JPH01272542A - アルデヒド又はケトンとアルデヒドとの混合物の製造方法 - Google Patents
アルデヒド又はケトンとアルデヒドとの混合物の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、α−オレフィンと一酸化炭素と水素との反応
によりアルデヒド又はケトンとアルデヒドとの混合物を
製造するためのロジウム触媒によるヒドロカルボニル化
法に関し、より詳細には比較的長寿命を有する酸含有触
媒を用いてアルデヒド又はケトンとアルデヒドとの混合
物を製造するためのロジウム触媒による方法に関するも
のである。ヒドロアシル化及びヒドロホルミル化を、本
明細書では総合して「ヒドロカルボニル化」と称する。
によりアルデヒド又はケトンとアルデヒドとの混合物を
製造するためのロジウム触媒によるヒドロカルボニル化
法に関し、より詳細には比較的長寿命を有する酸含有触
媒を用いてアルデヒド又はケトンとアルデヒドとの混合
物を製造するためのロジウム触媒による方法に関するも
のである。ヒドロアシル化及びヒドロホルミル化を、本
明細書では総合して「ヒドロカルボニル化」と称する。
「ヒドロホルミル化」と言う用語は、アルデヒドを製造
するためのα−オレフィンと一酸化炭素と水素との反応
に適用される。α−オレフィンと一酸化炭素と水素との
反応によるケトンの製造は「ヒドロアシル化」と呼ばれ
る。ケトンの他に、この種のヒドロアシル化法は本質的
に種々の量のアルデヒド生成物をも生成する。
するためのα−オレフィンと一酸化炭素と水素との反応
に適用される。α−オレフィンと一酸化炭素と水素との
反応によるケトンの製造は「ヒドロアシル化」と呼ばれ
る。ケトンの他に、この種のヒドロアシル化法は本質的
に種々の量のアルデヒド生成物をも生成する。
[従来の技術]
ヒドロカルボニル化触媒は、比較的低い圧力及び温度に
て許容うる反応速度を与える他に、その使用を経済上可
能にするのに充分な長時間の工程操作にわたり良好な触
媒活性を与える。ざらにヒドロアシル化法の場合、触媒
は特定用途に必要とされる程度のケトン選択性をも与え
る。許容しうるケトン選択性のレベルは広範に変化する
ことができかつ生成されるアルデヒドとケトンとに対し
5小量%程度に低いケトン収率から、生成されるアルデ
ヒドとケトンとに対し40重量%若しくはそれ以上まで
のケトン収率の範囲とすることができる。
て許容うる反応速度を与える他に、その使用を経済上可
能にするのに充分な長時間の工程操作にわたり良好な触
媒活性を与える。ざらにヒドロアシル化法の場合、触媒
は特定用途に必要とされる程度のケトン選択性をも与え
る。許容しうるケトン選択性のレベルは広範に変化する
ことができかつ生成されるアルデヒドとケトンとに対し
5小量%程度に低いケトン収率から、生成されるアルデ
ヒドとケトンとに対し40重量%若しくはそれ以上まで
のケトン収率の範囲とすることができる。
英国特許用1,181,806号公報は、脂肪族、置換
脂肪族、芳香族若しくは置換芳香族のカルボン酸から誘
導された少なくとも1種のカルボキシレート配位子を含
有する一価ロジウムの平方面状(square pla
nar )錯体の存在下でα−オレフィンと一酸化炭素
と水素とを反応させるアルコール類及び(又は)アルデ
ヒド類の製造方法を開示しており、ここで選択されるカ
ルボン酸は酢酸、プロピオン酸、ピバリン酸及びイソ醋
酸である。ざらに英国特許用1,181,806号は、
この平方面状ロジウム鏡体が少なくとも1種のトリアル
キルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキ
ルアルシン、トリアリールアルシン、トリアルキルスチ
ルベン、トリアリールスチルベン、ピリジン若しくはア
ミンをも含みうろことを開示している。
脂肪族、芳香族若しくは置換芳香族のカルボン酸から誘
導された少なくとも1種のカルボキシレート配位子を含
有する一価ロジウムの平方面状(square pla
nar )錯体の存在下でα−オレフィンと一酸化炭素
と水素とを反応させるアルコール類及び(又は)アルデ
ヒド類の製造方法を開示しており、ここで選択されるカ
ルボン酸は酢酸、プロピオン酸、ピバリン酸及びイソ醋
酸である。ざらに英国特許用1,181,806号は、
この平方面状ロジウム鏡体が少なくとも1種のトリアル
キルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキ
ルアルシン、トリアリールアルシン、トリアルキルスチ
ルベン、トリアリールスチルベン、ピリジン若しくはア
ミンをも含みうろことを開示している。
この英国特許の好適触媒は式:
%式%
[式中、R,R’、k及びR″′はアルキル若しくはア
リール基であって、その任意の個数を同一とすることが
できる〕 の化合物である。開示された反応条件は60〜200℃
の温度及び300〜1o、 ooops r gの圧力
を包含する。この特許は適する触媒としてロジウムビス
−(トリーn−アルキルホスフィン)カルボニルカルボ
キシレート及びロジウムビス−(トリーn−アルキルア
ミン)カルボニルカルボキシレートを例示しており、こ
れらは全て1のカルボン酸とロジウムとのモル比を有す
る。
リール基であって、その任意の個数を同一とすることが
できる〕 の化合物である。開示された反応条件は60〜200℃
の温度及び300〜1o、 ooops r gの圧力
を包含する。この特許は適する触媒としてロジウムビス
−(トリーn−アルキルホスフィン)カルボニルカルボ
キシレート及びロジウムビス−(トリーn−アルキルア
ミン)カルボニルカルボキシレートを例示しており、こ
れらは全て1のカルボン酸とロジウムとのモル比を有す
る。
ざらにこの英国特許の平方面状化合物は、その赤外スペ
クトルにおいて1970cm−1に特徴的ピークを有す
ることを特徴とする。比較目的で、t rans−Rh
(02 008 H4 p−NO2)−(cO)((
ce H5 )3 P)2 、すなわち1970cm−
1に特徴的ピークを有する平方面状化合物の赤外スペク
トル(スペクトルB)、及び少なくとも約2のカルボン
酸とロジウムとのモル比を有する本発明の単離しうる錯
中間体の赤外スペクトル(スペクトルA)を添付第1図
に示す。第1図に示されたように、スペクトルAは、英
国特許用1、181,806号における平方面状ロジウ
ム化合物の特徴でおる1970cm−1におけるピーク
を欠如している。使用に際し、この英国特許用1,18
1.806@により例示された触媒は、比較的短時間の
操作の後に失活する傾向を有する。
クトルにおいて1970cm−1に特徴的ピークを有す
ることを特徴とする。比較目的で、t rans−Rh
(02 008 H4 p−NO2)−(cO)((
ce H5 )3 P)2 、すなわち1970cm−
1に特徴的ピークを有する平方面状化合物の赤外スペク
トル(スペクトルB)、及び少なくとも約2のカルボン
酸とロジウムとのモル比を有する本発明の単離しうる錯
中間体の赤外スペクトル(スペクトルA)を添付第1図
に示す。第1図に示されたように、スペクトルAは、英
国特許用1、181,806号における平方面状ロジウ
ム化合物の特徴でおる1970cm−1におけるピーク
を欠如している。使用に際し、この英国特許用1,18
1.806@により例示された触媒は、比較的短時間の
操作の後に失活する傾向を有する。
スミスに係る米国特許用4, 224, 255号公報
は水素と一酸化炭素との反応によりα−オレフィンをヒ
ドロホルミル化するためのロジウム触媒による方法を開
示しており、ここでアルデヒド生成はオレフィン水素化
を抑制すべく反応媒体へ酸性化合物を添加することによ
り高められる。スミス特許にて選択される酸は0−フタ
ル酸である。開示された工程条件は1気圧〜10,00
0pSigの圧力及び10〜250℃の温度を含み、好
適条件は約300〜約1200psigの圧力及び約7
0〜約250℃の温度である。
は水素と一酸化炭素との反応によりα−オレフィンをヒ
ドロホルミル化するためのロジウム触媒による方法を開
示しており、ここでアルデヒド生成はオレフィン水素化
を抑制すべく反応媒体へ酸性化合物を添加することによ
り高められる。スミス特許にて選択される酸は0−フタ
ル酸である。開示された工程条件は1気圧〜10,00
0pSigの圧力及び10〜250℃の温度を含み、好
適条件は約300〜約1200psigの圧力及び約7
0〜約250℃の温度である。
スミス特許により例示された方法は、一般に工業上許容
しえないレベルのロジウム失活を比較的短時間の操作の
後に示す。
しえないレベルのロジウム失活を比較的短時間の操作の
後に示す。
英国特許用1,181,806号及び米国特許用4、2
24.255号にも拘らず、ヒドロホルミル化反応媒体
における酸の存在は触媒活性に対し悪影響を及ぼすと開
示されている。オリバー等に係る米国特許用3,555
,098号公報は、パイフィリック(biphylli
c )配位子(たとえばトリアリールホスフィン)とロ
ジウムとの錯体を触媒として用いるヒドロホルミル化法
を記載しており、ここで反応媒体はアルカリ水溶液での
洗浄により処理されて、そこからカルボン酸副生物が抽
出される。除去されないと、蓄積したカルボン酸副生物
が触媒を失活させることをオリバー等は開示している[
米国特許用3,555,098号、第1欄、第13〜2
5行及び第1欄、第64行〜第2欄、第18行参照]。
24.255号にも拘らず、ヒドロホルミル化反応媒体
における酸の存在は触媒活性に対し悪影響を及ぼすと開
示されている。オリバー等に係る米国特許用3,555
,098号公報は、パイフィリック(biphylli
c )配位子(たとえばトリアリールホスフィン)とロ
ジウムとの錯体を触媒として用いるヒドロホルミル化法
を記載しており、ここで反応媒体はアルカリ水溶液での
洗浄により処理されて、そこからカルボン酸副生物が抽
出される。除去されないと、蓄積したカルボン酸副生物
が触媒を失活させることをオリバー等は開示している[
米国特許用3,555,098号、第1欄、第13〜2
5行及び第1欄、第64行〜第2欄、第18行参照]。
酸副生物によるロジウム触媒の失活は、A、G、アバト
ジョグロウ等、[ロジウム触媒によるビニルエステルの
低圧ヒドルホルミル化:触媒活性、選択性及び安定性に
対する溶剤及びホスフィンの作用]、ジャーナル・オブ
・モレキュラー・キャタリシス、第18巻(1983)
、第383〜385頁にも開示されている。
ジョグロウ等、[ロジウム触媒によるビニルエステルの
低圧ヒドルホルミル化:触媒活性、選択性及び安定性に
対する溶剤及びホスフィンの作用]、ジャーナル・オブ
・モレキュラー・キャタリシス、第18巻(1983)
、第383〜385頁にも開示されている。
ロジウム触媒によるヒドロアシル化法に関する技術の多
くは、比較的高い圧力及び(又は)湿度の使用が所望の
ケトン選択性及び(又は)許容しつる反応速度を得るた
めに臨界的であることを示唆している。たとえば、ケト
ンを製造するためのエチレンと一酸化炭素と水素とのロ
ジウム触媒による反応を開示したドイツ特許用1.79
3.320号は、約200〜約300気圧の圧力と約1
50〜約200°Cの温度との使用を必要とする。
くは、比較的高い圧力及び(又は)湿度の使用が所望の
