリング等のドライエツチングにより０．１μｍ除去
する。この磁気記録媒体基板上に、磁性層３をスパッタ
リングにより形成する。次に磁性層の上にスパッタリン
グ等で保護層４を形成する。この時磁気記録再生領域Ｂ
の磁性層の上面よりもＣ８Ｓ領域Ａに形成される保護層
の上面の方が上になる様に保護層を形成する。次にＣ８
Ｓ領域Ａにマスクを被せて、イオンミリング等によって
磁気記録再生領域Ｂの保護層を、はぼＣ８Ｓ領域Ａに形
成した保護層の高さになるまで削る。最後にＣ３Ｓ領域
Ａと磁気記録再生領域Ｂの段差が無（なる様に鏡面加工
等を行う。
第３図は形成した保護層の膜厚と、その保護層の膜厚で
Ｃ８Ｓを２万回行った後の磁気記録媒体。
Ｃ８Ｓを２万回行った後の磁気記録媒体。
磁気ヘッド間の静止摩擦係数の関係を示したグラフであ
る。第３図に示すように保護層の厚みが厚くなるにした
がってＣ３Ｓを２万回行った後の静止摩擦係数は小さく
なる。第３図のグラフがら判る様に最初の膜厚が０．１
μｍ以上であればｃｓＳを２万回行った後でも静止摩擦
係数は殆ど変わらない。
る。第３図に示すように保護層の厚みが厚くなるにした
がってＣ３Ｓを２万回行った後の静止摩擦係数は小さく
なる。第３図のグラフがら判る様に最初の膜厚が０．１
μｍ以上であればｃｓＳを２万回行った後でも静止摩擦
係数は殆ど変わらない。
次に、本実施例の磁気記録媒体と従来の磁気記録媒体に
ついてＣ３Ｓ特性を比較する。
ついてＣ３Ｓ特性を比較する。
Ｍｎ−Ｚｎフェライトヘッドを使用し、Ｃ８ｓを繰り返
した時の、Ｃ８Ｓ回数毎のｃｓｓ動作時の磁気記録媒体
、磁気ヘッド間の静止摩擦係数を測定する。
した時の、Ｃ８Ｓ回数毎のｃｓｓ動作時の磁気記録媒体
、磁気ヘッド間の静止摩擦係数を測定する。
第４図は本実施例における磁気記録媒体と、従来の保護
層の厚みが均一である磁気記録媒体について、Ｃ８Ｓを
行った回数に対する静止摩擦係数の変化をあられしたグ
ラフである。ｃｓｓ領域Ａと磁気記録再生領域Ｂの保護
層の厚みは双方とも０．０１μｍとしている。第４図の
グラフにおいて、横軸はＣ３Ｓ回数、縦軸は磁気記録媒
体、磁気ヘッド間の静止摩擦係数を示している。Ｃ３Ｓ
を繰り返した時、本実施例の磁気記録媒体は従来の磁気
記録媒体と比較して静止摩擦係数はあまり上昇しない。
層の厚みが均一である磁気記録媒体について、Ｃ８Ｓを
行った回数に対する静止摩擦係数の変化をあられしたグ
ラフである。ｃｓｓ領域Ａと磁気記録再生領域Ｂの保護
層の厚みは双方とも０．０１μｍとしている。第４図の
グラフにおいて、横軸はＣ３Ｓ回数、縦軸は磁気記録媒
体、磁気ヘッド間の静止摩擦係数を示している。Ｃ３Ｓ
を繰り返した時、本実施例の磁気記録媒体は従来の磁気
記録媒体と比較して静止摩擦係数はあまり上昇しない。
以上に様に本実施例ではＣ８Ｓ領域Ａの保護層の厚さを
磁気記録再生領域Ｂの保護層の厚さよりも０．１μｍ厚
くしたことにより、磁気ヘッドとＣ８Ｓ領域内の磁気記
録媒体の表面との静止摩擦係数の増加を防ぐ事ができる
とともに、磁性層を破壊してＣ８Ｓ領域の耐食性を低下
させないので寿命を長くする事ができる。
磁気記録再生領域Ｂの保護層の厚さよりも０．１μｍ厚
くしたことにより、磁気ヘッドとＣ８Ｓ領域内の磁気記
録媒体の表面との静止摩擦係数の増加を防ぐ事ができる
とともに、磁性層を破壊してＣ８Ｓ領域の耐食性を低下
させないので寿命を長くする事ができる。
発明の効果
本発明は、基板の一部の厚みを他の部分よりも薄くする
とともに、基板を薄くした分だけ他の部分の保護層より
も保護層を厚くし、基板を薄くした部分をＣ８Ｓ領域と
して使用した事により、Ｃ８Ｓ領域の部分の耐摩耗性を
向上させる事ができるので、長期間使用してもあまり磁
気ヘッドとの静止摩擦係数が増えず、Ｃ８Ｓ領域からの
腐食を防ぐ事ができるので、磁気記録媒体の寿命を長（
する事ができる。
とともに、基板を薄くした分だけ他の部分の保護層より
も保護層を厚くし、基板を薄くした部分をＣ８Ｓ領域と
して使用した事により、Ｃ８Ｓ領域の部分の耐摩耗性を
