JPH01272785A - チタンまたはチタン合金の化学研磨方法 - Google Patents
チタンまたはチタン合金の化学研磨方法Info
- Publication number
- JPH01272785A JPH01272785A JP10029688A JP10029688A JPH01272785A JP H01272785 A JPH01272785 A JP H01272785A JP 10029688 A JP10029688 A JP 10029688A JP 10029688 A JP10029688 A JP 10029688A JP H01272785 A JPH01272785 A JP H01272785A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium
- product
- weight
- oxide film
- aqueous solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 17
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000010936 titanium Substances 0.000 title claims description 15
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 abstract description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 abstract description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 abstract description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 abstract description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 abstract 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000021110 pickles Nutrition 0.000 description 1
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F3/00—Brightening metals by chemical means
- C23F3/04—Heavy metals
- C23F3/06—Heavy metals with acidic solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/10—Other heavy metals
- C23G1/106—Other heavy metals refractory metals
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、チタンまたはチタン合金の加工物の酸化膜除
去を容易にし、かつ光沢化を目的とした化学研磨方法に
関する。
去を容易にし、かつ光沢化を目的とした化学研磨方法に
関する。
[従来の技術]
チタンまたはチタン合金は、光沢化処理を施して使用さ
れる場合が多いがチタンまたはチタン合金の加工物は酸
化性に冨むため、熱間加工工程においては特に強固な酸
化膜を生じる。この酸化膜は難酸洗性であるため硝酸と
弗酸浴等の従来の酸洗では平滑表面を得ることが出来ず
、かつ光沢のある表面状態を得ることは困難とされてい
る。
れる場合が多いがチタンまたはチタン合金の加工物は酸
化性に冨むため、熱間加工工程においては特に強固な酸
化膜を生じる。この酸化膜は難酸洗性であるため硝酸と
弗酸浴等の従来の酸洗では平滑表面を得ることが出来ず
、かつ光沢のある表面状態を得ることは困難とされてい
る。
従って、光沢化の処理に関しては、機械研磨の一つであ
るパフ研磨が主流である。機械研磨と電界研磨を併用し
て光沢化処理する方法は、特開昭60−207725号
公報に記載されている。また化学研磨に関しては、チタ
ン材の光輝性を得るとして、特開昭62−167895
号公報に記載されている。しかし、光沢化処理は酸洗浴
単独で行なわれることはまれで、むしろ酸化膜除去を目
的とした酸洗と称する場合が多い。
るパフ研磨が主流である。機械研磨と電界研磨を併用し
て光沢化処理する方法は、特開昭60−207725号
公報に記載されている。また化学研磨に関しては、チタ
ン材の光輝性を得るとして、特開昭62−167895
号公報に記載されている。しかし、光沢化処理は酸洗浴
単独で行なわれることはまれで、むしろ酸化膜除去を目
的とした酸洗と称する場合が多い。
[発明が解決しようとする問題点]
チタンまたはチタン合金の加工物は、機械研磨では作業
性が悪く、また従来一般に行なわれている酸洗方法は硝
酸と弗酸水溶液がその主流をなすもので、この方法だと
表面を極端に侵し、ビットや肌荒れが激しく平滑な光沢
面を得ることは困難であった。しかも処理液からは多量
のN08ガスが発生し、作業環境の面からも好ましいも
のではない。
性が悪く、また従来一般に行なわれている酸洗方法は硝
酸と弗酸水溶液がその主流をなすもので、この方法だと
表面を極端に侵し、ビットや肌荒れが激しく平滑な光沢
面を得ることは困難であった。しかも処理液からは多量
のN08ガスが発生し、作業環境の面からも好ましいも
のではない。
本発明は、単独浴でチタンまたはチタン合金の加工物の
素地表面を侵さずに酸化膜を除去でき、かつ光沢面が得
られる化学研磨を目的とする。
素地表面を侵さずに酸化膜を除去でき、かつ光沢面が得
られる化学研磨を目的とする。
[問題点を解決するための手段]
本発明者等は、酸洗工程だけで酸化膜を除去できかつ素
地表面を侵さずに容易に光沢表面を得ることのできる化
学研磨浴を検討した。その結果、弗素化合物1−10重
量%、過酸化水素5〜30重量%、水溶性高分子化合物
1〜50重量%、有機錯化剤工〜30重量%および界面
活性剤0.01〜1重量%を含む混合水溶液に40〜1
00℃の温度範囲で、3分以上浸漬することにより加工
物表面を平滑で光沢化できることがわかった。
地表面を侵さずに容易に光沢表面を得ることのできる化
学研磨浴を検討した。その結果、弗素化合物1−10重
量%、過酸化水素5〜30重量%、水溶性高分子化合物
1〜50重量%、有機錯化剤工〜30重量%および界面
活性剤0.01〜1重量%を含む混合水溶液に40〜1