ケトン選択性及び(又は)許容しつる反応速度を得るた
めに臨界的であることを示唆している。たとえば、ケト
ンを製造するためのエチレンと一酸化炭素と水素とのロ
ジウム触媒による反応を開示したドイツ特許用1.79
3.320号は、約200〜約300気圧の圧力と約1
50〜約200°Cの温度との使用を必要とする。
それより緩和な温度及び(又は)圧力の条件を用いるヒ
ドロアシル化法も当業界で知られているか、これらの方
法は一般にロジウム触媒を用いない。たとえばナラボン
等に係る米国特許用2、699.453号公報は、少な
くとも1,5のエチレンと一酸化炭素とのモル比及び少
なくとも0.67のエチレンと水素とのモル比にて気相
でエチレンと−M化炭素と水素とを反応させることによ
るジエチルケトンの製造方法を開示している。この方法
は、300丁未満の温度かつ比較的低くしうる圧力(す
なわち1平方インチ当り約100ポンド程度に低い)に
て鉄族の金属を含有する触媒の存在下に行なわれると開
示されている。しかしながらナラボン等は、ガス希釈剤
の不存在下では1平方インチ当り約300〜700ポン
ドの操作圧力かつこの種の希釈剤の存在下では1平方イ
ンチ当り約500〜1400ボンドの操作圧力にて最適
結果が得られることを開示している。
ドロアシル化法も当業界で知られているか、これらの方
法は一般にロジウム触媒を用いない。たとえばナラボン
等に係る米国特許用2、699.453号公報は、少な
くとも1,5のエチレンと一酸化炭素とのモル比及び少
なくとも0.67のエチレンと水素とのモル比にて気相
でエチレンと−M化炭素と水素とを反応させることによ
るジエチルケトンの製造方法を開示している。この方法
は、300丁未満の温度かつ比較的低くしうる圧力(す
なわち1平方インチ当り約100ポンド程度に低い)に
て鉄族の金属を含有する触媒の存在下に行なわれると開
示されている。しかしながらナラボン等は、ガス希釈剤
の不存在下では1平方インチ当り約300〜700ポン
ドの操作圧力かつこの種の希釈剤の存在下では1平方イ
ンチ当り約500〜1400ボンドの操作圧力にて最適
結果が得られることを開示している。
ノザキに係る米国特許用3.857.893号公報は、
触媒量のコバルトカルボニル錯体の存在下に約50〜約
150℃の温度かつ約50〜2.OOOpsigの圧力
でエチレンと一酸化炭素と水素とを反応させてジエチル
ケトンを製造するためヒドロアシル化法を開示している
。このノザキ特許により例示された操作圧力は250〜
500ps i gの範囲である。
触媒量のコバルトカルボニル錯体の存在下に約50〜約
150℃の温度かつ約50〜2.OOOpsigの圧力
でエチレンと一酸化炭素と水素とを反応させてジエチル
ケトンを製造するためヒドロアシル化法を開示している
。このノザキ特許により例示された操作圧力は250〜
500ps i gの範囲である。
ロシア特許用813,908号公報は、ホスフィンとト
リフルオロ酢酸水溶液との存在下にパラジウム触媒を使
用してエチレン若しくはプロピレンを一酸化炭素及び水
素とヒドロアシル化反応させることにより、ジエチルケ
トン若しくはジプロピルケトンを生成させることを開示
している。開示された工程条件は30〜70℃の温度及
び大気圧である。
リフルオロ酢酸水溶液との存在下にパラジウム触媒を使
用してエチレン若しくはプロピレンを一酸化炭素及び水
素とヒドロアシル化反応させることにより、ジエチルケ
トン若しくはジプロピルケトンを生成させることを開示
している。開示された工程条件は30〜70℃の温度及
び大気圧である。
上記ヒドロアシル化法は一般に不利に高い圧力及び(又
は)温度の使用を必要とし、望ましくない量のアルデヒ
ド生成物を生成し、かつ(又は)望ましくない遅い速度
で進行し、かつく又は)ロジウム触媒を用いる方法の場
合には触媒が比較的短い寿命を有する、という点で工業
上使用しえないことが判明している。
は)温度の使用を必要とし、望ましくない量のアルデヒ
ド生成物を生成し、かつ(又は)望ましくない遅い速度
で進行し、かつく又は)ロジウム触媒を用いる方法の場
合には触媒が比較的短い寿命を有する、という点で工業
上使用しえないことが判明している。
[発明が解決しようとする課題]
本発明の課題は、比較的「安定」な酸含有ロジウム触媒
(すなわち比較的長時間の工程操作にわたり良好な触媒
活性を有するロジウム触媒)を用いたα−オレフィンと
一酸化炭素と水素との反応によりアルデヒド又はケトン
とアルデヒドとの混合物を製造するためのヒドロカルボ
ニル化法を提供することにある。
(すなわち比較的長時間の工程操作にわたり良好な触媒
活性を有するロジウム触媒)を用いたα−オレフィンと
一酸化炭素と水素との反応によりアルデヒド又はケトン
とアルデヒドとの混合物を製造するためのヒドロカルボ
ニル化法を提供することにある。
さらに本発明の課題は、比較的低い温度及び圧力にて操
作しうるロジウム触媒によるヒドロアシル化法を提供す
ることにある。
作しうるロジウム触媒によるヒドロアシル化法を提供す
ることにある。
さらに本発明の課題は、工業上許容しうる速度でケトン
とアルデヒドとの混合物を製造するためのロジウム触媒
によるヒドロアシル化を提供することにある。
とアルデヒドとの混合物を製造するためのロジウム触媒
によるヒドロアシル化を提供することにある。
ざらに本発明の他の課題は、ケトンを比較的多量に選択
生成さぜうるロジウム触媒による低圧ヒドロアシル化法
を提供することにある。
生成さぜうるロジウム触媒による低圧ヒドロアシル化法
を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、アルデヒド又はケトンとアルデヒドとの混合
物を製造するためのヒドロカルボニル化法において、 (I)(a>(i>トリ有機ホスフィンと、(ii)バ
ラ位置が電子吸引基で置換 されたフェニル基を有し、このフェニル基が他の置換基
を持たずかつ前記電子吸引基が実質的にこの方法にて非
反応性であるカルボン酸と の錯体組合せて実質的にロジウムよりなる触媒量の錯体
触媒と、 (b)2〜5個の炭素原子を有するα−オレフィンと、 (c)一酸化炭素と、 (d)水素と からなる反応混合物を作成し、ただしこの反応混合物は
少なくとも約2の前記カルボン酸とロジウムとのモル比
を有し、 (■゛)前記反応混合物を前記成分(b)と(c)と(
d)とが反応してアルデヒド又はケトンとアルデヒドと
の混合物を生成する温度及び圧力に維持する ことを特徴とするヒドロカルボニル化法を提供する。
物を製造するためのヒドロカルボニル化法において、 (I)(a>(i>トリ有機ホスフィンと、(ii)バ
ラ位置が電子吸引基で置換 されたフェニル基を有し、このフェニル基が他の置換基
を持たずかつ前記電子吸引基が実質的にこの方法にて非
反応性であるカルボン酸と の錯体組合せて実質的にロジウムよりなる触媒量の錯体
触媒と、 (b)2〜5個の炭素原子を有するα−オレフィンと、 (c)一酸化炭素と、 (d)水素と からなる反応混合物を作成し、ただしこの反応混合物は
少なくとも約2の前記カルボン酸とロジウムとのモル比
を有し、 (■゛)前記反応混合物を前記成分(b)と(c)と(
d)とが反応してアルデヒド又はケトンとアルデヒドと
の混合物を生成する温度及び圧力に維持する ことを特徴とするヒドロカルボニル化法を提供する。
他の実施態様において本発明は、
(I)(a)(i>ロジウム源と、
(b)トリ有機ホスフィン源と、
(c)バラ位置が実質的に非反応性の電子吸引基により
置換されかつ他の置換基を持たないフェニル基を有する
カルボン酸と、(d)成分(a)、(b)及び(c)に
対する溶剤である有機化合物と からなる触媒形成性の反応混合物を作成し、ただし触媒
形成性の反応混合物は少なくとも約2のカルボン酸とロ
ジウムとのモル比を有し、(II>前記触媒形成性の反
応混合物を成分(a)と(c)と(d)とを錯生成させ
るのに充分な温度及び圧力に維持することを特徴とする
ロジウム錯体触媒の製造方法を提供する。
置換されかつ他の置換基を持たないフェニル基を有する
カルボン酸と、(d)成分(a)、(b)及び(c)に
対する溶剤である有機化合物と からなる触媒形成性の反応混合物を作成し、ただし触媒
形成性の反応混合物は少なくとも約2のカルボン酸とロ
ジウムとのモル比を有し、(II>前記触媒形成性の反
応混合物を成分(a)と(c)と(d)とを錯生成させ
るのに充分な温度及び圧力に維持することを特徴とする
ロジウム錯体触媒の製造方法を提供する。
さらに本発明は、式:
%式%]
[式中、Rはトリ有機ホスフィン配位子であり、しはバ
ラ位置が電子吸引基により置換されかつヒドロカルボニ
ル化条件下で実質的に非反応性でありかつ他の置換基を
持たないフェニル基を有するカルボキシレート配位子で
あり、Xは約0.8〜約1.2の数値を有し、yは約2
.0〜約2.8の数値を有し、Zは約1.7〜約2.2
の数値を有し、yとXとのモル比は約1.8〜約2.2
でありかつ2とXとのモル比は約2.0〜約2.6であ
る] の固形錯体からなる触媒中間体にも関するものである。
ラ位置が電子吸引基により置換されかつヒドロカルボニ
ル化条件下で実質的に非反応性でありかつ他の置換基を
持たないフェニル基を有するカルボキシレート配位子で
あり、Xは約0.8〜約1.2の数値を有し、yは約2
.0〜約2.8の数値を有し、Zは約1.7〜約2.2
の数値を有し、yとXとのモル比は約1.8〜約2.2
でありかつ2とXとのモル比は約2.0〜約2.6であ
る] の固形錯体からなる触媒中間体にも関するものである。
好ましくは、Lは実質的に非反応性の電子吸引基により
バラ位置で置換されかつ他の置換基を持たない安息香酸
から誘導される。
バラ位置で置換されかつ他の置換基を持たない安息香酸
から誘導される。
式■は1分子当り約2gのロジウム原子を有するダイマ
ー錯体の代表例であり、ここでロジウム原子は約4個の
架橋性カルボキシレート配位子により合体され、かつ各
ロジウム原子は約2個のホスフィン配位子に結合される
。
ー錯体の代表例であり、ここでロジウム原子は約4個の
架橋性カルボキシレート配位子により合体され、かつ各
ロジウム原子は約2個のホスフィン配位子に結合される
。
本発明によれば、アルデヒド又はケトンとアルデヒドと
の混合物の製造方法が提供され、この方法は、 (a)(i)i−リ有機ホスフィンと、(ii)パラ−
置換されたフェニル基を有しかつ他の置換基を持たない
カルボン酸との銘体組合せにてロジウムより実質的にな
る錯体触媒と、 (b)2〜5個の炭素原子を有するα−オレフィンと、 (c)一酸化炭素と、 (d>水素と からなる反応混合物を加圧下で加熱して所望のアルデヒ
ド又はケトンとアルデヒドとの混合物を生成させること
を特徴とする。
の混合物の製造方法が提供され、この方法は、 (a)(i)i−リ有機ホスフィンと、(ii)パラ−
置換されたフェニル基を有しかつ他の置換基を持たない
カルボン酸との銘体組合せにてロジウムより実質的にな
る錯体触媒と、 (b)2〜5個の炭素原子を有するα−オレフィンと、 (c)一酸化炭素と、 (d>水素と からなる反応混合物を加圧下で加熱して所望のアルデヒ
ド又はケトンとアルデヒドとの混合物を生成させること
を特徴とする。
本発明の方法に使用するのに適したトリ有機ホスフィン
は置換及び未置換のトリアリールホスフィン、たとえば
