KR101507241B1 - 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 배럴 연마하면서 화성 처리하는 생산 방법 - Google Patents

마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 배럴 연마하면서 화성 처리하는 생산 방법 Download PDF

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Abstract

[과제]
마그네슘 합금의 성형체로 하는 피가공물을, 배럴 연마를 하면서 표면 처리를 실시하여, 표면 처리의 공정을 현저하게 단축시키고 비용 저감에 기여하는 것을 목적으로 한다.
[해결 수단]
배럴에 입자상의 연마재, 콤파운드 및 물을 넣고, 추가로 옥살산 또는 시트르산 혹은 옥살산과 시트르산을 첨가하고, 수용액의 PH 를 3 이상 6 이하로 하여 워크를 연마하면서 화성 처리를 실시하는 것을 특징으로 한다.

Description

마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 배럴 연마하면서 화성 처리하는 생산 방법{PRODUCING METHOD TO PERFORM A CHEMICAL CONVERSION TREATMENT WHILE BARREL POLISHING A MOLDED PRODUCT MADE OF MAGNESIUM ALLOY}
본 발명은, 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 배럴 연마하면서 화성 처리를 실시하는 방법에 관한 것이다.
본원 발명자는, 주로 수송 기기 관계의 금속 부품의 표면 연마를 업으로서 실시하고 있는 회사를 경영하고 있다. 최근 들어 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 피가공물 (이하, 워크라고 한다) 로서 연마하는 업무도 증가하고 있다. 마그네슘 합금이란 마그네슘을 주성분으로 하는 합금을 말하며, 이하, 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품도, 마그네슘 합금이라고 한다. 마그네슘은, 현실에서 사용되는 금속 중에서 가장 가볍고, 열 전도도도 높아 방열성이 양호하며, 리사이클도 수지와 비교하여 우수한 점에서 자동차 부품 등에 널리 이용되고, 또한 전자파 실드성이 있기 때문에, 휴대 전화, 노트북 PC 의 케이싱으로서도 많이 채용되고 있다. 그러나, 마그네슘의 연마, 특히 버프 연마에서는 마그네슘의 분진이 공중에 비산되어 분진 폭발의 위험성도 있어, 가능한 한 습식 방법의 배럴 연마에 의한 방법이 바람직하다. 습식 배럴에 의하면, 마그네슘의 분진이 공중에 비산되지 않고, 수중에 흡수되기 때문이다.
배럴 연마란, 워크를 배럴 (통) 안에 입자상의 연마재, 매재 (媒材) (이하, 콤파운드라고 한다) 를 물과 함께 넣고, 배럴을 회전·상하 운동시킴으로써 워크를 연마하는 방법이지만, 워크를 입자상의 연마재, 콤파운드 및 물이 들어간 배럴 안에서 회전·상하 운동시켜 연마하는 방법도 포함된다. 배럴에는 물을 넣는 것이 일반적이며, 물을 사용하는 것으로부터 습식 배럴이라고도 불린다.
도 1 에, 워크를 입자상의 연마재, 콤파운드 및 물이 들어간 배럴조 내에서 회전·상하 운동시켜 연마하는 배럴 연마기의 개략도를 나타낸다.
받침대 (2) 상의 지지 기둥 (21) 에 리프터 (22) 가 장착되고, 이동판 아암 (24) 과 진자 운동 실린더 (5) 가 고정된 리프터 이동판 (23) 이 지지 기둥 (21) 을 따라 상하로 슬라이드한다. 이동판 아암 (24) 에는, 경사판 (3) 과 상하 슬라이드판 (31) 이 부착되어 있다. 경사판 (3) 에는, 상하 슬라이드판 (31) 과 상하 슬라이드판 (31) 을 상하로 운동시키는 상하 운동 실린더 (4) 가 부착되고, 상하 슬라이드판 (31) 에는, 워크 (7) 를 파지 (把持) 하여 회전시키는 자전축 (32) 과 이 자전축 (32) 을 회전시키는 자전축 구동 모터 (33) 가 부착되어 있다. 진자 운동 실린더 (5) 는, 경사판 (3) 에 연결되고, 진자 운동 실린더 (5) 의 신축에 의해, 경사판 (3) 은 전후의 진자 운동을 일으키고, 자전축 (32) 도 전후의 진자 운동을 일으킨다.
