JPH01273219A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は研気記録装置の磁気ディスクの製造方法に関
するものである。

〔従来の技術〕

コンピュータの外部記憶装置の一つである。固定磁気デ
ィスク装置の主構成部は磁気ディスクと磁気ヘッドスラ
イダで構成されている第３図の断面構成図にその概念を
示す。（５）は磁気ディスク。

（６１１’ｔ　磁気ヘッドスライダ、（７）けサスペン
ション。

（８）はスピンドルである。

磁気ディスク（５）は記録情報が書かれて、それを保持
する媒体である。磁気ヘントスライダ（６）は磁気ディ
スクに記録情報を書き込んだり、読み出したシする装置
、サスペンション（７）は磁気へラドスライダを磁気デ
ィスクに押付けるバネ、スピンドル（８）は磁気ディス
クを矢印方向建回転させる装置である。

固定磁気ディスク装置において、磁気ディスク（５）に
記録情報を書き込んだり、読み出した〕する場合は、矢
印方向に磁気ディスク（５）を高速回転（例えば３６　
Ｇ　Ｏｒｐｍ）させる。この回転により生じる空気流で
、磁気ヘントスライダ（６）は空気軸受の原理で、磁気
ディスク（５）表面よシサプミクロンのすきまを保って
浮上する。すなわち、サスペンション（７）の押付力と
空気流の押上刃が釣り合って磁気へラドスライダ（６）
は安定浮上する。

一方、磁気ディスク装置を使用しない時は、スピンドル
（８）の回転は停止し、磁気ヘントスライダ（６）けサ
スペンション（７）によシ押し付けられ磁気ディスク（
５）上に接触した状態となる。

＠４図と第５図は、第３図における磁気ヘントスライダ
（６）付近の拡大断面構成図である。第４図は磁気ディ
スク装置の稼動時（磁気ディスクは回転している）、第
５図は磁気ディスク装置の停止時（磁気ディスクは停止
している〕をそれぞれ示す。

さて、近年、磁気ディスク装置の高密度化の要求が高ま
るにつれて、磁気ヘントスライダの浮上すきまの微小化
が進められてきている。これに伴い、必然的に磁気ディ
スクと磁気ヘントスライダの表面精度の向上がなされて
きた。特に磁気ディスクの表面粗さの向上は著しく、従
来の粗さＲｍ８Ｘ２０ＧＯＡが現在でけＲＩＩｌａＸ１
００Ａ近くになってきている。

ところが表面精度の向上に伴って、別の問題が新たに生
じてきた。それ／ｆｉ磁気ディスク装置が停止している
時に、磁気ヘントスライダと磁気ディスクが吸着すると
いう問題である。吸着が生じると磁気ディスクを回転を
始めても磁気ヘッドスライダが浮上できず、磁気ヘッド
スライダが破損する。そのため、吸着を軽減する方法と
して、従来よシ磁気ディスクの表面にテクスチャーによ
シ凹凸を付けある程度表面粗さを太き（することが−股
に行われている。その−例が特開昭５９−８２６２６　
　号公報に示されている。

第６図（ａｌ〜（ｄ）け従来の表面に凹凸をつけた磁気
ディスクを製造する方法を工程順に示す断面構成図であ
る１図において、（１）けＡｊ−Ｍｇ合金等の基材（ｌ
ａ）　、硬質膜（１ｂ）で構成されている基板。

（２）は基板ｆｌｌ上に形成された磁性膜、（３）は磁
性膜（２）上に形成された硬質炭素保護膜である。まず
基材（１８〕　　に硬質膜（１ｂ）を形成して基板ｆｌ
）を得（第６図８）基板（１）表面に凹凸を付は表面粗
さを大きくする（第６図ｂ）。今まで所望の表面粗さの
山気ディスク（５）を得るには、基板（１）にテクスチ
ャー法によシ同心円状に溝を付けるのが普通であった。

このテクスチャー法は一般に基板（１１を回転させその
上に研磨テープ等を押し付けることによ−り形成する。

次に、テクスチャーにより凹凸を形成された基板（１）
上に磁気記録用の磁性膜（２）をメツキ、スパンタ法等
で形成しく第６図Ｃ）、さらに硬質炭素保護膜（３）を
磁性膜（２）上に層状成長させ磁気ディスク（５）を製
造する（第６図ｄ）。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上のように、従来は磁気ディスクに凹凸を付ける方法
として基板にテクスチャー加工によシ凹凸を付けていた
。