トリフェニルホスフィン、トリナフチルホスフィン、ト
リス(メチルフェニル)ホスフィン、トリス(クロルフ
ェニル)ホスフィン、トリス(フルオロフェニル)ホス
フィン、トリス(メトキシフェニル)ホスフィン、トリ
ス(ビフェニル)ホスフィン、(N、N−ジメチルアミ
ノ)フエニルジフェニルホスフィンなどを包含し、トリ
フェニルホスフィン及びバラ置換されたトリフェニルホ
スフィンが好適種類のトリアリールホスフィンを示す。
は置換及び未置換のトリアリールホスフィン、たとえば
トリフェニルホスフィン、トリナフチルホスフィン、ト
リス(メチルフェニル)ホスフィン、トリス(クロルフ
ェニル)ホスフィン、トリス(フルオロフェニル)ホス
フィン、トリス(メトキシフェニル)ホスフィン、トリ
ス(ビフェニル)ホスフィン、(N、N−ジメチルアミ
ノ)フエニルジフェニルホスフィンなどを包含し、トリ
フェニルホスフィン及びバラ置換されたトリフェニルホ
スフィンが好適種類のトリアリールホスフィンを示す。
ざらに、置換及び未置換のアルキルジアリールホスフィ
ン、たとえばメチルジフェニルホスフィン、エチルジフ
ェニルホスフィン、プロピルジフェニルホスフィン、ブ
チルジフェニルホスフィン、ブチル−ビス(クロルフェ
ニル)ホスフィン、エチル−ビス(メトキシフェニル)
ホスフィン、エチル−フェニル−ビフェニルホスフィン
、メチル−フェニル−(N、N−ジメチルアミノフェニ
ル)ホスフィンなどくバラ置換されたフェニル基を有す
るジフェニルホスフィンが好適種類の置換アルキルジア
リールホスフィンを示す);置換及び未置換のジアルキ
ルアリールホスフィン、たとえばジメチルフェニルホス
フィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジプロピルフェ
ニルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ジブチ
ル(クロルフェニル)ホスフィン、ジブチル(メチルフ
ェニル)ホスフィン、ジシクロへキシルフェニルホスフ
ィンなど(パラ−置換された)工二ル基を有するジアル
キルフェニルホスフィンが好適種類の置換ジアルキルア
リールホスフィンを示す)を包含する。本発明の目的に
は、トリアリールホスフィンが好適種類のトリ有機ホス
フィンである。
ン、たとえばメチルジフェニルホスフィン、エチルジフ
ェニルホスフィン、プロピルジフェニルホスフィン、ブ
チルジフェニルホスフィン、ブチル−ビス(クロルフェ
ニル)ホスフィン、エチル−ビス(メトキシフェニル)
ホスフィン、エチル−フェニル−ビフェニルホスフィン
、メチル−フェニル−(N、N−ジメチルアミノフェニ
ル)ホスフィンなどくバラ置換されたフェニル基を有す
るジフェニルホスフィンが好適種類の置換アルキルジア
リールホスフィンを示す);置換及び未置換のジアルキ
ルアリールホスフィン、たとえばジメチルフェニルホス
フィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジプロピルフェ
ニルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ジブチ
ル(クロルフェニル)ホスフィン、ジブチル(メチルフ
ェニル)ホスフィン、ジシクロへキシルフェニルホスフ
ィンなど(パラ−置換された)工二ル基を有するジアル
キルフェニルホスフィンが好適種類の置換ジアルキルア
リールホスフィンを示す)を包含する。本発明の目的に
は、トリアリールホスフィンが好適種類のトリ有機ホス
フィンである。
一般に、本発明の方法に使用されるホスフィンは、触媒
を失活させ若しくは被毒する傾向を有する置換基(たと
えばスルホン、シアン及びメルカプト基)を有してはな
らない。トリス(p−クロルフェニル)ホスフィンが本
発明で使用するのに適しているのに対し、緩く結合した
イオド基を有するホスフィンは遊離ハロゲンが公知の触
媒失活剤となるので回避すべきである。ざらに、許容し
うる反応速度を与えるには、ホスフィンは立体障害基を
有してはならない。「嵩高基」の存在を特徴とするホス
フィン、たとえばトリス(o−t−ブチル)ホスフィン
は、比較的急速な反応が所望される場合は望ましくない
。
を失活させ若しくは被毒する傾向を有する置換基(たと
えばスルホン、シアン及びメルカプト基)を有してはな
らない。トリス(p−クロルフェニル)ホスフィンが本
発明で使用するのに適しているのに対し、緩く結合した
イオド基を有するホスフィンは遊離ハロゲンが公知の触
媒失活剤となるので回避すべきである。ざらに、許容し
うる反応速度を与えるには、ホスフィンは立体障害基を
有してはならない。「嵩高基」の存在を特徴とするホス
フィン、たとえばトリス(o−t−ブチル)ホスフィン
は、比較的急速な反応が所望される場合は望ましくない
。
反応混合物中に存在するトリ有機ホスフィンとロジウム
とのモル比は、工程選択性に対し顕著な作用を及ぼす。
とのモル比は、工程選択性に対し顕著な作用を及ぼす。
反応混合物が約4以上のホスフィンとロジウムとのモル
比を有する場合、そこに存在する触媒がケトン生成を触
媒する能力は顕著に阻害されうる。一般に、工程のケト
ン選択性は、反応混合物がロジウム1モル当り約3モル
まで、好ましくは約1〜約2モルのトリ有機ホスフィン
を含有すれば向上される。
比を有する場合、そこに存在する触媒がケトン生成を触
媒する能力は顕著に阻害されうる。一般に、工程のケト
ン選択性は、反応混合物がロジウム1モル当り約3モル
まで、好ましくは約1〜約2モルのトリ有機ホスフィン
を含有すれば向上される。
典型的には約80℃を越える高温度にて、成る種の上記
したパラー置換カルボン酸(たとえばp−二トロ安息香
酸)はホスフィンをホスフィン酸化物まで酸化すること
ができる。したがって、トリ有機ホスフィンとロジウム
とのモル比が最初に約4を越えるような錯体触媒の溶液
は、(a>酸化能力を有するパラ−置換されたカルボン
酸を過剰のホスフィンを酸化ホスフィンまで転換するの
に充分な吊にて溶液に施し、かつ(、b )得られた溶
液をホスフィン酸化を行なうのに充分な温度まで加熱す
ることにより、しばしばケトン製造に使用するのに好適
とすることができる。酸化ホスフィンは、本発明の方法
に対し過剰のホスフィンの悪影響を示さない。
したパラー置換カルボン酸(たとえばp−二トロ安息香
酸)はホスフィンをホスフィン酸化物まで酸化すること
ができる。したがって、トリ有機ホスフィンとロジウム
とのモル比が最初に約4を越えるような錯体触媒の溶液
は、(a>酸化能力を有するパラ−置換されたカルボン
酸を過剰のホスフィンを酸化ホスフィンまで転換するの
に充分な吊にて溶液に施し、かつ(、b )得られた溶
液をホスフィン酸化を行なうのに充分な温度まで加熱す
ることにより、しばしばケトン製造に使用するのに好適
とすることができる。酸化ホスフィンは、本発明の方法
に対し過剰のホスフィンの悪影響を示さない。
本発明の方法に使用するのに適したカルボン酸は、非反
応性の電子吸引基でパラ置換されかつ他の置換基を持た
ないフェニル基の存在を特徴とする。好ましくは、非反
応性の電子吸引基は少なくとも塩素と同程度の電子吸引
性を有する。本発明の目的で、所定の基の電子吸引能力
は電子吸引性の基でパラ位置が置換された安息香酸のイ
オン化に関するハメット・シグマ置換基定数を、一定温
度にて水中の安息香酸のイオン化に関するハメット・シ
グマ置換基定数と比較することにより決定される。
応性の電子吸引基でパラ置換されかつ他の置換基を持た
ないフェニル基の存在を特徴とする。好ましくは、非反
応性の電子吸引基は少なくとも塩素と同程度の電子吸引
性を有する。本発明の目的で、所定の基の電子吸引能力
は電子吸引性の基でパラ位置が置換された安息香酸のイ
オン化に関するハメット・シグマ置換基定数を、一定温
度にて水中の安息香酸のイオン化に関するハメット・シ
グマ置換基定数と比較することにより決定される。
本明細書に使用する「実質的に非反応性の電子吸引基」
は、用いた反応条件下で実質的な程度には反応混合物の
気体成分(すなわちα−オレフィン、一酸化炭素)と反
応しない電子吸引基である。
は、用いた反応条件下で実質的な程度には反応混合物の
気体成分(すなわちα−オレフィン、一酸化炭素)と反
応しない電子吸引基である。
したがって、たとえばp−シアノ安息香酸のようなカル
ボン酸は本発明の実施に使用するのに不適当である。何
故なら、気体水素によるシアノ基の還元が不安定な触媒
をもたらすからである。
ボン酸は本発明の実施に使用するのに不適当である。何
故なら、気体水素によるシアノ基の還元が不安定な触媒
をもたらすからである。
本発明の方法に使用するのに適した酸としてはへ〇置換
された安息香酸、たとえばp−クロル安息香酸及びp−
フルオロ安息香酸;p−ニトロ安息@酸;アルキル基が
1〜6個の炭素原子を有しかつ少なくとも塩素と同程度
の電子吸引性を有する少なくとも1個の基を有するアル
キル置換された安息香酸、たとえばp−(トリスフルオ
ロメチル)安息香酸が包含される。本発明の目的にはp
−クロル安息香酸、p−フルオロ安息香酸及びp−ニト
ロ安息香酸が、ケトン生成に対し比較的高い選択性程度
を有する触媒を与えることが判明した。酸のフェニル基
のパラ位置における置換が錯体の安定化を達成するのに
臨界的な因子であることも判明した。オルト置換された
酸(たとえば0−クロル安息香酸)若しくはポリ置換さ
れた酸くたとえば3,4−ジクロル安息香酸)を含有す
る錯体は、ここに開示したパラ置換された酸を含有する
触媒よりも顕著に短い寿命を有する触媒をもたらす傾向
がある。ケトン生成に対する反応の選択性は、反応混合
物中に存在するパラ置換されたカルボン酸とロジウムと
のモル比が少なくとも約2、好ましくは少なくとも約7
、特に好ましくは少なくとも約14であれば一般に高め
られる。
された安息香酸、たとえばp−クロル安息香酸及びp−
フルオロ安息香酸;p−ニトロ安息@酸;アルキル基が
1〜6個の炭素原子を有しかつ少なくとも塩素と同程度
の電子吸引性を有する少なくとも1個の基を有するアル
キル置換された安息香酸、たとえばp−(トリスフルオ
ロメチル)安息香酸が包含される。本発明の目的にはp
−クロル安息香酸、p−フルオロ安息香酸及びp−ニト
ロ安息香酸が、ケトン生成に対し比較的高い選択性程度
を有する触媒を与えることが判明した。酸のフェニル基
のパラ位置における置換が錯体の安定化を達成するのに
臨界的な因子であることも判明した。オルト置換された
酸(たとえば0−クロル安息香酸)若しくはポリ置換さ
れた酸くたとえば3,4−ジクロル安息香酸)を含有す
る錯体は、ここに開示したパラ置換された酸を含有する
触媒よりも顕著に短い寿命を有する触媒をもたらす傾向
がある。ケトン生成に対する反応の選択性は、反応混合
物中に存在するパラ置換されたカルボン酸とロジウムと
のモル比が少なくとも約2、好ましくは少なくとも約7
、特に好ましくは少なくとも約14であれば一般に高め
られる。
本発明の方法に使用しうるα−オレフィンは2〜5個の
炭素原子、好ましくは2〜4個の炭素原子を有する有機
化合物であって、末端エチレン基がビニリデン基(すな
わちCH2=C−)若しくはビニル基(すなわちCH2
=CH−)であるようなα−オレフィン類を包含する。
炭素原子、好ましくは2〜4個の炭素原子を有する有機
