JPS5887908A - 弾性表面波フイルタの電極構造 - Google Patents

弾性表面波フイルタの電極構造

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JPS5887908A
JPS5887908A JP18535081A JP18535081A JPS5887908A JP S5887908 A JPS5887908 A JP S5887908A JP 18535081 A JP18535081 A JP 18535081A JP 18535081 A JP18535081 A JP 18535081A JP S5887908 A JPS5887908 A JP S5887908A
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JP
Japan
Prior art keywords
conductor
reflector
stripes
wave filter
stripe
Prior art date
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Pending
Application number
JP18535081A
Other languages
English (en)
Inventor
Toyoji Tabuchi
田「淵」 豊治
Akimasa Onozato
小野里 陽正
Katsuaki Chiba
千葉 勝昭
Junji Sumioka
淳司 住岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Denshi KK
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Denshi KK
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Denshi KK, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Denshi KK
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Publication of JPS5887908A publication Critical patent/JPS5887908A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/08Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は尚周波帝弾性表四波フィルタ、特に、共振型構
成における反射器の電極構造に関する。
共振型構成の弾性表向波フィルタは低損失特性を市する
。従来か\るフィルタの基本的な構成例は第1図に示す
ような交左指トランスデューザ1゜2と尋悴ストライプ
列の反射器3.4かしなる二−ロ共振醤が知られている
フィルタの中心周阪数は圧電基板の音速とトランスデユ
ーサの電極ピッチで定ま9、Li’l’aQ。
366 Y−X板では中心周波数IGH2のとき波長λ
。は約4μmとなり、電極幅(λo/4)は1μmであ
る。
一万、電電材料は賞電効果を軽減するため比重の小さい
Atを用いる。*aパターンはホトエツチング法で作成
し、第2図のように圧電基板5に魚屑したAt電憾6面
上にホトレジパターン7を形成する。Atのケミカルエ
ツチングにはリン版を主体とするエツチング准を用いる
。リン敗糸工ツチング液は粘性が高く1反射器の1創し
られたスリット7では液の浸透性が悪い。特に、高周波
フィルタ(スリット1−が数μm以下)の場合に浸透性
の悪化が顕著になる。このため、反射器のスリット部は
他の部分に比軟してエツチングレートが低下する。また
、10」じ反射器内でもスリット曲でレートがばらつく
。この結末1反射器のエツチングが終了した時点では、
トランスデユーサ部がオーバエツチングとなる問題が発
生した。
本発明は、上記の共振型フィルタの電極作成工程VCお
いて、反射器の構造を改良することにより良好なAL電
極エツチング条件および反射特性を得ることを目的とす
る。
本発明においては反射器でエツチングレートが低下する
原因は、両端が閉じたスリットの形状にあることに鑑与
エツチング条件のみについて見れは、トランスデユーサ
と10」しく一端を開放した交さ指栴盾としたい。しか
し、反射器の本来の慎北である反射特性からは全導体ス
トライプを等電位状態とする心安がある。
そこで本発明は交さ指形と短絡スリット形の中間的な構
造とし、反射特性とエツチング条件を両立させるごとく
構成した。
以下、本発明の実M例を第3図により説明する。
図の(a)〜(d)は本発明による反射器の構造でろシ
、各種の共振型フィルタに適用司能である。
(a)+ (b)は反射器km成する導体ストライプの
一端′!i=1本おきに開放した場合で、開放端は(a
)が同−位置で、(b)が交互になっている。開放端で
は、スリン)1%がλ。/4から3λo /4に拡張さ
れるためにエツチング液の浸透性が向上する。また開放
端の距離tは中心周波数に関係なく自由に辿べるために
さらに浸透性が改善できる。このような構造は、例えば
図(C)のように2本遵絖して開放端を設けるなと任意
に設「F可能である。また1図(d)のように交互に開
放した得体ストライプの中間部を接続した構造によれば
、開放端の増加に伴う反射特性の低下を防ぐことができ
る。短絡縁@L sはλJ4程菱で十分であり開口長t
1に対して数百分の−となるため1反射特性への影響は
無視できる。
tyc1人射す/8波が反射器の導体ストライプの中心
に対して対称な(Ml[分布である場合は、電位分布も
対称となる。したがって、第4図に示すように導体スト
ライプの中心点を開放することにより%性に関係なくエ
ツチング条件を改善できる。
開放による反射特性の影響は、開放する長さL3が開口
長t4に対して十分小さいために無視できる。
以上のごとく本発明によれは、共振型構成の弾性表面波
フィルタの素子化工程における電極エツチング条件が改
善できるので、フィルタ素子のプロセス歩¥dり向上が
大巾に期待できる効果金有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の二開ロ共懺需の電極徊取図例、第2図は
反射器部のホトエツチングによるパターン形成の概略図
、第3図および第4凶は本発明による反射器の構造の各
実施例を示す。 1・・・入力トランスデユーサ%2・・・田カドランス
デューサ、3.4・・・反射器、5・・・圧電基板、6
・・・ht蒸*良、7・・・レジストパターン、8・・
・スリット、9・・・反射器の導体ストライプ構造。 代理人 弁理士 薄田利幸

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、圧電基板上に設けられた薄膜電極指を交差させたト
    ランスデユーサと、am導体ストライプを周期的に繰り
    返し配列して構成され上記トランスデユーサから励振さ
    れた表向波を反射する反射器とよυなる谷程の共振型フ
    ィルタにおいて、反射器の導体ストライプを全て電気的
    に接続し、各導体スト2イブのいずれか一端を少なくと
    も1本おきに開放することを特徴とする弾性表面波フィ
    ルタの電極構造。 2、前記の一端翻放の導体ストライプが少なくとも2本
    以上連続し、かつ、開放端の位置が交互する構造におい
    て隣如合った導体ストライプを中央部で短絡することt
    %徴とする特許請求の範囲第1項記載の弾性表向波フィ
    ルタの電極構造。 3゜前記各導体ストライプの中央部を開放することを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の弾性域(3)波フ
    ィルタの電極構造。
JP18535081A 1981-11-20 1981-11-20 弾性表面波フイルタの電極構造 Pending JPS5887908A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61199926U (ja) * 1985-06-03 1986-12-15
JPS61199927U (ja) * 1985-06-03 1986-12-15
JPH01282912A (ja) * 1988-05-09 1989-11-14 Fujitsu Ltd 表面波デバイス
JPH0576123U (ja) * 1991-04-20 1993-10-15 ミツミ電機株式会社 弾性表面波装置
JPH07221591A (ja) * 1994-02-07 1995-08-18 Nec Corp 共振器型弾性表面波装置

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