파선은 워크가 하강하여 배럴조에 들어간 상태를 나타낸다. 도 1 에서는 진자 운동은, 전후 운동에 한정되어 있지만, 도시하지는 않지만 이동판 아암에 좌우의 움직임을 일으키는 실린더를 부착함으로써, 좌우의 진자 운동도 가능해진다. 또한, 여기서는 배럴을 특별히 배럴조라고 하고 있다.
연마 공정에는, 크게 나누면 초벌 연마와 마무리 연마가 있으며, 연마재의 입자의 크기 및 재질에 따라 초벌 연마용과 마무리 연마용으로 나누어져 있다. 연마재의 재질로는, 모래, 플라스틱, 세라믹 등이 있다. 콤파운드는 액상이며, 계면 활성제 외에, 지방산염, 아질산염, IPA 등이 포함되어 있다. 이 콤파운드는, 물에 대하여 0.1 ∼ 0.5 % 의 비율로 첨가되며, 워크 표면의 광택을 내는 기능도 가지고 있다.
마그네슘 합금의 표면 처리는, 버프 연마 혹은 배럴 연마한 후, 일반적으로는, 도 2 에 나타내는 공정을 거쳐 실시된다. 연마된 워크는, 탈지 공정으로 표면의 지분 (脂分) 을 제거한다. 다음의 에칭 공정에 의해, 워크의 표면을 화학적으로 균일하게 한다. 에칭제로는, 인산, 염산 등이 사용된다. 다음으로 화성 처리가 실시된다. 화성 처리란 표면 처리의 하나로, 금속의 표면에 인산 등의 처리제를 작용시켜 화학 반응을 일으켜, 내식성이나 도료와의 밀착성 등, 원래의 소재와는 다른 성질을 금속 표면에 부여하는 처리이다.
양극 산화나 인산염에 의한 피막 형성 등이 있다.
상기와 같이, 워크인 마그네슘 합금의 표면 처리는, 많은 공정을 필요로 하여, 비용 상승의 요인이 되고 있다. 거래 회사 등으로부터의 비용 다운의 요청도 있어, 본원 발명자는 마그네슘 합금의 표면 처리 방법에 대하여 연구하고 있었다. 마그네슘은, 이온화 경향이 금속 나트륨 다음으로 높아, 부식성이 격렬하다. 다시 말하면, 마그네슘은 약산성에서도 반응하게 된다. 이 점에 주목한 본원 발명자는, 무기 산에 비하여 폐수 처리가 비교적 용이한 유기 산인 옥살산, 시트르산 용액에 주목하고, 마그네슘 시험편을 투입하면 시험편 표면에 기포가 발생하는 반응을 볼 수 있었다. 이 반응은 도 3 에 나타내는 것이라고 추찰된다. 추찰된다고 한 것은, 시트르산은 킬레이트제로서 사용되는 경우도 있어 양이온과의 반응은 불명한 점도 많아 도 3 의 시트르산의 반응식 (1), (2) 는 추정인 것이다.
옥살산, 시트르산 용액에 침지시킨 마그네슘 시험편을 관찰하면 그 표면에는 피막이라고 생각되는 것이 발생한 것을 관찰할 수 있었다. 옥살산 및 시트르산의 마그네슘과의 금속염은 용해도가 낮아 피막이 발생한 것으로 생각되었다. 또한, 옥살산, 시트르산이 용해된 폐수의 처리는, 불산, 인산이 용해된 폐수에 비하여 시간이 걸리지 않는다는 이점도 있었다.
그래서, 본원 출원인은, 사내에서 사용하고 있는 입자상의 연마재, 콤파운드, 물을 배럴에 넣고, 거기에 옥살산, 시트르산을 각각 첨가하여 PH 를 약 4 로 하고, 시험적으로 배럴 연마한 결과, 연마와 동시에 화성 처리를 할 수 있는 것이 지견되었다. 그래서, 배럴 연마와 동시에 화성 처리를 실시하는 방법의 선행 기술을 조사하면 이하와 같은 인용 문헌을 볼 수 있었다.