化合物であって、末端エチレン基がビニリデン基(すな
わちCH2=C−)若しくはビニル基(すなわちCH2
=CH−)であるようなα−オレフィン類を包含する。
α−オレフィンは直鎖若しくは分枝鎖の化合物とするこ
とができ、かつ本発明に関与するヒドルホルミル化及び
(又は)ヒドロアシル化反応を阻害しない置換基を有す
ることができる。
とができ、かつ本発明に関与するヒドルホルミル化及び
(又は)ヒドロアシル化反応を阻害しない置換基を有す
ることができる。
本発明の方法に有用なα−オレフィンの例はエチレン、
プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、並びに官能基
により置換されたα−オレフィン、たとえばアリルアル
コール、酢酸アリル、3−ブテン酸等を包含する。本発
明の目的で好適なα−オレフィンはエチレン、プロピレ
ン及び1−ブテンよりなる群から選択されるα−オレフ
ィンであり、ケトン生成物が所望される場合はエチレン
及びプロピレンが選択されるα−オレフィンである。
プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、並びに官能基
により置換されたα−オレフィン、たとえばアリルアル
コール、酢酸アリル、3−ブテン酸等を包含する。本発
明の目的で好適なα−オレフィンはエチレン、プロピレ
ン及び1−ブテンよりなる群から選択されるα−オレフ
ィンであり、ケトン生成物が所望される場合はエチレン
及びプロピレンが選択されるα−オレフィンである。
本発明の触媒は上記任意のオレフィン性反応体につき使
用して各種のアルデヒド生成物を生成しつるが、ケトン
生成が望ましければ好適オレフィン性反応体は線状α−
アルケン類に限定される。
用して各種のアルデヒド生成物を生成しつるが、ケトン
生成が望ましければ好適オレフィン性反応体は線状α−
アルケン類に限定される。
本発明の反応混合物は、前記錯体触媒に対する溶剤とな
りかつ用いたヒドロカルボニル化条件下で関与する特定
反応を顕著な程度に阻害しないような有機化合物を含有
することができる。本発明のヒドロホルミル化反応に用
いうる溶剤は飽和炭化水素類、たとえばナフサ、ケロシ
ン、鉱油、シクロヘキサンなど、並びに芳香族炭化水素
類、エーテル、ケトン及びアルデヒドを包含し、その例
としてはベンゼン、キシレン、トルエン、ジエチルエー
テル、アセトフェノン、シクロヘキサノン、プロピオン
アルデヒド等を包含する。ヒドロホルミル化反応のため
の1つの好適種類の溶剤は、所定の反応にて生成すべき
アルデヒドを包含する。
りかつ用いたヒドロカルボニル化条件下で関与する特定
反応を顕著な程度に阻害しないような有機化合物を含有
することができる。本発明のヒドロホルミル化反応に用
いうる溶剤は飽和炭化水素類、たとえばナフサ、ケロシ
ン、鉱油、シクロヘキサンなど、並びに芳香族炭化水素
類、エーテル、ケトン及びアルデヒドを包含し、その例
としてはベンゼン、キシレン、トルエン、ジエチルエー
テル、アセトフェノン、シクロヘキサノン、プロピオン
アルデヒド等を包含する。ヒドロホルミル化反応のため
の1つの好適種類の溶剤は、所定の反応にて生成すべき
アルデヒドを包含する。
他の好適種類のヒドロホルミル化溶剤は2.2.4−ト
リメチルペンタンジオ−ルー1.3−モノイソブチレー
トを例とする高沸点のアルデヒド縮合生成物を包含する
。ヒドロアシル化反応に適する溶剤はたとえばペンタノ
ン、ヘキサノン、オクタノンなどのケトン類:並びにた
とえばジエチレングリコール、トリエチレングリコール
、テトラエチレングリコールなどのジメチルエーテルの
ような有機エーテル類を包含する。3−ペンタノン、4
−ヘプタノン及びテトラエチレングリコールジメチルエ
ーテルが、ヒドロアシル化反応の好適溶剤である。
リメチルペンタンジオ−ルー1.3−モノイソブチレー
トを例とする高沸点のアルデヒド縮合生成物を包含する
。ヒドロアシル化反応に適する溶剤はたとえばペンタノ
ン、ヘキサノン、オクタノンなどのケトン類:並びにた
とえばジエチレングリコール、トリエチレングリコール
、テトラエチレングリコールなどのジメチルエーテルの
ような有機エーテル類を包含する。3−ペンタノン、4
−ヘプタノン及びテトラエチレングリコールジメチルエ
ーテルが、ヒドロアシル化反応の好適溶剤である。
本発明の方法に使用しつる有機溶剤の量は変化すること
ができ、かつ特定のロジウム錯体触媒を可溶化させるの
に充分な旧であることのみを必要とする。一般に、反応
媒体中に使用する溶剤の量は、反応混合物に対し約5重
量%程度に少なくすることができる。
ができ、かつ特定のロジウム錯体触媒を可溶化させるの
に充分な旧であることのみを必要とする。一般に、反応
媒体中に使用する溶剤の量は、反応混合物に対し約5重
量%程度に少なくすることができる。
一般に、本発明の方法は約50〜約200℃、好ましく
は約90〜約150℃、特に好ましくは約100〜約1
10℃の反応温度及び約525psi未満、好ましくは
約100〜約3001)S i 1特に好ましくは約i
oo〜約115psiのα−オレフィンと一酸化炭素と
水素との全ガス圧力にて行なわれる。本発明の方法は上
記範囲外の温度及び圧力でも行ないうるが、経済的因子
によりその使用は好適でない。
は約90〜約150℃、特に好ましくは約100〜約1
10℃の反応温度及び約525psi未満、好ましくは
約100〜約3001)S i 1特に好ましくは約i
oo〜約115psiのα−オレフィンと一酸化炭素と
水素との全ガス圧力にて行なわれる。本発明の方法は上
記範囲外の温度及び圧力でも行ないうるが、経済的因子
によりその使用は好適でない。
典型的には、本発明の方法は一酸化炭素に基づく分圧が
α−オレフィンと一酸化炭素と水素との全圧力に対し約
5〜約15%となるような条件下で行なわれる。水素及
びα−オレフィンに基づく分圧は、所望の特定生成物に
応じて変化する。たとえば、一酸化炭素の分圧が一酸化
炭素と水素とα−オレフィンとの全圧力に対し約5〜約
20%でありかつケトンリッチな生成物が望ましければ
、α−オレフィンの分圧と水素の分圧との比は約5/1
〜約115の範囲とすべきである。一酸化炭素の分圧が
一酸化炭素と水素とα−オレフィンとの全圧力に対し約
21〜約50%でありかつケトンリッチな生成物が望ま
しければ、α−オレフィンの分圧と水素の分圧との比は
約5/1〜約2/1の範囲とすべきである。上記一酸化
炭素分圧の範囲内かつ上記α−オレフィンと水素との分
圧比における下限値の外部において、アルデヒド生成に
対する本発明による方法の選択性が一般に高まる。
α−オレフィンと一酸化炭素と水素との全圧力に対し約
5〜約15%となるような条件下で行なわれる。水素及
びα−オレフィンに基づく分圧は、所望の特定生成物に
応じて変化する。たとえば、一酸化炭素の分圧が一酸化
炭素と水素とα−オレフィンとの全圧力に対し約5〜約
20%でありかつケトンリッチな生成物が望ましければ
、α−オレフィンの分圧と水素の分圧との比は約5/1
〜約115の範囲とすべきである。一酸化炭素の分圧が
一酸化炭素と水素とα−オレフィンとの全圧力に対し約
21〜約50%でありかつケトンリッチな生成物が望ま
しければ、α−オレフィンの分圧と水素の分圧との比は
約5/1〜約2/1の範囲とすべきである。上記一酸化
炭素分圧の範囲内かつ上記α−オレフィンと水素との分
圧比における下限値の外部において、アルデヒド生成に
対する本発明による方法の選択性が一般に高まる。
一般に、アルデヒド選択性は一酸化炭素とα−オレフィ
ンと水素との全圧力に対し約50%を越える一酸化炭素
分圧においても高まり、したがって一酸化炭素の分圧が
α−オレフィンと一酸化炭素と水素との全圧力に対し約
5〜約50%であるような反応条件がケトンリッチな生
成物を望む場合に推奨される。
ンと水素との全圧力に対し約50%を越える一酸化炭素
分圧においても高まり、したがって一酸化炭素の分圧が
α−オレフィンと一酸化炭素と水素との全圧力に対し約
5〜約50%であるような反応条件がケトンリッチな生
成物を望む場合に推奨される。
本発明の反応は、α−オレフィン1モル当り1xlO−
5モル程度に少ないロジウムの存在下で進行することが
判明した。しかしながら、操作しうるがこのような触媒
′a度は一般に工業上魅力的な速度で進行しない。本発
明の目的には、α−オレフィン1モル当り約1.5x1
叶4〜約1.0X10−2モルのロジウムの触媒濃度が
望ましく、α−オレフィン1モル当り約1.5x10−
4〜約5.0x10−3モルのロジウムの触媒濃度が好
適である。本発明の方法を触媒するのに有効な触媒の吊
を、本明細出では「触媒上有効量」の触媒と称する。
5モル程度に少ないロジウムの存在下で進行することが
判明した。しかしながら、操作しうるがこのような触媒
′a度は一般に工業上魅力的な速度で進行しない。本発
明の目的には、α−オレフィン1モル当り約1.5x1
叶4〜約1.0X10−2モルのロジウムの触媒濃度が
望ましく、α−オレフィン1モル当り約1.5x10−
4〜約5.0x10−3モルのロジウムの触媒濃度が好
適である。本発明の方法を触媒するのに有効な触媒の吊
を、本明細出では「触媒上有効量」の触媒と称する。
本発明の方法はバッチ式でも行ないつるが、好ましくは
一般に当業界で知られた方法により連続式で行なわれる
。
一般に当業界で知られた方法により連続式で行なわれる
。
本発明の方法に使用する触媒は、トリ有機ホスフィンと
パラ位置が電子吸引基で置換されたフェニル基を有する
カルボン酸との錯体組合せにおけるロジウムより主とし
て構成される。本明細書中に使用する「錯体」と言う用
語は、独立して存在しうる1個若しくはそれ以上の電子
リッチな分子若しくは原子と、同様に独立してそれぞれ
存在しうる1個若しくはそれ以上の電子プアーな分子若
しくは原子との結合により形成される配位化合物を意味
する。トリ有機ホスフィンは、その燐原子の非共有電子
対を介しロジウムに対して配位結合を形成することによ
り、配位子として作用する。
パラ位置が電子吸引基で置換されたフェニル基を有する
カルボン酸との錯体組合せにおけるロジウムより主とし
て構成される。本明細書中に使用する「錯体」と言う用
語は、独立して存在しうる1個若しくはそれ以上の電子
リッチな分子若しくは原子と、同様に独立してそれぞれ
存在しうる1個若しくはそれ以上の電子プアーな分子若
しくは原子との結合により形成される配位化合物を意味
する。トリ有機ホスフィンは、その燐原子の非共有電子
対を介しロジウムに対して配位結合を形成することによ
り、配位子として作用する。
同様に、パラ置換されたカルボン酸は、そのカルボキシ
レート基に存在する2個の酸素原子のそれぞれの非共有
電子対を介しロジウムとの結合を形成し、したがって分
離したロジウム原子の間の「架橋性」配位子として作用
することができる。
レート基に存在する2個の酸素原子のそれぞれの非共有
電子対を介しロジウムとの結合を形成し、したがって分
離したロジウム原子の間の「架橋性」配位子として作用
することができる。
本発明は錯体触媒の正確な構造に関し単一の説明のみに
限定されることを意図しない。本明細書中に使用する「
活性触媒」と言う用語は、反応混合物における気体成分
間の反応時点で存在するような特定形態の触媒鏡体を意
味する。事実、反応の際に存在する活性触媒は、反応条
