JPH01282912A - 表面波デバイス - Google Patents
表面波デバイスInfo
- Publication number
- JPH01282912A JPH01282912A JP11186488A JP11186488A JPH01282912A JP H01282912 A JPH01282912 A JP H01282912A JP 11186488 A JP11186488 A JP 11186488A JP 11186488 A JP11186488 A JP 11186488A JP H01282912 A JPH01282912 A JP H01282912A
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- reflector
- conductor patterns
- interdigital
- comb
- wave device
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- Pending
Links
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- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
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Landscapes
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
少なくともトランスジューサと反射器を圧電体に形成し
た表面波デバイス、特に高周波デバイスにおける反射器
の構成に関し、 反射器を形成する際の製造歩留まりの改善を目的とし、 該反射器が、複数本の櫛歯部を有する一対の櫛形状の導
体パターンを、該櫛歯部と平行する複数本の接続導体パ
ターンで接続してなり、一対の該接続導体パターンの間
に、少なくとも一方の櫛形状の該導体パターンの櫛歯部
を配設してなることを特徴とし構成する。
た表面波デバイス、特に高周波デバイスにおける反射器
の構成に関し、 反射器を形成する際の製造歩留まりの改善を目的とし、 該反射器が、複数本の櫛歯部を有する一対の櫛形状の導
体パターンを、該櫛歯部と平行する複数本の接続導体パ
ターンで接続してなり、一対の該接続導体パターンの間
に、少なくとも一方の櫛形状の該導体パターンの櫛歯部
を配設してなることを特徴とし構成する。
本発明は、少なくともトランスジューサと反射器を圧電
体に形成した表面波デバイス、特に反射器の構成に関す
る。
体に形成した表面波デバイス、特に反射器の構成に関す
る。
圧電体の表面にトランスジューサを形成した表面波デバ
イスは、高度情報処理産業の発達および無線通信等の市
場拡大に伴って、数M Hz〜I G Hzといった高
周波デバイスとして使用されるようになった。
イスは、高度情報処理産業の発達および無線通信等の市
場拡大に伴って、数M Hz〜I G Hzといった高
周波デバイスとして使用されるようになった。
第3図は従来の表面波デバイスを示す模式平面図、第4
図は従来の他の表面波デバイスを示す模式平面図である
。
図は従来の他の表面波デバイスを示す模式平面図である
。
第3図において、表面波デバイス1は圧電体2の表面に
トランスジューサ3と、一対の反射器4を形成してなる
。トランスジューサ3は、一対の櫛歯状電i5の櫛歯部
5aが互い違いに入り込むように形成し、トランスジュ
ーサ3の左側方および右側方に形成した一対の反射器4
は、複数の短冊形状の導体パターン6を並列に形成して
なる。
トランスジューサ3と、一対の反射器4を形成してなる
。トランスジューサ3は、一対の櫛歯状電i5の櫛歯部
5aが互い違いに入り込むように形成し、トランスジュ
ーサ3の左側方および右側方に形成した一対の反射器4
は、複数の短冊形状の導体パターン6を並列に形成して
なる。
各導体パターン6はそれぞれ独立(分離)しており、か
かる構成の反射器4は、一般にオープン型と呼ばれてい
る。
かる構成の反射器4は、一般にオープン型と呼ばれてい
る。
第4図において、表面波デバイス7は圧電体2の表面に
トランスジューサ3と、一対の反射器8を形成してなる
。一対の櫛歯状電極5からなるトランスジューサ3の左
側方および右側方に形成した一対の反射器8は、複数の
短面形状の導体パターン8aを並列に形成し、各導体パ
ターン8aの端部を連結導体パターン8bおよび8Cに
接続した構成であり、かかる構成の反射器8は、一般に
ショート型と呼ばれている。
トランスジューサ3と、一対の反射器8を形成してなる
。一対の櫛歯状電極5からなるトランスジューサ3の左
側方および右側方に形成した一対の反射器8は、複数の
短面形状の導体パターン8aを並列に形成し、各導体パ
ターン8aの端部を連結導体パターン8bおよび8Cに
接続した構成であり、かかる構成の反射器8は、一般に
ショート型と呼ばれている。
かかるオープン型反射器4とショート型反射器8とを比
較すると、ショート型反射器8に対しオープン型反射器
4は、表面波の減衰量が大きく温度特性に劣るという問
題点があり、特に高周波帯域で使用するデバイスではシ
ョート型にすることが望ましい。
較すると、ショート型反射器8に対しオープン型反射器
4は、表面波の減衰量が大きく温度特性に劣るという問
題点があり、特に高周波帯域で使用するデバイスではシ