간략화된 처리 공정에 의해, 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품의 표면에, 내식성 및 수지 도막 밀착성이 우수한 화성 처리 피막을, 효율적으로 형성할 수 있는 방법으로서, 연마 입자를 함유하는 화성 처리액 인산을 이용하여, 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품의 표면을 연마하면서 화성 처리하여, 상기 성형품의 표면에 화성 처리 피막을 형성하는 방법 (특허문헌 1), 금속 또는 비금속의 표면 상의 유지, 녹, 먼지 등의 이물질의 제거와 인산염 처리를 동시에 1 단계로 실시하고, 전처리 공정을 생략화하여, 신속하고 간편하게 처리를 실시하는 표면 처리 방법으로서, 금속 또는 비금속의 표면을, 인산염을 이용하여 물리적 수단에 의해 그 표면을 연마하고, 동시에 그 표면을 상기 인산염으로 피복하여, 피막을 형성시키는 것을 특징으로 하는 금속 또는 비금속의 표면 처리 방법 (특허문헌 2), 알루미늄 합금 및 마그네슘 합금에서 선택된 적어도 1 종의 합금의 성형체의 표면을 도장 전에 화성 처리하는 방법에 있어서, 이하의 공정: (가) 배럴 연마 장치에, 상기 성형체와 함께 pH 7 미만의 에칭액 및 연마제를 투입하여, 그 에칭액의 pH 가 중화된 시점 경과 후 적어도 15 초까지 상기 성형체의 연마를 실시하는 배럴 연마 공정; (나) 상기 성형체를 수세하는 공정 ; (다) 상기 성형체에 피막을 생성하는 공정; 및 (라) 상기 성형체를 건조시키는 공정, 을 포함하는 화성 처리 방법 (특허문헌 3) 등이 있다. 또한 마그네슘의 저전기 저항성 피막 처리물 및 그 표면 처리 방법으로서, 마그네슘 함유 금속재에 대하여, 산 및/또는 약알칼리 용액에 의한 에칭 처리를 실시하고, 그 후에 칼슘 이온, 망간 이온 및 인산 이온을 포함하고, 또한 산화 처리제를 함유하는 화성 처리제 용액에 의한 화성 처리를 실시하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 방법이 있다 (특허문헌 4).
하기 각 특허문헌에 있어서, 특허문헌 1 및 특허문헌 2 는 표면의 연마를 하면서 화성 처리를 실시하는 것이지만, 모든 발명이 인산을 화성 처리제로서 사용하고 있다. 특허문헌 3 도 배럴 연마를 하면서 화성 처리를 실시하는 것이지만, 에칭액으로서 인산, 질산, 불산, 염산 등을 사용하는 것이다. 어느 특허문헌에 있어서도, 화성 처리제로서 옥살산, 시트르산을 사용하는 것은 아니다. 또한, 특허문헌 4 는, 마그네슘 합금에 대한 화성 처리제에 관한 발명으로 본원의 과제와는 상이하다.
일본 공개특허공보 2006-169580호 일본 공개특허공보 평10-315137호 일본 공개특허공보 2004-10998호 일본 공개특허공보 2000-96255호
그런데, 본원의 해결하고자 하는 문제점은, 마그네슘 합금의 성형품에 대하여, 배럴 연마를 하면서 표면 처리를 실시하여, 표면 처리의 공정을 대폭 단축시키고, 비용 저감에 기여하는 것을 목적으로 하는 것이다.
본원 발명은, 마그네슘 합금의 워크를 배럴 연마하는 경우에, 배럴에 입자상의 연마재, 콤파운드 및 물을 넣고, 추가로 옥살산 또는 시트르산 혹은 옥살산과 시트르산을 첨가하고, 워크를 연마하면서 화성 처리를 실시하는 것을 특징으로 한다.
즉 제 1 발명은, 피가공물인 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 배럴 연마와 화성 처리를 동시에 하기 위해서, 배럴조에 입자상의 연마재, 콤파운드 및 물을 넣고, 추가로 옥살산 혹은 시트르산, 또는 옥살산과 시트르산을 첨가하고, 배럴 내의 수용액의 PH 를 3 이상 6 이하로 하여 소정 시간 배럴 연마를 하면서 화성 처리를 실시하는 방법이다.
배럴 연마, 입자상의 연마재, 콤파운드는, 전술한 바와 같다. 배럴 연마에는, 크게 나누면 초벌 연마와 마무리 연마가 있지만, 배럴 연마와 화성 처리를 동시에 실시하기 때문에, 마무리 연마에 속한다. 배럴조라고 한 것은, 배럴만이어도 되지만 물을 저장하는 용기라고 표현하기 위함이다.