件下で各種の反応混合物成分により形成されるロジウム
クラスター化合物とすることができる。
限定されることを意図しない。本明細書中に使用する「
活性触媒」と言う用語は、反応混合物における気体成分
間の反応時点で存在するような特定形態の触媒鏡体を意
味する。事実、反応の際に存在する活性触媒は、反応条
件下で各種の反応混合物成分により形成されるロジウム
クラスター化合物とすることができる。
ざらに、活性触媒は1種若しくはそれ以上の他の配位子
をも含有することができる。たとえば活性触媒は一酸化
炭素を配位子として含有することが知られ、反応混合物
の一酸化炭素成分はロジウムとの錯生成部位に関しホス
フィン及びカルボキシレート配位子と競合することが予
想される。活性触媒上の部位に関し競合する一酸化炭素
の能力は、部分的に供給ガス組成物中の一酸化炭素の分
圧、並びに反応混合物中に存在するパラー置換カルボン
酸及びトリ有機ホスフィンの濃度を含む種々の因子に応
じて決定される。同様に、活性触媒は水素をも配位子と
して含有することができる。
をも含有することができる。たとえば活性触媒は一酸化
炭素を配位子として含有することが知られ、反応混合物
の一酸化炭素成分はロジウムとの錯生成部位に関しホス
フィン及びカルボキシレート配位子と競合することが予
想される。活性触媒上の部位に関し競合する一酸化炭素
の能力は、部分的に供給ガス組成物中の一酸化炭素の分
圧、並びに反応混合物中に存在するパラー置換カルボン
酸及びトリ有機ホスフィンの濃度を含む種々の因子に応
じて決定される。同様に、活性触媒は水素をも配位子と
して含有することができる。
本発明の方法に使用される錯体触媒を形成するには、各
種のロジウム原料を使用することができる。本発明に使
用するのに適したロジウム原料は酸化ロジウム、たとえ
ばセスキ酸化ロジウム(Rh203)、ロジウムカルボ
ニル化合物、たとえばRh4 (co)12及びRh
6 (co)16、ロジウムジカルボニルアセチルア
セトネート[以下、Rh (co)2 (ACAC>
と記載する1、並びにトリ有機ホスフィンとの鏡体組合
せにおけるロジウムカルボニル化合物の中性及びカチオ
ン性種類の両者、たとえばロジウムフルオロカルホニル
ービス(トリフェニルホスフィン[以下、RhF (c
O)(TPP>2 ]、]ロジウムヒドリドカルボニル
ートリストリフェニルホスフィン)c以下、RhH(c
o)(TPP>3 ]、ロジウムオクタデシルカルボニ
ル−ビス(トリフェニルホスフィン)テトラフェニルボ
レート[以下、Rh (cOD)(TPP)2 ]”
BPha−等を包含する。用いるロジウム源は、鏡体を
失活さぜ或いは被毒する傾向を有する基(たとえばロジ
ウム原子に直接結合したハロ若しくは硫黄基)を有して
はならない。
種のロジウム原料を使用することができる。本発明に使
用するのに適したロジウム原料は酸化ロジウム、たとえ
ばセスキ酸化ロジウム(Rh203)、ロジウムカルボ
ニル化合物、たとえばRh4 (co)12及びRh
6 (co)16、ロジウムジカルボニルアセチルア
セトネート[以下、Rh (co)2 (ACAC>
と記載する1、並びにトリ有機ホスフィンとの鏡体組合
せにおけるロジウムカルボニル化合物の中性及びカチオ
ン性種類の両者、たとえばロジウムフルオロカルホニル
ービス(トリフェニルホスフィン[以下、RhF (c
O)(TPP>2 ]、]ロジウムヒドリドカルボニル
ートリストリフェニルホスフィン)c以下、RhH(c
o)(TPP>3 ]、ロジウムオクタデシルカルボニ
ル−ビス(トリフェニルホスフィン)テトラフェニルボ
レート[以下、Rh (cOD)(TPP)2 ]”
BPha−等を包含する。用いるロジウム源は、鏡体を
失活さぜ或いは被毒する傾向を有する基(たとえばロジ
ウム原子に直接結合したハロ若しくは硫黄基)を有して
はならない。
ロジウムに直接結合した塩素原子はしばしば、本発明の
方法に使用する触媒の性能に悪影響を及ぼすことが判明
した。したがって、たとえばビスー〇ジウムクロルジ力
ルボニル ((Rh (cj)(co)2 >2 ]及び]ロジウ
ムクロルカルボニルービストリフェニルホスフィン)[
Rh (ce)(cO)(ce H5)3 P)2 ]
のようなロジウム源は、本発明で使用するのに推奨され
ない。本発明の目的で好適なロジウム源はロジウムカル
ボニル化合物、特に Rh (co)2 (ACAC)、 RhF (co)(TPP)2、 RhH(co)(TPP)3及び [Rh (cOD>(TPP>2 ]” BPha−よ
りなる群から選択されるような化合物である。
方法に使用する触媒の性能に悪影響を及ぼすことが判明
した。したがって、たとえばビスー〇ジウムクロルジ力
ルボニル ((Rh (cj)(co)2 >2 ]及び]ロジウ
ムクロルカルボニルービストリフェニルホスフィン)[
Rh (ce)(cO)(ce H5)3 P)2 ]
のようなロジウム源は、本発明で使用するのに推奨され
ない。本発明の目的で好適なロジウム源はロジウムカル
ボニル化合物、特に Rh (co)2 (ACAC)、 RhF (co)(TPP)2、 RhH(co)(TPP)3及び [Rh (cOD>(TPP>2 ]” BPha−よ
りなる群から選択されるような化合物である。
トリ有機ホスフィン基を含有するロジウムカルボニル化
合物[たとえばRhF (Go)−(TPP)2 ]は
、ロジウム源として作用する他に、本発明の錯体触媒の
作成に際しトリ有機ホスフィン源としても作用すること
ができる。
合物[たとえばRhF (Go)−(TPP)2 ]は
、ロジウム源として作用する他に、本発明の錯体触媒の
作成に際しトリ有機ホスフィン源としても作用すること
ができる。
本発明の方法に使用する錯体触媒は弗型的には、(a)
前記バラ−置換カルボン酸と、(b)ロジウム源と、(
c)トリ有機ホスフィン源と、(d)成分(a)、(b
)及び(c)に対する溶剤である非反応性有機化合物と
からなる触媒形成性の反応混合物をロジウムとパラ−置
換安息香酸とトリ有機ホスフィンとを錯生成させるのに
充分な温度で加熱することにより作成される。好ましく
は、本発明の触媒は、触媒形成性の反応混合物を不活性
雰囲気(望ましくは窒素雰囲気)にて加熱することによ
り作成される。ヒドロカルボニル化反応混合物の項目で
前記したカルボン酸とロジウムとのモル比に関する特定
は、触媒形成性の反応混合物の形成にも適用することが
できる。好ましくは、触媒形成性反応混合物に存在する
トリ有機ホスフィンとロジウムとのモル比は約4以下で
ある。
前記バラ−置換カルボン酸と、(b)ロジウム源と、(
c)トリ有機ホスフィン源と、(d)成分(a)、(b
)及び(c)に対する溶剤である非反応性有機化合物と
からなる触媒形成性の反応混合物をロジウムとパラ−置
換安息香酸とトリ有機ホスフィンとを錯生成させるのに
充分な温度で加熱することにより作成される。好ましく
は、本発明の触媒は、触媒形成性の反応混合物を不活性
雰囲気(望ましくは窒素雰囲気)にて加熱することによ
り作成される。ヒドロカルボニル化反応混合物の項目で
前記したカルボン酸とロジウムとのモル比に関する特定
は、触媒形成性の反応混合物の形成にも適用することが
できる。好ましくは、触媒形成性反応混合物に存在する
トリ有機ホスフィンとロジウムとのモル比は約4以下で
ある。
本発明の錯体触媒を形成する際に溶剤として使用するの
に適した非反応性化合物は、ヒドロアシル化法に使用す
るのに適した溶剤として前記したような化合物である。
に適した非反応性化合物は、ヒドロアシル化法に使用す
るのに適した溶剤として前記したような化合物である。
本発明の触媒が形成される温度は、部分的に触媒形成性
反応混合物成分の選択、反応圧力などを包含する諸因子
に応じて変化を受ける。一般に、触媒形成温度は約り0
℃〜約140℃を越える温度の範囲である。幾つかの例
においては、触媒形成に先立ち上記式■により示された
単離しうる固体中間体を黄色沈澱物として形成させ、こ
れをさらに加熱して溶液に復帰させる。
反応混合物成分の選択、反応圧力などを包含する諸因子
に応じて変化を受ける。一般に、触媒形成温度は約り0
℃〜約140℃を越える温度の範囲である。幾つかの例
においては、触媒形成に先立ち上記式■により示された
単離しうる固体中間体を黄色沈澱物として形成させ、こ
れをさらに加熱して溶液に復帰させる。
本発明の錯体触媒は、上記錯体形成条件をヒドロカルボ
ニル化の際に維持して、その場で予備形成させ或いは生
成させることができる。
ニル化の際に維持して、その場で予備形成させ或いは生
成させることができる。
[実施例]
以下、実施例により本発明をざらに説明する。
しかしながら、本発明の範囲はこれら実施例のみに限定
されない。特記しない限り、これら実施例中に示す部数
及び%は全て重量による。
されない。特記しない限り、これら実施例中に示す部数
及び%は全て重量による。
例 1〜9
この一連の例は、ヒドロアシル化条件下での触媒安定性
及び反応選択性に対する各種の酸の作用を示すのに役立
つ。
及び反応選択性に対する各種の酸の作用を示すのに役立
つ。
これらの例に使用した反応器は、500psiまでの圧
力で使用するのに適した150rrdlのミニ反応器と
した。この反応器には、磁気撹拌器と頭上カス入口と温
度制御器と液体出口管とガスマニホールドとを装着した
。
力で使用するのに適した150rrdlのミニ反応器と
した。この反応器には、磁気撹拌器と頭上カス入口と温
度制御器と液体出口管とガスマニホールドとを装着した
。
下記第1表に示すようなロジウムジ力ルポニルアセチル
アタトネート[Rh (co)2 AcAcコとトリフ
ェニルホスフィン(TPP)と選択した酸とを、窒素雰
囲気下で30(lのジプロピルケトンに20℃±5℃の
温度で溶解させて、約150ppmのロジウム(遊離金
属として計算)を含有しかつ1: 1のTPPとロジウ
ムとのモル比及び13.8: 1の酸とロジウムとの
モル比を有する触媒溶液を形成した。
アタトネート[Rh (co)2 AcAcコとトリフ
ェニルホスフィン(TPP)と選択した酸とを、窒素雰
囲気下で30(lのジプロピルケトンに20℃±5℃の
温度で溶解させて、約150ppmのロジウム(遊離金
属として計算)を含有しかつ1: 1のTPPとロジウ
ムとのモル比及び13.8: 1の酸とロジウムとの
モル比を有する触媒溶液を形成した。
その後、25dの触媒溶液を予め200mmH(lの圧
力まで減圧された反応器に導入した。次いで、反応器を
30psigの窒素で3回スパージし、約0.5psi
gの圧力まで排気し、かつ100℃の温度まで加熱した
。12dpsi : 29psi : 12psiの
エチレン:水素二ーM化炭素の分圧比におけるエチレン
と一酸化炭素と水素とよりなる予備混合された供給ガス
を、反応器へ165 ps iの操作圧力を生ぜしめる
よう供給した。この反応器を100℃の温度に維持し、
かつ反応が進行する際に5psiの圧力低下増分を得る
のに要する時間を記録した。それぞれ5pSiの圧力低
下が生じた後、反応器を1/1の一酸化炭素。
力まで減圧された反応器に導入した。次いで、反応器を
30psigの窒素で3回スパージし、約0.5psi
gの圧力まで排気し、かつ100℃の温度まで加熱した
。12dpsi : 29psi : 12psiの
エチレン:水素二ーM化炭素の分圧比におけるエチレン