ョート型にすることが望ましい。
従来の表面波デバイス1および7において、反射器4,
8は、ホトリソ技術によって形成されるが、導体パター
ン6および8aの並列ピッチpは適用波長λの2であり
、例えば100MIIzの表面波デバイスではピッチp
が18μm程度となって、導体パターン6.8aの間隙
は10μm以下である。
8は、ホトリソ技術によって形成されるが、導体パター
ン6および8aの並列ピッチpは適用波長λの2であり
、例えば100MIIzの表面波デバイスではピッチp
が18μm程度となって、導体パターン6.8aの間隙
は10μm以下である。
このような微細ピッチで導体パターン8aが並列するシ
ョート型反射器8は、アルミニウム、アルミニウムー銅
、アルミニウムーシリコン等にてなる導体薄膜の不要部
を溶去するホトリソ技術によって形成するとき、エツチ
ング中に発生するガスの被着によって、各導体パターン
8aが確実に分離形成されないことがあるという問題点
があった。
ョート型反射器8は、アルミニウム、アルミニウムー銅
、アルミニウムーシリコン等にてなる導体薄膜の不要部
を溶去するホトリソ技術によって形成するとき、エツチ
ング中に発生するガスの被着によって、各導体パターン
8aが確実に分離形成されないことがあるという問題点
があった。
本発明の目的は、従来のショート型反射器と同等の特性
の反射器を、オープン型反射器と同等の製造歩留まりで
形成する新規構成を提供することである。
の反射器を、オープン型反射器と同等の製造歩留まりで
形成する新規構成を提供することである。
本発明の実施例を示す第1図によれば、少なくともトラ
ンスジューサ3と反射器工2を圧電体2に形成した表面
波デバイス11において、反射器12が、複数本の櫛歯
部13a、14aを有する一対の櫛形状の導体パターン
13.14を、櫛歯部13a、14aと平行する複数本
の接続導体パターン15で接続してなり、 一対の接続導体パターン15の間に、少なくとも一方の
櫛形状の導体パターン13.14の櫛歯部13a。
ンスジューサ3と反射器工2を圧電体2に形成した表面
波デバイス11において、反射器12が、複数本の櫛歯
部13a、14aを有する一対の櫛形状の導体パターン
13.14を、櫛歯部13a、14aと平行する複数本
の接続導体パターン15で接続してなり、 一対の接続導体パターン15の間に、少なくとも一方の
櫛形状の導体パターン13.14の櫛歯部13a。
14aを配設してなることを特徴とする。
上記手段によれば、反射器が一対の櫛形状の導体パター
ンを複数本の接続導体パターンで接続し、従来のオープ
ン型とショート型とを組み合わせた構成としたことによ
り、エツチングにより反射器を形成するに際しガス離れ
が良くなり、櫛歯部間を埋める従来の問題点が解決し、
従来のショート型と同等の効果を有する反射器を、エッ
チング不良率零で形成可能とする。
ンを複数本の接続導体パターンで接続し、従来のオープ
ン型とショート型とを組み合わせた構成としたことによ
り、エツチングにより反射器を形成するに際しガス離れ
が良くなり、櫛歯部間を埋める従来の問題点が解決し、
従来のショート型と同等の効果を有する反射器を、エッ
チング不良率零で形成可能とする。
以下に、図面を用いて本発明による表面波デバイスを説
明する。
明する。
第1図は本発明の一実施例による表面波デバイスの模式
平面図である。
平面図である。
第1図において、表面波デバイス11は圧電体2の表面
にトランスジューサ3と、一対の反射器12を形成して
なる。
にトランスジューサ3と、一対の反射器12を形成して
なる。
トランスジューサ3は、一対の櫛歯状電極5の櫛歯部5
aが、互い違いに入り込むように形成してなる。
aが、互い違いに入り込むように形成してなる。
トランスジューサ3の左側方および右側方に形成した反
射器12は、対向する一対の櫛形状の導体パターン13
.14を、接続用導体パターン15により複数個所で接
続してなり、導体パターン13の各櫛歯部13aは、相
手導体パターン14の櫛歯部14aと互い違いに入り込
むように形成し、複数本の接続用導体パターン15は、
少なくとも櫛歯部13aまたは14a(図は1本ずつの
櫛歯部13aと14a)を挟むように配設する。
射器12は、対向する一対の櫛形状の導体パターン13
.14を、接続用導体パターン15により複数個所で接
続してなり、導体パターン13の各櫛歯部13aは、相
手導体パターン14の櫛歯部14aと互い違いに入り込
むように形成し、複数本の接続用導体パターン15は、
少なくとも櫛歯部13aまたは14a(図は1本ずつの
櫛歯部13aと14a)を挟むように配設する。
このように構成した反射器12において、櫛歯部13a
と14aの対向長さをaとし、櫛歯部13aの先端と導
体パターン14との間隙および櫛歯部14aの先端と導
体パターン13との間隙をbとしたとき、導体パターン
13.14をエツチングにより形成する際に発生するガ
ス離れを良くするには、b / aを0.1以上とする
ことが望ましい。
と14aの対向長さをaとし、櫛歯部13aの先端と導
体パターン14との間隙および櫛歯部14aの先端と導
体パターン13との間隙をbとしたとき、導体パターン
13.14をエツチングにより形成する際に発生するガ
ス離れを良くするには、b / aを0.1以上とする
ことが望ましい。
第2図は、櫛歯部先端の間隙b/櫛歯部の対向長さaと
、エツチング不良率との関係を示す図である。