옥살산의 구조식은 HOOC-COOH 로, 체내에서 혈액 중의 칼슘 이온과 강하게 결합하기 때문에 독성이 있고, 독물 및 극물 단속법에 의해 의약용 외 극물로 지정되어 있기 때문에 그 취급에는 주의가 필요하다. 상온에서는 무색의 결정이며, 물에 대한 용해도는 약 10 g/100 ㏄ 이다. 카르복실기를 갖기 때문에 수용액 중에서는 전리되어 2 가의 산으로서 작용을 나타낸다. 약산으로서 분류되는 경우가 많지만, 인산 등보다 산해리 정수 (定數) 는 높다.
시트르산의 화학식은, C6H8O7 이며 구조식은 도 3 에 나타낸다. 카르복실기를 3 개 갖는 약산으로, 수용액은 약산성을 나타낸다. 상온에서 무색 혹은 백색의 고체이며, 무수물과 1 수화물의 결정이 있다. 금속 이온과 킬레이트 착물을 만드는 것이 알려져 있다. 물에 대한 용해도는 73 g/100 ㏄ 이다. 금속 이온과 킬레이트 착물을 만드는 점에서 도 3 의 시트르산과 마그네슘의 반응식은, 중복하지만 추찰의 영역이다.
배럴 연마의 시간은 워크의 재질, 형상 혹은 요구되는 표면의 평활함에 따라 달라진다. 10 분으로 충분한 워크도 있고 30 분 필요한 워크도 있다. 배럴 연마 시간이 긴 경우, PH 가 낮으면 워크가 필요 이상으로 에칭될 우려도 있고, 연마 시간에 맞추어 PH 를 결정하기 때문에, PH 를 3 이상 6 이하로 폭을 갖게 하는 것이다.
옥살산 혹은 시트르산, 또는 옥살산과 시트르산으로 한 것은, 피막 상에 덧칠하는 도료와의 상성 (相性), 예를 들어 내식성, 밀착성에 따라 어느 것을 선택할 수 있기 때문이며, 또한 이들에 한정한 것은 폐수의 처리가 다른 화성 처리제와 비교하여 용이하기 때문이다. 배럴 내의 수용액으로 한 것은, 콤파운드와 옥살산 혹은 시트르산 또는 콤파운드와 옥살산 및 시트르산이 용해되어 있기 때문이다.
제 1 발명에 의하면, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 도 2 에 나타내는 일반적인 공정과 비교하여 대폭으로 공정을 단축할 수 있다.
계속해서 제 2 발명은, 제 1 발명에 있어서, 배럴 내의 수용액을 일정한 PH 역으로 유지하기 위해서, 미리 조제한 옥살산 용액 혹은 시트르산 용액 또는 소정의 비율로 옥살산과 시트르산을 용해한 혼합 용액을, PH 유지 장치에 의해 배럴조의 수용액에 첨가하면서, 소정 시간 배럴 연마를 하면서 화성 처리를 실시하는 방법이다.
배럴 연마에서는, 소정 수량을 배럴조에 투입하고 배럴 연마를 실시하지만, 그때마다 배럴 내의 수용액을 갱신하는 예는 적으며, 배럴 연마가 종료된 워크를 배럴조로부터 꺼내어, 새로운 워크를 배럴조에 투입하여 배럴 연마가 실시된다. 그 때문에, 옥살산, 시트르산은 마그네슘 합금과 반응하고, 배럴 내의 수용액의 PH 는 상승되어 간다. 그래서, PH 유지 장치에 의해, 옥살산 용액 혹은 시트르산 용액 또는 소정의 비율로 옥살산과 시트르산을 용해시킨 혼합 용액을 배럴조에 첨가하여 배럴 내의 수용액의 PH 를 일정 범위로 유지하는 것이다. 옥살산, 시트르산은 전술한 바와 같이 수용성이며 수용액으로서 배럴조에 첨가하는 편이 고체인 채로 첨가하는 것보다 취급이 용이하기 때문이다.