と一酸化炭素と水素とよりなる予備混合された供給ガス
を、反応器へ165 ps iの操作圧力を生ぜしめる
よう供給した。この反応器を100℃の温度に維持し、
かつ反応が進行する際に5psiの圧力低下増分を得る
のに要する時間を記録した。それぞれ5pSiの圧力低
下が生じた後、反応器を1/1の一酸化炭素。
と水素とのモル比を有する一酸化炭素と水素との混合物
を添加して165DSiの初期操作圧力まで再加圧した
。反応が進行する間、黒色固体として触媒溶液から幾分
かのロジウムが沈澱するのが認められた。少なくとも約
5回の連続測定により決定して、5psiの圧力低下を
得る時間が比較的一定となった際、反応を停止させた。
を添加して165DSiの初期操作圧力まで再加圧した
。反応が進行する間、黒色固体として触媒溶液から幾分
かのロジウムが沈澱するのが認められた。少なくとも約
5回の連続測定により決定して、5psiの圧力低下を
得る時間が比較的一定となった際、反応を停止させた。
これら比較的一定の連続測定の平均値を、ここでは「一
定の圧力低下時間」と称する。ざらに圧力低下時間が一
定とならないことが明らかとなった場合には、「一定の
圧力低下時間」を5psiの圧力低下に対する一定時間
に最も近似すると思われるこれらの連続測定の平均値と
して採用し、反応を停止させた。反応の停止後、得られ
た液体生成物を、ドライアイス−アセトン中に設置され
かつ窒素雰囲気下に維持された容器に放出させた。その
後、得られた生成物を秤吊し、かつ原子吸収スペクトロ
スコピー及びガスクロマトグラフ分析にかけて、そこに
存在するロジウムとアルデヒドとケトンとの量を測定し
た。
定の圧力低下時間」と称する。ざらに圧力低下時間が一
定とならないことが明らかとなった場合には、「一定の
圧力低下時間」を5psiの圧力低下に対する一定時間
に最も近似すると思われるこれらの連続測定の平均値と
して採用し、反応を停止させた。反応の停止後、得られ
た液体生成物を、ドライアイス−アセトン中に設置され
かつ窒素雰囲気下に維持された容器に放出させた。その
後、得られた生成物を秤吊し、かつ原子吸収スペクトロ
スコピー及びガスクロマトグラフ分析にかけて、そこに
存在するロジウムとアルデヒドとケトンとの量を測定し
た。
各種の触媒溶液の安定性は、試験の終了時に液体生成物
中に残留したロジウムの量を、触媒溶液中に最初に存在
させたロジウムの量と比較することにより決定した。沈
澱したロジウムの%をrRhロス%」として第1表に示
す。ここで下記の式が成立する: RhO2%=”oo (cI CE)100(式■
) [式中、CIは触媒溶液中に最初に存在させたロジウム
の量であり、 CEは反応の終了時に液体生成物中に保留したロジウム
の壜である] 上記反応により生成されたジエチルケトンとプロピオン
アルデヒドとの生成速度を第1表に[RKJ及び[RA
Jとして示す。この一連の例において、アルデヒド及び
ケトンの生成速度(「RA」及び「RK」)は次式によ
り計算される:[式中、Pは5psiの圧力低下増分で
あり、tは3600sec /hrの変換ファクタであ
り、↑いはsecとして現した前記の一定の圧力低下時
間であり、 naは生成したアルデヒドの重量を(a)生成したケト
ンの重量の4倍と(b)生成したアルデヒドの重量の3
倍との合計により割篩した数値であり、ここで全ての重
量はgとしての生成したアルデヒドとケトンとの合計重
量に対する数値であり、 ■はi数としての触媒溶液の容積であり、vintはで
数としての反応器の容積マイナス触媒溶液の容積であり
、 ■ は予備混合されたエチレン/一酸化炭xt 素/水素と一酸化炭素/水素との供給源から反応器に至
る経路の4数としての容積の合計であり、 T1は°Kにおける反応器内容物の温度であり、かつ T2は°にとしての周囲温度であるコ;及び [式中、p、t、t R,v、vint、pゝ voxt、T1及びT2は上記の意味を有し、かつnk
は生成したケトンの重量を(a)生成したケトンの重量
の4倍と(b)生成したアルデヒドの重量の3倍との合
計により割算した数値であり、ここで重量は全てQとし
ての生成したアルデヒドとケトンとの合計重量に対する
数値である〕。
中に残留したロジウムの量を、触媒溶液中に最初に存在
させたロジウムの量と比較することにより決定した。沈
澱したロジウムの%をrRhロス%」として第1表に示
す。ここで下記の式が成立する: RhO2%=”oo (cI CE)100(式■
) [式中、CIは触媒溶液中に最初に存在させたロジウム
の量であり、 CEは反応の終了時に液体生成物中に保留したロジウム
の壜である] 上記反応により生成されたジエチルケトンとプロピオン
アルデヒドとの生成速度を第1表に[RKJ及び[RA
Jとして示す。この一連の例において、アルデヒド及び
ケトンの生成速度(「RA」及び「RK」)は次式によ
り計算される:[式中、Pは5psiの圧力低下増分で
あり、tは3600sec /hrの変換ファクタであ
り、↑いはsecとして現した前記の一定の圧力低下時
間であり、 naは生成したアルデヒドの重量を(a)生成したケト
ンの重量の4倍と(b)生成したアルデヒドの重量の3
倍との合計により割篩した数値であり、ここで全ての重
量はgとしての生成したアルデヒドとケトンとの合計重
量に対する数値であり、 ■はi数としての触媒溶液の容積であり、vintはで
数としての反応器の容積マイナス触媒溶液の容積であり
、 ■ は予備混合されたエチレン/一酸化炭xt 素/水素と一酸化炭素/水素との供給源から反応器に至
る経路の4数としての容積の合計であり、 T1は°Kにおける反応器内容物の温度であり、かつ T2は°にとしての周囲温度であるコ;及び [式中、p、t、t R,v、vint、pゝ voxt、T1及びT2は上記の意味を有し、かつnk
は生成したケトンの重量を(a)生成したケトンの重量
の4倍と(b)生成したアルデヒドの重量の3倍との合
計により割算した数値であり、ここで重量は全てQとし
ての生成したアルデヒドとケトンとの合計重量に対する
数値である〕。
式■及びIVは、1モルのケトンを生成するのに4モル
のガスが必要とされるのに対し、1モルのアルデヒド生
成物を生成させるには3モルのガスが必要とされるとい
う事実を考慮した。RA及びRKはp−hr当りのq−
モル数の単位として現す。
のガスが必要とされるのに対し、1モルのアルデヒド生
成物を生成させるには3モルのガスが必要とされるとい
う事実を考慮した。RA及びRKはp−hr当りのq−
モル数の単位として現す。
第1表に示したデータは、p−ニトロ安息香酸を含有す
る触媒溶液(すなわち本発明の実施例となる溶液)が他
の酸類(未置換の安息香酸を包含する)を含有する比較
触媒溶液(その幾つかは全く反応を触媒しなかった)よ
りもケトン生成に関しずっと安定かつずっと選択性が大
であったこと例 10〜19 以下の例は、ヒドロアシル化条件下で各種の安息香酸を
含有する触媒溶液を用いて得られる触媒安定性及び工程
選択性の相違を示すのに役立つ。
る触媒溶液(すなわち本発明の実施例となる溶液)が他
の酸類(未置換の安息香酸を包含する)を含有する比較
触媒溶液(その幾つかは全く反応を触媒しなかった)よ
りもケトン生成に関しずっと安定かつずっと選択性が大
であったこと例 10〜19 以下の例は、ヒドロアシル化条件下で各種の安息香酸を
含有する触媒溶液を用いて得られる触媒安定性及び工程
選択性の相違を示すのに役立つ。
このデータはざらに、置換基の選択及び位置の臨界性を
も示している。
も示している。
例11〜20に用いた反応器は、磁気撹拌機と頭上ガス
入口と温度制御器と液体出口管とガスマニホールドとを
装着した300m1のオートクレーブとした。
入口と温度制御器と液体出口管とガスマニホールドとを
装着した300m1のオートクレーブとした。
この一連の例においては、上記第■表に示したようなロ
ジウムジカルボニルアセチルアセトネートスフィン(T
PP)と選択された酸とを窒素雰囲気下でジプロピルケ
トンに溶解させて、約150ppmのロジウム(遊離金
属として計算)を含有し°かつ1: 1のT P Pと
ロジウムとのモル比及び13、8: 1の酸とロジウ
ムとのモル比を有する触媒溶液を形成させた。触媒溶液
成分が溶解すると判明した温度を第■表に示す。
ジウムジカルボニルアセチルアセトネートスフィン(T
PP)と選択された酸とを窒素雰囲気下でジプロピルケ
トンに溶解させて、約150ppmのロジウム(遊離金
属として計算)を含有し°かつ1: 1のT P Pと
ロジウムとのモル比及び13、8: 1の酸とロジウ
ムとのモル比を有する触媒溶液を形成させた。触媒溶液
成分が溶解すると判明した温度を第■表に示す。
各反応につき25威の触媒溶液を反応器に導入し、かつ
100℃の温度まで加熱した。その復、第■表に示した
ような分圧比におけるエチレンと一酸化炭素と水素とよ
りなる予備混合された供給ガスを、反応器へ515ps
iの操作圧力になるまで充填した。
100℃の温度まで加熱した。その復、第■表に示した
ような分圧比におけるエチレンと一酸化炭素と水素とよ
りなる予備混合された供給ガスを、反応器へ515ps
iの操作圧力になるまで充填した。
次いで、反応器を100℃の操作温度に10分間維持し
、その間全反応圧力の低下を観察した。10分間の反応
時間の終了後、反応器を25℃の温度まで約30分間か
けて冷却し、かつ液体生成物をドライアイス−アセトン
浴中に設置されかつ窒素雰囲気下に維持された容器放出
したれ。反応の間に、黒色固体として触媒溶液から幾分
かのロジウムが沈澱するのが認められた。その後、得ら
れた配位子生成物を秤吊し、かつガスクロマトグラフ分
析及び原子吸収スペクトロスコピーにかけて、生成され
たジエチルケトンとプロピオンアルデヒドとの相対量を
決定した。生成物の生成速度(RK及びRA)は、(1
)生成したケレトン若しくはアルデヒドのモメル数を(
a>その分子量と(b)反応器へ充填された触媒溶液の
量(テ)との積により訓痒しかつく2)得られた数値を
6倍して1時間基準に変換することにより決定した。生
成速度はl−hr当りのq−モル数の単位として現す。
、その間全反応圧力の低下を観察した。10分間の反応
時間の終了後、反応器を25℃の温度まで約30分間か
けて冷却し、かつ液体生成物をドライアイス−アセトン
浴中に設置されかつ窒素雰囲気下に維持された容器放出
したれ。反応の間に、黒色固体として触媒溶液から幾分
かのロジウムが沈澱するのが認められた。その後、得ら
れた配位子生成物を秤吊し、かつガスクロマトグラフ分
析及び原子吸収スペクトロスコピーにかけて、生成され
たジエチルケトンとプロピオンアルデヒドとの相対量を
決定した。生成物の生成速度(RK及びRA)は、(1
)生成したケレトン若しくはアルデヒドのモメル数を(
a>その分子量と(b)反応器へ充填された触媒溶液の
量(テ)との積により訓痒しかつく2)得られた数値を
6倍して1時間基準に変換することにより決定した。生
成速度はl−hr当りのq−モル数の単位として現す。
例1〜9に記載したように計算された生成速度及びロジ
ウムのロスデータを第■表に示す。
ウムのロスデータを第■表に示す。
第■表に示したデータは、非反応性の電子吸引基により
パラ位置が置換された安息香酸を含有する触媒溶液が、
たとえばメトキシ基若しくはジメチルアミノ基のような
電子放出基でパラ位置が置換された安息香酸を含有する