、エツチング不良率との関係を示す図である。
a=200μmである反射器12を、エツチングにより
形成した実験結果を示す第2図において、縦軸はエツチ
ングにより反射器12を形成する際の不良率、横軸はb
/ aであり、b / a以上とすることでエツチン
グの不良率は零となる。
形成した実験結果を示す第2図において、縦軸はエツチ
ングにより反射器12を形成する際の不良率、横軸はb
/ aであり、b / a以上とすることでエツチン
グの不良率は零となる。
なお、第2図においてb / a = Qは、a=20
0μmとした従来のショート型反射器8を、エツチング
で形成することに相当し、かかる反射器8は殆どが不良
品となる。
0μmとした従来のショート型反射器8を、エツチング
で形成することに相当し、かかる反射器8は殆どが不良
品となる。
以上説明したように本発明によれば、反射器が一対の櫛
形状の導体パターンを複数本の接続導体パターンで接続
し、従来のオープン型とショート型とを組み合わせた構
成としたことにより、エツチングにより反射器を形成す
るに際しガス離れが良くなり、櫛歯部間を埋める従来の
問題点が解決し、従来のショート型と同等の効果のある
反射器を、エッチング不良率零で形成可能とした効果が
ある。
形状の導体パターンを複数本の接続導体パターンで接続
し、従来のオープン型とショート型とを組み合わせた構
成としたことにより、エツチングにより反射器を形成す
るに際しガス離れが良くなり、櫛歯部間を埋める従来の
問題点が解決し、従来のショート型と同等の効果のある
反射器を、エッチング不良率零で形成可能とした効果が
ある。
第1図は本発明の一実施例による表面波デバイスの模式
平面図、 第2図は反射器のb / aとエツチング不良率との関
係を示す図、 第3図は従来の表面波デバイスを示す模式平面図・ 第4図は従来の他の表面波デバイスを示す模式図中にお
いて、 2は圧電体、 3はトランスジューサ、 11は表面波デバイス、 12は反射器、 13、14は櫛形状の導体パターン、 13a、14aは櫛歯部、 15は接続導体パターン、
平面図、 第2図は反射器のb / aとエツチング不良率との関
係を示す図、 第3図は従来の表面波デバイスを示す模式平面図・ 第4図は従来の他の表面波デバイスを示す模式図中にお
いて、 2は圧電体、 3はトランスジューサ、 11は表面波デバイス、 12は反射器、 13、14は櫛形状の導体パターン、 13a、14aは櫛歯部、 15は接続導体パターン、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 少なくともトランスジューサ(3)と反射器(12)を
圧電体(2)に形成した表面波デバイスにおいて、該反
射器(12)が、複数本の櫛歯部(13a,14a)を
有する一対の櫛形状の導体パターン(13,14)を、
該櫛歯部(13a,14a)と平行する複数本の接続導
体パターン(15)で接続してなり、 一対の該接続導体パターン(15)の間に、少なくとも
一方の櫛形状の該導体パターン(13,14)の櫛歯部
(13a,14a)を配設してなることを特徴とする表
面波デバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11186488A JPH01282912A (ja) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | 表面波デバイス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11186488A JPH01282912A (ja) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | 表面波デバイス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01282912A true JPH01282912A (ja) | 1989-11-14 |
Family
ID=14572080
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11186488A Pending JPH01282912A (ja) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | 表面波デバイス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01282912A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5887908A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Hitachi Ltd | 弾性表面波フイルタの電極構造 |
-
1988
- 1988-05-09 JP JP11186488A patent/JPH01282912A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5887908A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Hitachi Ltd | 弾性表面波フイルタの電極構造 |
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