PH 유지 장치의 일례를 도 5 에 나타낸다. 배럴조 (6) 내의 수용액의 PH 값이 PH 미터 (81) 로부터 PC (8) 에 보내지고, 그 수치로부터 옥살산 혹은 시트르산의 보급 (補給) 이 필요하다고 판단된 경우에는, PC (8) 로부터 컨트롤러 (82) 에, 그 지시가 보내지고, 컨트롤러 (82) 는 옥살산 수용액 탱크 (61) 혹은 시트르산 수용액 탱크 (62) 의 전자 밸브 (63) 를 열고, 옥살산 용액 혹은 시트르산 용액이 배럴조로 보내진다. 배럴조 내의 수용액의 PH 는, PH 미터에 의해 항상 계측되고, PH 가 낮아져 소정의 PH 값이 되면 전자 밸브 (63) 가 닫혀 옥살산 혹은 시트르산의 공급이 중단된다. 이 흐름은 미리 내장된 프로그램에 의해 실시된다. PH 유지 장치란, 배럴 내의 수용액을 일정한 PH 역으로 유지하기 위해서 옥살산 혹은 시트르산 또는 옥살산과 시트르산을 자동적으로 배럴조에 보내는 일련의 장치를 말하는 것이다. 도 5 에서는 옥살산 용액 탱크 (61) 와 시트르산 용액 탱크 (62) 가 기재되어 있지만, 어느 1 개의 탱크로 충분한 경우도 있고, 또한 옥살산과 시트르산의 혼합 용액을 조제하여 1 개의 탱크에 저장하는 경우도 있다. 일정한 PH 역으로 한 것은, PH 의 관리 폭을 갖게 하기 위함이다.
또한, PH 전극이 유리 (glass) 인 경우에는, 연마재나 워크에 의해 유리가 파손될 우려가 있어, 배럴조 내에 수용액만이 들어가는 유리 전극용의 설치 장소가 필요하다. 예를 들어, 상하면이 개방된 스테인리스제 파이프를 배럴조 내 벽면에 부착하고, 거기에 유리 전극을 넣는 방법 등을 생각할 수 있다.
계속해서, 제 3 발명은, 제 1 발명 또는 제 2 발명의 방법에 의해 화성 처리되고 추가로 덧칠 도장한 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품이다.
제 1 발명 및 제 2 발명의 방법에 의해 화성 처리된 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 보호하기 위함이다.
제 1 발명에서는, 피가공물인 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 배럴 연마와 화성 처리를 동시에 하기 때문에, 공정을 대폭적으로 단축할 수 있음과 함께, 옥살산, 시트르산을 화성 처리제로서 사용하기 때문에, 폐수 처리가 용이해진다. 제 2 발명에서는, 배럴 내의 수용액의 PH 를 일정하게 유지할 수 있어 안정적인 화성 처리가 가능해진다. 제 3 발명은, 제 1 발명 또는 제 2 발명의 방법에 의해 화성 처리되고 추가로 덧칠 도장한 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 보호 대상으로 하는 것이다.
도 1 은 배럴 연마기의 개략도이다.
도 2 는 표면 처리의 일반적 공정도이다.
도 3 은 마그네슘과 옥살산, 시트르산의 반응을 나타내는 식이다.
도 4 는 배럴 연마하면서 화성 처리를 하는 경우의 공정도이다.
도 5 는 PH 유지 장치의 개략도이다.
도 6 은 밀착성 시험의 결과표이다.
이하에 실시예를 나타낸다.
[실시예 1]
이하와 같은 예비 시험을 실시하였다.
(1) 옥살산 5 g 을 1 Liter (이하 ℓ 라고 한다) 의 물에 녹이고 (A 액이라고 한다) 마그네슘 시험편을 투입하면, 표면에 수소 기포가 발생하여 화학 반응하고 있는 것을 볼 수 있었다. 시험편을 꺼내어, 그 표면을 관찰하면 화성 피막이 발생하여 있었다. A 액의 PH 는 약 2.5 였다.
(2) 시트르산 5 g 을 1 ℓ 의 물에 녹이고 (B 액이라고 한다) 마그네슘 시험편을 투입하면, 표면에 수소 기포가 발생하여 화학 반응하고 있는 것을 볼 수 있었다. 동일하게 시험편을 꺼내어, 그 표면을 관찰하면 화성 피막이 발생하여 있었다. B 액의 PH 는 약 3 이었다.
(3) 일상에서 사용하고 있는 콤파운드 10 ㏄ 를 물 10 ℓ 에 용해시킨 (C 액이라고 한다) C 액의 PH 는 약 8 이었다. C 액은 3 개 준비하였다.