比較触媒溶液よりも安定となる傾向を有することを示し
ている。さらにこのデータは、パラ位置以外の位置にお
ける触媒溶液の安息香酸成分の置換が触媒安定性に対し
悪影響を及ぼすことを示している(本発明を例示する例
16及び17と比較例18及び19との比較)。比較例
12により示されるように、たとえばシアノ基のような
反応性基で置換された安息香酸は一般に不安定である。
パラ位置が置換された安息香酸を含有する触媒溶液が、
たとえばメトキシ基若しくはジメチルアミノ基のような
電子放出基でパラ位置が置換された安息香酸を含有する
比較触媒溶液よりも安定となる傾向を有することを示し
ている。さらにこのデータは、パラ位置以外の位置にお
ける触媒溶液の安息香酸成分の置換が触媒安定性に対し
悪影響を及ぼすことを示している(本発明を例示する例
16及び17と比較例18及び19との比較)。比較例
12により示されるように、たとえばシアノ基のような
反応性基で置換された安息香酸は一般に不安定である。
例 19〜33
これらの例により得られたデータは、触媒溶液中に存在
するトリ有機ホスフィンとロジウムとのしル比がどのよ
うに工程選択性に影響するかを示している。
するトリ有機ホスフィンとロジウムとのしル比がどのよ
うに工程選択性に影響するかを示している。
例1に前記したミニ反応器をこの一連の反応にも用いた
。
。
第m表に示したロジウムとパラ−置換安息香酸とトリフ
ェニルホスフィン(TPP)との各成分を含有する触媒
溶液は、各溶液成分を窒素雰囲気下でジプロピルケトン
中に溶解させることにより作成した。これらの溶液を、
3001)l)mのロジウム(遊離金属として計算)を
含有するよう処方した。
ェニルホスフィン(TPP)との各成分を含有する触媒
溶液は、各溶液成分を窒素雰囲気下でジプロピルケトン
中に溶解させることにより作成した。これらの溶液を、
3001)l)mのロジウム(遊離金属として計算)を
含有するよう処方した。
存在させる場合、パラ置換安息香酸は30: 1の酸と
ロジウムとのモル比を与えるのに充分な量で溶液に添加
した。触媒溶液成分が溶解すると判明した温度を第■表
に示す。その後、各触媒溶液を例1〜9に記載した手順
にしたがって反応させた。
ロジウムとのモル比を与えるのに充分な量で溶液に添加
した。触媒溶液成分が溶解すると判明した温度を第■表
に示す。その後、各触媒溶液を例1〜9に記載した手順
にしたがって反応させた。
例1〜9に記載したと同様に計算したこの一連の反応に
関するジエチルケトン及びプロピオンアルデヒドの生成
速度を第■表に示す。
関するジエチルケトン及びプロピオンアルデヒドの生成
速度を第■表に示す。
例20,23.25.28及び30は、本発明のp−ニ
トロ安息香酸及びp−りaル安息香酸を含有する触媒溶
液が、同一のロジウム源を含有しかつ同じTPPとロジ
ウムとのモル比を有するが酸成分を欠如した触媒溶液よ
りもケトン生成に対し大きい選択性を与えることを示し
ている(比較例19.22及び27参照)。
トロ安息香酸及びp−りaル安息香酸を含有する触媒溶
液が、同一のロジウム源を含有しかつ同じTPPとロジ
ウムとのモル比を有するが酸成分を欠如した触媒溶液よ
りもケトン生成に対し大きい選択性を与えることを示し
ている(比較例19.22及び27参照)。
ざらにこのデータは、p−ニトロ安息香酸を含有する触
媒溶液がp−クロル安息香酸を含有する触媒溶液よりも
高いトリフェニルホスフィンとロジウムとのモル比にて
ケトン生成を触媒しうろことを示している(比較例23
及び26と例28.30及び31との比較)。比較例2
9及び33は、5の全ホスフィンとロジウムとのモル比
にてp−二トロ安息香酸もp−クロル安息香酸も含有し
ない溶液がケトン生成を触媒しえたことを示してい本発
明の単離しうる中間体を、例34〜39に記載した手順
により作成した。
媒溶液がp−クロル安息香酸を含有する触媒溶液よりも
高いトリフェニルホスフィンとロジウムとのモル比にて
ケトン生成を触媒しうろことを示している(比較例23
及び26と例28.30及び31との比較)。比較例2
9及び33は、5の全ホスフィンとロジウムとのモル比
にてp−二トロ安息香酸もp−クロル安息香酸も含有し
ない溶液がケトン生成を触媒しえたことを示してい本発
明の単離しうる中間体を、例34〜39に記載した手順
により作成した。
例 34
次の順序で29.48gのジプロピルケトンと0.06
qのロジウムフルオロカルボニルビスくトリフェニルホ
スフィン)とo、osgのトリフェニルホスフィンとo
、 41gのp−クロル安息香酸とを、窒素がパージさ
れた4オンス(120m1>の細口環に充填した。得ら
れた混合物を42℃まで加熱して、透明な黄色触媒溶液
を生ぜしめた。冷却すると、羽毛状の白色固体が溶液か
ら沈澱するのが観察された。
qのロジウムフルオロカルボニルビスくトリフェニルホ
スフィン)とo、osgのトリフェニルホスフィンとo
、 41gのp−クロル安息香酸とを、窒素がパージさ
れた4オンス(120m1>の細口環に充填した。得ら
れた混合物を42℃まで加熱して、透明な黄色触媒溶液
を生ぜしめた。冷却すると、羽毛状の白色固体が溶液か
ら沈澱するのが観察された。
その後、溶液を約40分間かけて100℃まで加熱し、
その間濁った沈澱物の形成が認められ、熱源から除去し
かつ約20℃±°5℃にて1晩静置した。その後、沈澱
物を溶液から濾過除去し、5ml1の沸騰アセトンで2
回抽出しかつ乾燥させた。赤外スペクトルをこの生成物
につき決定し、これをスペクトルA及びCとして後記図
面に示す。
その間濁った沈澱物の形成が認められ、熱源から除去し
かつ約20℃±°5℃にて1晩静置した。その後、沈澱
物を溶液から濾過除去し、5ml1の沸騰アセトンで2
回抽出しかつ乾燥させた。赤外スペクトルをこの生成物
につき決定し、これをスペクトルA及びCとして後記図
面に示す。
例35
29、39(lのジプロピルケトンと0.12gのロジ
ウムフルオロカルボニルビス(トリフェニルホスフィン
)と0.09(]のトリフェニルホスフィンと0.40
C1のp−二トロ安息香酸とを例34に記載したように
合して混合物を作成し、これを次いで約100℃の温度
まで力0然して触媒溶液を生ぜしめた。溶液をこの温度
まで加熱すると、沈澱物の形成が認められた。その後、
溶液を熱源から外しかつ約20℃±5℃の温度で1晩静
置した。次いで沈澱物を溶液から濾過除去し、5威の水
で洗浄し、107のアセトンで2回抽出しかつ乾燥させ
た。この生成物につき赤外スペクトルを決定し、これを
スペクトルIとして後記図面に示す。
ウムフルオロカルボニルビス(トリフェニルホスフィン
)と0.09(]のトリフェニルホスフィンと0.40
C1のp−二トロ安息香酸とを例34に記載したように
合して混合物を作成し、これを次いで約100℃の温度
まで力0然して触媒溶液を生ぜしめた。溶液をこの温度
まで加熱すると、沈澱物の形成が認められた。その後、
溶液を熱源から外しかつ約20℃±5℃の温度で1晩静
置した。次いで沈澱物を溶液から濾過除去し、5威の水
で洗浄し、107のアセトンで2回抽出しかつ乾燥させ
た。この生成物につき赤外スペクトルを決定し、これを
スペクトルIとして後記図面に示す。
例36
88、85gのジプロピルケトンと0.28(]のロジ
ウムオクタデシルカルボニルビス(トリフェニルホスフ
ィン)テトラフェニルボレートと0.14gのトリフェ
ニルホスフィンと1.23(lのp−クロル安息香酸と
を例34に記載したように合して反応混合物を作成し、
これを次いで約50℃の温度まで加熱すると共にこの温
度に1時間維持して触媒溶液を生ぜしめた。20℃±5
°Cの温度まで冷却すると、沈澱物が観察された。この
沈澱物を溶液から濾過除去し、アセトンで洗浄し、5d
の沸騰アセトンで2回抽出しかつ乾燥させた。この生成
物につき赤外スペクトルを決定し、これをスペクトルD
として後記図面に示す。
ウムオクタデシルカルボニルビス(トリフェニルホスフ
ィン)テトラフェニルボレートと0.14gのトリフェ
ニルホスフィンと1.23(lのp−クロル安息香酸と
を例34に記載したように合して反応混合物を作成し、
これを次いで約50℃の温度まで加熱すると共にこの温
度に1時間維持して触媒溶液を生ぜしめた。20℃±5
°Cの温度まで冷却すると、沈澱物が観察された。この
沈澱物を溶液から濾過除去し、アセトンで洗浄し、5d
の沸騰アセトンで2回抽出しかつ乾燥させた。この生成
物につき赤外スペクトルを決定し、これをスペクトルD
として後記図面に示す。
例 37
29、42(]のジプロピルケトンと0.09(Jのロ
ジウムオクタデシルカルボニルビス(トリフェニルホス
フィン)テトラフェニルポレートと0.05(lのトリ
フェニルホスフィンと0.44pのp−ニトロ安息香酸
とを例34に記載したように合して反応混合物を作成し
、次いでこれを約50℃の温度まで加熱すると共にこの
温度に約5分間維持して触媒溶液を生ぜしめた。約20
℃±5℃の温度まで冷却すると、沈澱物の形成が観察さ
れた。この沈澱物を溶液から濾過除去し、アセトンで洗
浄しかつ5dの沸騰アセトンで抽出した。この生成物に
つき赤外スペクトルを採取し、かつスペクトルE及びG
として後記図面に示す。
ジウムオクタデシルカルボニルビス(トリフェニルホス
フィン)テトラフェニルポレートと0.05(lのトリ
フェニルホスフィンと0.44pのp−ニトロ安息香酸
とを例34に記載したように合して反応混合物を作成し
、次いでこれを約50℃の温度まで加熱すると共にこの
温度に約5分間維持して触媒溶液を生ぜしめた。約20
℃±5℃の温度まで冷却すると、沈澱物の形成が観察さ
れた。この沈澱物を溶液から濾過除去し、アセトンで洗
浄しかつ5dの沸騰アセトンで抽出した。この生成物に
つき赤外スペクトルを採取し、かつスペクトルE及びG
として後記図面に示す。
例 38
42□50(lのジプロピルケトンと0.27(]のロ
ジウムヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフ
ィン)と1.46(lのp−ニトロ安息香酸とを例34
に記載したように合して反応混合物を作成し、次いでこ
れを約95℃の温度まで加熱して触媒溶液を生ぜしめた
。混合物をこの温度まで加熱すると、沈澱物の形成が認
められた。その1卦、溶液を熱源から除去しかつ20℃
±5°Cの温度まで冷却した。
ジウムヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフ
ィン)と1.46(lのp−ニトロ安息香酸とを例34
に記載したように合して反応混合物を作成し、次いでこ
れを約95℃の温度まで加熱して触媒溶液を生ぜしめた
。混合物をこの温度まで加熱すると、沈澱物の形成が認
められた。その1卦、溶液を熱源から除去しかつ20℃
±5°Cの温度まで冷却した。
沈澱物を溶液、から濾過除去し、15m1のアセトンで
3回洗浄し、15dの沸騰アセトンで1回抽出しかつ乾
燥させた。この生成物につき赤外スペクトルを採取し、
これをスペクトルFとして後記図面に示す。
3回洗浄し、15dの沸騰アセトンで1回抽出しかつ乾
燥させた。この生成物につき赤外スペクトルを採取し、
これをスペクトルFとして後記図面に示す。
例39
29、45(]のジプロピルケトンと0.02(lのロ