00℃の温度範囲で、3分以上浸漬することにより加工
物表面を平滑で光沢化できることがわかった。
この酸洗液に含まれる弗素化合物は、弗酸、ホウ弗酸、
ケイ弗酸またはこれらのアルカリ塩もしくはアンモニウ
ム塩を示し、水溶性高分子化合物は、グリコール類、ビ
ニルアルコール等のポリマーの他にゼラチン、メチルセ
ルロース等の水溶液に粘稠性をもたせる一般の高分子化
合物が含まれる。有機錯化剤は分子中にベンゼン環を有
するカルボン酸又はカルボン酸及びスルホン酸又はそれ
らの塩類を含み、具体的にはサリチル酸とその塩、スル
ホサリチル酸とその塩、安息香酸とその塩等がある。界
面活性剤としてはアニオン系、カチオン系、非イオン系
及び両性のものがあるがその中でも非イオン系のものが
好ましく、脂肪族ポリエーテル、アルキルポリエチレン
オキサイドアルコール、ポリオキシエチレンエーテル、
アルキルアリルポリエーテル等の界面活性剤が適する。
ケイ弗酸またはこれらのアルカリ塩もしくはアンモニウ
ム塩を示し、水溶性高分子化合物は、グリコール類、ビ
ニルアルコール等のポリマーの他にゼラチン、メチルセ
ルロース等の水溶液に粘稠性をもたせる一般の高分子化
合物が含まれる。有機錯化剤は分子中にベンゼン環を有
するカルボン酸又はカルボン酸及びスルホン酸又はそれ
らの塩類を含み、具体的にはサリチル酸とその塩、スル
ホサリチル酸とその塩、安息香酸とその塩等がある。界
面活性剤としてはアニオン系、カチオン系、非イオン系
及び両性のものがあるがその中でも非イオン系のものが
好ましく、脂肪族ポリエーテル、アルキルポリエチレン
オキサイドアルコール、ポリオキシエチレンエーテル、
アルキルアリルポリエーテル等の界面活性剤が適する。
弗素化合物は、チタン表面を研磨するのに有効であるが
、その濃度が1重量%未満では、研磨性が弱く、脱スケ
ール性も低下しかつ光沢面が得られにくくなり、10重
量%以上だと研磨性が強くなりすぎて表面が粗い梨地と
なる。また、過酸化水素はチタンとはその過酸化物を作
り水溶液中で安定であり、弗素化合物との共存下におい
てもエツチングの抑制効果があられれるが、過酸化水素
の濃度が5重量%未満では、光沢化が得られず、30重
量%以上では、反応が急激に進んで、処理液が沸騰して
作業上支障をきたすとともに表面の平滑化、光沢化が低
下する。
、その濃度が1重量%未満では、研磨性が弱く、脱スケ
ール性も低下しかつ光沢面が得られにくくなり、10重
量%以上だと研磨性が強くなりすぎて表面が粗い梨地と
なる。また、過酸化水素はチタンとはその過酸化物を作
り水溶液中で安定であり、弗素化合物との共存下におい
てもエツチングの抑制効果があられれるが、過酸化水素
の濃度が5重量%未満では、光沢化が得られず、30重
量%以上では、反応が急激に進んで、処理液が沸騰して
作業上支障をきたすとともに表面の平滑化、光沢化が低
下する。
水溶性高分子化合物は、その性質である粘性が弗素化合
物の抑制剤として働き、チタン表面の光沢性と平滑性を
向上させる効果があるが、水溶性高分子化合物の濃度が
5重量%未満になると抑制効果が十分でなく、50%以
上だと抑制効果は飽和に達し無駄である。
物の抑制剤として働き、チタン表面の光沢性と平滑性を
向上させる効果があるが、水溶性高分子化合物の濃度が
5重量%未満になると抑制効果が十分でなく、50%以
上だと抑制効果は飽和に達し無駄である。
有機錯化剤は処理液中に溶は込んだチタンなどの金属イ
オンをキレート化し、浴寿命の延長と研磨効果を向上さ
せる作用があるが有機錯化剤の濃度が1重量%未満にな
ると金属イオンのキレート作用が弱く研磨効果が十分で
なく、30重量%以上では有機化合物の完全な溶解が得
られない。
オンをキレート化し、浴寿命の延長と研磨効果を向上さ
せる作用があるが有機錯化剤の濃度が1重量%未満にな
ると金属イオンのキレート作用が弱く研磨効果が十分で
なく、30重量%以上では有機化合物の完全な溶解が得
られない。
界面活性剤は、酸化膜除去の際に酸化膜へ研磨液が早く
浸透して、できるだけ短時間で酸化膜を除去し均一な研
磨面を得ることができる効果があるが、界面活性剤の濃
度が0.01重量%未満だと酸化膜への浸透が十分に得
られない、また1重量%以上だと浸透性は飽和状態とな
り、かつ発泡性が高くなり作業上好ましくない。
浸透して、できるだけ短時間で酸化膜を除去し均一な研
磨面を得ることができる効果があるが、界面活性剤の濃
度が0.01重量%未満だと酸化膜への浸透が十分に得
られない、また1重量%以上だと浸透性は飽和状態とな
り、かつ発泡性が高くなり作業上好ましくない。
更に本発明によれば光沢化を得るための処理温度は40
〜100℃の範囲であり、処理温度が低い程光沢化に欠
け、温度が100℃以上では液の安定性が著しく低下す
る。また処理時間は、酸化膜が完全にかつ均一に除去で
き光沢面を肉眼あるいは機器測定などに基づいてその範
囲を決定することができるが、一般には3〜10分の範
囲で十分これらの目的を達成できる。
〜100℃の範囲であり、処理温度が低い程光沢化に欠
け、温度が100℃以上では液の安定性が著しく低下す
る。また処理時間は、酸化膜が完全にかつ均一に除去で
き光沢面を肉眼あるいは機器測定などに基づいてその範
囲を決定することができるが、一般には3〜10分の範
囲で十分これらの目的を達成できる。
[発明の効果]
本発明によれば酸洗処理だけでチタンまたはチタン合金
の加工物の素地表面を損傷させることなく酸化膜除去と
化学研磨が同時にでき、更に加工工程の短縮化が図れ作
業効率の向上となる。
の加工物の素地表面を損傷させることなく酸化膜除去と
化学研磨が同時にでき、更に加工工程の短縮化が図れ作
業効率の向上となる。
[実施例]
以下本発明による処理効果を明らかにするためにその具
体的実施例を示す。
体的実施例を示す。
熱間加工された内径5mm、長さ15mmのチタンパイ
プを試料片とした。この試料片を第1表に示される種々
の組成を有する本発明の化学研磨液1〜5(実施例)、
従来の酸洗液1〜3(比較例)に、いずれも浸漬時間5
分、温度50℃で処理し、水洗後乾燥して得られた試料
表面の状態を肉眼で観察し、これらの効果も併せて第1
表に示した。
プを試料片とした。この試料片を第1表に示される種々
の組成を有する本発明の化学研磨液1〜5(実施例)、
従来の酸洗液1〜3(比較例)に、いずれも浸漬時間5
分、温度50℃で処理し、水洗後乾燥して得られた試料
表面の状態を肉眼で観察し、これらの効果も併せて第1
表に示した。
この結果、本発明による化学研磨液はいずれも従来の酸
洗液に比べて減耗量が小さく、素地おれもなく光沢を有
するチタンバイブが得られた。
洗液に比べて減耗量が小さく、素地おれもなく光沢を有