向上させる事ができるので、長期間使用してもあまり磁
気ヘッドとの静止摩擦係数が増えず、Ｃ８Ｓ領域からの
腐食を防ぐ事ができるので、磁気記録媒体の寿命を長（
する事ができる。
第１図は本発明の実施例における磁気記録媒体の要部断
面図、第２図は同平面図、第３図は保護層の厚みとＣ３
Ｓを２万回行った後の静止摩擦係数の関係を示すグラフ
、第４図は本発明の実施例における磁気記録媒体と従来
の磁気記録媒体の、Ｃ８Ｓ回数と静止摩擦係数の関係を
示すグラフである。 １・・・・・・Ａ１合金基板 ２・・・・・・非磁性中間層 ３・・・・・・磁性層 ４・・・・・・保護層 Ａ・・・・・・Ｃ８Ｓ領域 Ｂ・・・・・・磁気記録再生領域 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか１名第 １ 図
面図、第２図は同平面図、第３図は保護層の厚みとＣ３
Ｓを２万回行った後の静止摩擦係数の関係を示すグラフ
、第４図は本発明の実施例における磁気記録媒体と従来
の磁気記録媒体の、Ｃ８Ｓ回数と静止摩擦係数の関係を
示すグラフである。 １・・・・・・Ａ１合金基板 ２・・・・・・非磁性中間層 ３・・・・・・磁性層 ４・・・・・・保護層 Ａ・・・・・・Ｃ８Ｓ領域 Ｂ・・・・・・磁気記録再生領域 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか１名第 １ 図
Claims (2)
- （１）一部の厚みを他の部分よりも薄くした基板と、前
記基板の全面に形成された磁性層と、前記磁性層の上に
形成された保護層を備え、前記基板の厚みを薄くした部
分に形成される保護層を前記基板の他の部分に形成され
る保護層よりも基板の厚みの差に相当する分だけ厚くし
た事を特徴とする磁気記録媒体。 - （２）基板の一部の厚みを他の部分よりも０．１μｍ以
上薄くした事を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11311688A JPH01285021A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11311688A JPH01285021A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01285021A true JPH01285021A (ja) | 1989-11-16 |
Family
ID=14603918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11311688A Pending JPH01285021A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01285021A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007272948A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体、磁気記録装置および磁気記録媒体の製造方法 |
-
1988
- 1988-05-10 JP JP11311688A patent/JPH01285021A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007272948A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体、磁気記録装置および磁気記録媒体の製造方法 |
| JP4675812B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2011-04-27 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体、磁気記録装置および磁気記録媒体の製造方法 |
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