ジウムジカルボニルアセチルアセトネート リフェニルホスフィンと0. 44gのp−ニトロ安息
香酸とを例34に記載したように合して混合物を作成し
、これを次いで140℃の温度まで加熱して触媒溶液を
得た。その1卦、溶液を約20℃±5°Cの温度で1晩
静置し、その間沈澱物の形成が認められた。この沈澱物
を溶液から濾過し、25m1のアセトンで2回洗浄しか
つ乾燥させた。この生成物につぎ赤外スペクトルを採取
し、これをスペクトルHとして後記図面に示す。
ジウムジカルボニルアセチルアセトネート リフェニルホスフィンと0. 44gのp−ニトロ安息
香酸とを例34に記載したように合して混合物を作成し
、これを次いで140℃の温度まで加熱して触媒溶液を
得た。その1卦、溶液を約20℃±5°Cの温度で1晩
静置し、その間沈澱物の形成が認められた。この沈澱物
を溶液から濾過し、25m1のアセトンで2回洗浄しか
つ乾燥させた。この生成物につぎ赤外スペクトルを採取
し、これをスペクトルHとして後記図面に示す。
比較目的で、t rans−Rh (02CC6−H4
P−NO2)(co)(TPP>2 、すなわちスペク
トルrBJとして示した平方面状鏡体を第1図に示す。
P−NO2)(co)(TPP>2 、すなわちスペク
トルrBJとして示した平方面状鏡体を第1図に示す。
p−クロル安息香酸から作成した中間体にはニトロ基が
存在しないことによる振動の他に、例34〜39の単離
しうる中間体のスペクトルは互いに極めて類似し、かつ
trans−Rh−(02C06F1a P−NO2
)(co)(TPP>2につきjqられたスペクトルと
は顕著に相違する。
存在しないことによる振動の他に、例34〜39の単離
しうる中間体のスペクトルは互いに極めて類似し、かつ
trans−Rh−(02C06F1a P−NO2
)(co)(TPP>2につきjqられたスペクトルと
は顕著に相違する。
特に注目すべきは、スペクトルBに存在する1970C
m−1の特徴的ピークが例34〜39の錯中間体につき
得られたスペクトルには存在しない。
m−1の特徴的ピークが例34〜39の錯中間体につき
得られたスペクトルには存在しない。
第1図は英国特許筒1.181.806号公報に記載さ
れた平方面状ロジウム化合物の赤外スペクトル(スペク
トルB)及び本発明の単離しうる錯中間体の赤外スペク
トル(スペクトルA)を示す特性曲線図であり、 第2図及び第3図は本発明による数種の単離しうる錯中
間体の赤外スペク1〜ルを示す特性曲線図であり、ざら
に 第1図、第2図及び第3図は本明細書の実施例34〜3
9にも記載されたものである。 FIG、1 FIG、2
れた平方面状ロジウム化合物の赤外スペクトル(スペク
トルB)及び本発明の単離しうる錯中間体の赤外スペク
トル(スペクトルA)を示す特性曲線図であり、 第2図及び第3図は本発明による数種の単離しうる錯中
間体の赤外スペク1〜ルを示す特性曲線図であり、ざら
に 第1図、第2図及び第3図は本明細書の実施例34〜3
9にも記載されたものである。 FIG、1 FIG、2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)アルデヒド又はケトンとアルデヒドとの混合物を
製造するためのヒドロカルボニル化法において、 ( I )(a)(i)トリ有機ホスフィンと、(ii)
パラ位置が電子吸引基で置 換されたフェニル基を有し、このフェニ ル基が他の置換基を持たずかつ前記電子 吸引基が実質的にこの方法にて非反応性 であるカルボン酸と の錯体組合せにて実質的にロジウムよりなる触媒量の錯
体触媒と、 (b)2〜5個の炭素原子を有するα− オレフィンと、 (c)一酸化炭素、 (d)水素と からなる反応混合物を作成し、ただしこの反応混合物は
少なくとも約2の前記カルボン酸とロジウムとのモル比
を有し、 (II)前記反応混合物を前記成分(b)と(c)と(d
)とが反応してアルデヒド又はケトンとアルデヒドとの
混合物を生成する温度及び圧力に維持する ことを特徴とするヒドロカルボニル化法。 (2)電子吸引基が少なくとも塩素と同程度に電子吸引
性である請求項1記載の方法。 (3)トリ有機ホスフィンが置換及び未置換のトリアリ
ールホスフィン、置換及び未置換のアルキルジアリール
ホスフィン、並びに置換及び未置換のジアルキルフェニ
ルホスフィンよりなる群から選択される一員である請求
項1記載の方法。 (4)反応混合物が、錯体触媒用の溶剤であると共に実
質的にこの方法に非反応性である有機化合物をさらに含
む請求項1記載の方法。 (5)反応混合物を約50〜約200℃の温度かつ約5
25psi未満のα−オレフィンと一酸化炭素と水素と
の全ガス圧力に維持する請求項1記載の方法。 (6)α−オレフィンがエチレンである請求項5記載の
方法。 (7)反応混合物が、α−オレフィンと一酸化炭素と水
素との全ガス圧力に対し約5〜約15%の一酸化炭素の
分圧を有する請求項1記載の方法。 (8)カルボン酸がパラ位置にて電子吸引基により置換
された安息香酸であり、前記電子吸引基が少なくとも塩
素と同程度に電子吸引性である請求項1記載の方法。 (9)反応混合物が約4以下のトリ有機ホスフィンとロ
ジウムとのモル比を有する請求項1記載の方法。 (10)カルボン酸とロジウムとのモル比が少なくとも
約7である請求項1記載の方法。 (11)トリ有機ホスフィンが置換若しくは未置換のト
リアリールホスフィンである請求項1記載の方法。 (12)反応混合物が、α−オレフィン1モル当り少な
くとも約1×10^−^5モルのロジウムを含有する請
求項1記載の方法。 (13)カルボン酸をp−クロル安息香酸、p−フルオ
ロ安息香酸及びp−ニトロ安息香酸よりなる群から選択
する請求項1記載の方法。 (14)トリアリールホスフィンがトリフェニルホスフ
ィンである請求項1記載の方法。 (15)反応混合物が、α−オレフィンと一酸化炭素と
水素との全ガス圧力に対し約5〜約50%の一酸化炭素
の分圧を有する請求項1記載の方法。 (16)錯体触媒用の溶剤である非反応性有機溶剤を3
−ペンタノン、4−ヘプタノン及びテトラエチレングリ
コールジメチルエーテルよりなる群から選択する請求項
4記載の方法。 (17)式: [Rh_xR_yL_z]_2 [式中、Rはトリ有機ホスフィン配位子であり、Lはパ
ラ位置が非反応性電子吸引基により置換されかつヒドロ
カルボニル化条件下で実質的に非反応性であって他の置
換基を持たないフェニル基を有するカルボキシレート配
位子であり、xは約0.8〜約1.2の数値を有し、y
は約2.0〜約2.8の数値を有し、zは約1.7〜約
2.2の数値を有し、y対xのモル比は約1.8〜約2
.2であり、さらにz対xのモル比は約2.0〜約2.
6である] の錯体からなる触媒中間体。 (18)RはトリフェニルホスフィンでありかつLは非
反応性電子吸引基によりパラ位置にて置換されかつヒド
ロカルボニル化条件下で実質的に非反応性であり、少な
くとも塩素と同程度に電子吸引性でありかつ他の置換基
を持たないフェニル基を有するカルボキシレート配位子
である請求項17記載の触媒中間体。 (19)Lはp−クロル安息香酸、p−フルオロ安息香
酸及びp−ニトロ安息香酸よりなる群から選択されるカ
ルボン酸から誘導されたカルボキシレート配位子である
請求項18記載の触媒中間体。 (20)( I )(a)(i)ロジウム源と、(b)ト
リ有機ホスフィン源と、 (c)パラ位置が非反応性電子 吸引基により置換されかつ他の置換基を 持たないフェニル基を有するカルボン酸 と、 (d)成分(a)、(b)及び (c)に対する溶剤である有機化合物と からなる触媒形成性の反応混合物を作成し、ただし触媒
形成性の反応混合物は少なくとも約2のカルボン酸とロ
ジウムとのモル比を有し、(II)前記触媒形成性の反応
混合物を成分(a)と(b)と(c)とを錯生成させる
のに充分な温度及び圧力に維持する ことを特徴とするロジウム錯体触媒の製造方法。 (21)非反応性電子吸引基が少なくとも塩素と同程度
に電子吸引性である請求項20記載の方法。 (22)トリ有機ホスフィン源が置換若しくは未置換の
トリアリールホスフィンである請求項21記載の方法。 (23)トリアリールホスフィンがトリフェニルホスフ
ィンである請求項22記載の方法。 (24)ロジウム源をロジウムカルボニルアセチルアセ
トネート、ロジウムフルオロカルボニル−ビス(トリフ
ェニルホスフィン)、ロジウムヒドリドカルボニル−ト
リス(トリフェニルホスフィン)、及びロジウムオクタ
デシルカルボニル−ビス(トリフェニルホスフィン)テ
トラフェニルボレートよりなる群から選択する請求項2
3記載の方法。 (26)トリフェニルホスフィンとロジウムとのモル比
が約4以下である請求項25記載の方法。 (27)カルボン酸をp−クロル安息香酸、p−フルオ
ロ安息香酸及びp−ニトロ安息香酸よりなる群から選択
する請求項26記載の方法。 (28)成分(a)と(b)と(c)とに対する溶剤で
ある有機化合物を3−ペンタノン、4−ヘプタノン及び
テトラエチレングリコールジメチルエーテルよりなる群
から選択する請求項27記載の方法。 (29)触媒形成性の反応混合物を約40〜約140℃
の温度にて反応させる請求項28記載の方法。 (30)ケトンとアルデヒドとの混合物を製造するため
のヒドロアシル化法において、 ( I )(a)(i)トリアリールホスフィンと、(i
i)パラ位置が電子吸引基によ り置換されたフェニル基を有し、前記フ ェニル基が他の置換基を持たずかつ前記 電子吸引基がこの方法にて実質的に非反 応性であるカルボン酸と の錯体組合せにてロジウムより実質的になる触媒量の錯
体触媒と、 (b)2〜4個の炭素原子を有するα− オレフィンと、 (c)一酸化炭素と、 (d)水素と からなる反応混合物を形成し、ただしこの反応混合物は
少なくとも7の前記カルボン酸とロジウムとのモル比を
有し、さらに反応混合物中に存在するトリアリールホス
フィンとロジウムとの比が約3以下であり、 (II)前記反応混合物を約50〜約200℃の温度かつ
525pSi未満のα−オレフィンと一酸化炭素と水素
との全圧力に維持し、一酸化炭素の分圧は一酸化炭素と
α−オレフィンと水素との全圧力に対し約5〜約50%
であり、ただし一酸化炭素の分圧は一酸化炭素とα−ア
ルケンと水素との全圧力に対し約5〜約20%であり、
α−アルケンと水素との分圧の比は約5/1〜約1/5
であり、さらに一酸化炭素の分圧が一酸化炭素とα−オ
レフィンと水素との全圧力に対し約21〜約50%であ
る際α−オレフィンと水素との分圧の比は約5/1〜約
2/1である ことを特徴とするヒドロアシル化法。 (31)電子吸引基が少なくとも塩素と同程度に電子吸
引性である請求項30記載の方法。 (32)α−オレフィンがエチレン若しくはプロピレン
である請求項30記載の方法。 (33)カルボン酸をp−クロル安息香酸、p−フルオ
ロ安息香酸及びp−ニトロ安息香酸よりなる群から選択
する請求項32記載の方法。 (34)α−オレフィンと一酸化炭素と水素との全圧力
が約100〜約300psiである請求項33記載の方
法。 (35)成分(a)と(b)と(c)とに対する溶剤で
ある有機化合物を3−ペンタノン、4−ヘプタノン及び
テトラエチレングリコールジメチルエーテルよりなる群
から選択する請求項34記載の方法。
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