するチタンバイブが得られた。
Claims (7)
- (1)チタンまたはチタン合金の加工物を弗素化合物、
過酸化水素、水溶性高分子化合物、有機錯化剤、及び界
面活性剤を含有する混合水溶液に浸漬することを特徴と
する化学研磨方法。 - (2)水溶液中の弗素化合物の1種以上を1〜10重量
%含有する特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (3)水溶液中の過酸化水素を5〜30重量%含有する
特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (4)水溶液中の水溶性高分子化合物の1種以上を1〜
50重量%含有する特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (5)水溶液中の有機錯化剤の1種以上を1〜30重量
%含有する特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (6)水溶液中の界面活性剤の1種以上を0.01〜1
重量%含有する特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (7)水溶液中の浸漬温度が、40〜100℃である特
許請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10029688A JPH01272785A (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | チタンまたはチタン合金の化学研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10029688A JPH01272785A (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | チタンまたはチタン合金の化学研磨方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01272785A true JPH01272785A (ja) | 1989-10-31 |
Family
ID=14270210
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10029688A Pending JPH01272785A (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | チタンまたはチタン合金の化学研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01272785A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000066808A1 (fr) * | 1999-04-30 | 2000-11-09 | Yury Vyacheslavovich Kislyakov | Procede de traitement chimique d'articles faits de titane ou d'alliages de celui-ci |
EP1035446A3 (en) * | 1999-03-08 | 2001-04-18 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist stripping composition and process for stripping resist |
WO2005017230A1 (ja) * | 2003-08-19 | 2005-02-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | チタン含有層用エッチング液およびチタン含有層のエッチング方法 |
EP1793016A1 (de) * | 2005-12-01 | 2007-06-06 | Elpochem AG | Polier- und Entgratungsmittel für Werkstücke aus Kohlenstoffstahl und Verfahren zum chemischen Polieren und Entgraten |
JP2009044129A (ja) * | 2007-07-13 | 2009-02-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 窒化チタン剥離液、及び窒化チタン被膜の剥離方法 |
JP2009209430A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | チタン除去液及びチタン被膜の除去方法 |
JP2009209431A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | チタン除去液及びチタン被膜の除去方法 |
US8623236B2 (en) | 2007-07-13 | 2014-01-07 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Titanium nitride-stripping liquid, and method for stripping titanium nitride coating film |
US9831088B2 (en) | 2010-10-06 | 2017-11-28 | Entegris, Inc. | Composition and process for selectively etching metal nitrides |
CN108611643A (zh) * | 2018-04-24 | 2018-10-02 | 东北大学 | 一种激光增材制造异形钛合金的化学抛光液及抛光方法 |
KR101965225B1 (ko) * | 2017-12-06 | 2019-04-03 | 윤재호 | 티타늄 부품의 무전해 연마방법 |
-
1988
- 1988-04-25 JP JP10029688A patent/JPH01272785A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1035446A3 (en) * | 1999-03-08 | 2001-04-18 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist stripping composition and process for stripping resist |