(4) A 액 0.5 ℓ 를 C 액에 첨가한 결과, C 액은 조금 백탁 (白濁) 되었다. 이 때의 C 액의 PH 는 약 3.5 였다. 이 A 액을 첨가한 C 액에 연마재와 마그네슘 합금의 시험편을 투입하고, 약 10 분간 교반하였다.
(5) 동일하게 B 액 0.5 ℓ 를 C 액에 첨가한 결과, C 액은 조금 백탁되었다. 이 때의 C 액의 PH 는 약 4 였다. 이 B 액을 첨가한 C 액에 연마재와 마그네슘 합금의 시험편을 투입하고, 약 10 분간 교반하였다.
(6) 동일하게 A 액 0.25 ℓ, B 액 0.25 ℓ 를 C 액에 첨가한 결과, C 액은 조금 백탁되었다. 이 때의 C 액의 PH 는 약 3.5 였다. 이 A 액과 B 액을 첨가한 C 액에 연마재와 마그네슘 합금의 시험편을 투입하고, 약 10 분간 교반하였다.
또한, C 액에 A 액, B 액 및 A 액과 B 액의 혼합액을 첨가했을 때, C 액은 백탁되지만, 1 ∼ 2 분 교반하면 백탁은 소실되었다.
(7) 상기 (4), (5), (6) 으로 화성 처리한 시험편을 드라이어로 건조시키고 분무 도장을 실시하였다.
[실시예 2]
상기 분무 도장을 실시한 시험편에 대하여, 밀착성 시험을 실시하였다. 밀착성 시험이란, 시험면에 커터 나이프를 이용하여, 소지 (素地) 에 달하는 11 개의 잘린 흠집을 서로 직각으로 내어 100 개의 크로스 컷을 만든다. 잘린 흠집의 간격은 1 ㎜ 로 한다. 크로스 컷 부분에 셀로판 테이프를 강하게 압착시킨 후 한번에 박리하고, 100 개의 크로스 컷 중 도막이 박리된 개수를 세는 것으로, 크로스 컷 테스트라고도 한다. 크로스 컷 테스트의 결과를 도 6 에 나타낸다. 도 6 의 A 액+C 액, B 액+C 액, A 액·B 액+C 액은, 상기 (4), (5), (6) 의 방법으로 제조한 시험편으로, 각각 시험편을 3 장 준비하였다. 도 6 으로부터도, 탈지한 후 덧칠 도장한 시험편과 비교하여, 배럴 연마하면서 화성 처리한 시험편이 밀착성이 우수한 것을 알 수 있다.
본원은, 배럴 연마를 하면서 화성 처리 실시하는 것으로, 지금까지의 공정을 대폭 단축할 수 있다. 또한 화성 처리에 사용하는 약품도 옥살산, 시트르산으로 그 폐수 처리도 용이하다. 대폭적인 비용 다운이 되어, 수요가 기대된다.
1 ; 배럴 연마 장치
2 ; 받침대
21 ; 지지 기둥
22 ; 리프터
23 ; 리프터 이동판
24 ; 이동판 아암
3 ; 경사판
31 ; 상하 슬라이드판
32 ; 자전축
33 ; 자전축 구동 모터
34 ; 워크 파지부
4 ; 상하 운동 실린더
5 ; 진자 운동 실린더
6 ; 배럴조
61 ; 옥살산 수용액 탱크
62 ; 시트르산 수용액 탱크
63 ; 전자 밸브
7 ; 워크
8 ; PC
81 ; PH 미터
82 ; 컨트롤러

Claims (3)

  1. 피가공물인 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품을 배럴 연마와 화성 피막 생성을 동시에 하기 위해서, 배럴조에 입자상의 연마재, 콤파운드 및 물을 넣고, 추가로 화성 피막 생성을 위한 시트르산을 첨가하고,
    배럴 내의 수용액의 PH 를 3 이상 6 이하로 유지하여 소정 시간 배럴 연마를 하면서 화성 피막 생성을 실시하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    배럴 내의 수용액을 일정한 PH 역으로 유지하기 위해서, 미리 조제한 시트르산 용액을, PH 유지 장치에 의해 배럴조의 수용액에 첨가하면서, 소정 시간 배럴 연마를 하면서 화성 피막 생성을 실시하는 방법.
  3. 삭제
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