ところが、テクスチャー法では基板に所望の凹凸を任意
に形成するのが難しく１面内及びディスク間のバラツキ
が大きい、良い再現性が得にくい等の作成上の問題点が
あった。また記録再生が高密度になってくると基板（１
）の凹凸と同じに磁性膜（２）にも凹凸があるために信
号出力の変動が大きくなシ無ネ即できないという問題点
があった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、所望の凹凸を再現性良く形成し、磁気ヘッド
スライダと磁気ディスクの吸着を防止するとともに、良
好な再生出力が得られる磁気ディスクを製造する方法を
得ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この発明の磁気ディスクの製造方法は、気相成長法で硬
質炭素保護膜を島状に形成するものであ為。

〔作用〕

この発明においては硬質炭素保護膜を島状に形成してデ
ィスク表面に凸部を設はディスク表面を粗くしているの
で、磁気へラドスライダと磁気ディスクの吸着を防止で
きる。また所望の表面粗さを硬質炭素保護膜の成膜条件
を調整して得られるので粗さの再現性が向上する。さら
に基板にテクスチャー加工を施さないので作業性が良（
なるとともに磁性膜が平滑でスペーシングロスの変動が
生じないので安定した再生用力が得られる。

〔実施例〕

第１図（ａ）〜（ｃｌけこの発明の一実施例の磁気ディ
スクの製造方法を工程順に示す断面構成図である。

図において、（１）はＡｔ−Ｍｇ合金等の基材（１ａ）
と硬質膜（１ｂ）、この場合けＮｌ　−Ｃｕ−Ｐ下地膜
で構成された基板、（２）は記録再生をするための磁性
１回でこの場合けγ−Ｆ。２０３１寞、（３）は磁性膜
＋２１上に気相成長法で島状に形成した硬質炭素膜であ
る。

ＣｖＤ装置で硬質炭素膜を成膜する場合、一般にエタン
やメタンガスを用いる。この材料ガスの濃度を低くして
やると２次結晶核発生が少な（なる。２次結晶核が発生
すると核同志が結合して連続膜となってしまう。そこで
２次結晶核発生で連続膜になる前に成膜をやめると硬質
炭素膜が島状に形成でき、膜厚がそのオまディスクの表
面粗さとなる。

第２図は下地表面への硬質炭素膜の島状成長と＠厚の関
係を示すもので粒子数（材料ガスの濃度）と膜厚の関係
及び２次結晶核発生を説明する説明図である。

この実施例の磁気ディスク／／′ｉ基材（１ａ）に硬質
膜（１ｂ）を形成して基板（１）を作製しく＠１図’Ｌ
磁性膜（２）を形成した（第１図ｂ）。次いで炭素水素
濃度１％以下で、この場合は０．５％以下で硬質炭素保
護膜を２００人成膜したところ、硬質炭素保護ｒｆ！Ｘ
（３）が島状に形成され、良好な表面粗さＲ２＝２００
大の磁気ディスクが得られた（第１図Ｃ）。

どのように、この実施例では硬質炭素保護膜の成膜条件
を調整することにより、簡便に所望の表面粗さの磁気デ
ィスクを再現性良く形成でき、磁気ヘッドスライダの吸
着を防止できるとともに。

基板にテクスチャー加工を施しておらず、磁性膜に凹凸
がな（平滑でスペーシングロスの変動が生じず、安定し
た再現出力が得られた。

じず１．上記実施例では磁性膜上に直接硬質炭素保護膜
を炭素水素ガス濃度を低くして島状に成膜する場合につ
いて説明したが、磁性膜上に膜が介在していてもよいし
、基板に硬質膜がな（てもよく同様の効果を奏する。

さらに上記実施例で得られた磁気ディスク上に潤滑油炭
素膜などの固体潤滑剤や液体潤滑剤などを付着するよう
にしてもよい。

〔発明の効果〕　　　　　゛ 以上のように、この発明によれば、気相成長法で硬質炭
素保護膜を島状に形成することにより。

所望の表面粗さの磁気ディスクを簡便に再現性良く得ら
れ、Ｓ気ヘントスライダとの吸着を防止できるだけでな
く、良好な再生出力を有する磁気ディスクが得られる効
果がある。

【図面の簡単な説明】 第１図（８１〜（Ｃ）けこの発明の一実施例の磁気ディ
スクの製造方法を工程順に示す断面構成図、第２図はこ
の発明に係わる粒子数と膜厚の関係を示す説明１ス、第
３興は一般的な磁気ディスク装置を示す断面構成図、第
４図は第３図の装置稼動時の要部拡大断面構成図、第５
図は第３図の装置停止時の要部拡大断面構成図、第６図
（８）〜（ｄ）け従来の磁気ディスクの製造方法を工程
順に示す断面構成図である。 図において、（１）は基板、（２）は磁性膜、（３）は
島状に形成した硬質炭素保護膜、（５）は磁気ディスク
である。 なお１図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 気相成長法で硬質炭素保護膜を島状に形成する磁気ディ
   スクの製造方法。