KR100694924B1 (ko) * | 1999-03-08 | 2007-03-14 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 레지스트 박리조성물 및 레지스트 박리방법 |
WO2000066808A1 (fr) * | 1999-04-30 | 2000-11-09 | Yury Vyacheslavovich Kislyakov | Procede de traitement chimique d'articles faits de titane ou d'alliages de celui-ci |
WO2005017230A1 (ja) * | 2003-08-19 | 2005-02-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | チタン含有層用エッチング液およびチタン含有層のエッチング方法 |
EP1793016A1 (de) * | 2005-12-01 | 2007-06-06 | Elpochem AG | Polier- und Entgratungsmittel für Werkstücke aus Kohlenstoffstahl und Verfahren zum chemischen Polieren und Entgraten |
JP2009044129A (ja) * | 2007-07-13 | 2009-02-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 窒化チタン剥離液、及び窒化チタン被膜の剥離方法 |
US8623236B2 (en) | 2007-07-13 | 2014-01-07 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Titanium nitride-stripping liquid, and method for stripping titanium nitride coating film |
JP2009209430A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | チタン除去液及びチタン被膜の除去方法 |
JP2009209431A (ja) * | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | チタン除去液及びチタン被膜の除去方法 |
US9831088B2 (en) | 2010-10-06 | 2017-11-28 | Entegris, Inc. | Composition and process for selectively etching metal nitrides |
KR101965225B1 (ko) * | 2017-12-06 | 2019-04-03 | 윤재호 | 티타늄 부품의 무전해 연마방법 |
CN108611643A (zh) * | 2018-04-24 | 2018-10-02 | 东北大学 | 一种激光增材制造异形钛合金的化学抛光液及抛光方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1218584A (en) | Method for refinement of metal surfaces | |
JP4538490B2 (ja) | アルミニウム又はアルミニウム合金上の金属置換処理液及びこれを用いた表面処理方法 | |
CN107254683B (zh) | 一种钢制件的强力除锈剂及其使用方法 | |
CA1215018A (en) | Process for treating al alloy casting and die casting | |
JP2001247986A (ja) | アルミニウムのスマット除去用組成物 | |
JPH01272785A (ja) | チタンまたはチタン合金の化学研磨方法 | |
TWI718527B (zh) | 用於多種金屬上的近中性pH浸洗液及浸洗一表面以移除其上之金屬氧化物的方法 | |
US3140203A (en) | Method of and composition for treating aluminum and aluminum alloys | |
JPH0797693A (ja) | 汚れおよび酸化物除去用液状組成物および方法 | |
JPS634100A (ja) | 金属表面の電気化学的研磨用電解液 | |
JP2008095192A (ja) | ニオブ及びタンタルの電解研磨方法 | |
US20080210342A1 (en) | Anodic oxidation coating remover composition and method of removing anodic oxidation coatings | |
CA1056702A (en) | Composition and method for cleaning aluminum at low temperatures | |
US3951681A (en) | Method for descaling ferrous metals | |
US3510430A (en) | Compositions for treating aluminum surfaces | |
JPS6212311B2 (ja) | ||
KR101131146B1 (ko) | 디스머트 처리용 조성물과 이를 이용한 알루미늄 합금의 디스머트 처리방법 | |
KR101507241B1 (ko) | 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 배럴 연마하면서 화성 처리하는 생산 방법 | |
JP2020513481A (ja) | フッ素化酸化合物、組成物および使用方法 | |
US3197340A (en) | Composition and method for cleaning aluminum castings | |
US3524817A (en) | Method and compositions for chemically polishing zinc | |
JPH0454749B2 (ja) | ||
JPS6148583A (ja) | スケ−ル除去剤 | |
US2431595A (en) | Method for cleaning aluminum | |
CN115198275B (zh) | 一种砂面铝合金掩蔽剂及其制备方法和应用 |