JPH01262926A - 気体分離膜とその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は気体分子ＵＩＱおよびその製造法に関するもの
である。さらに詳しくいえば、本発明は、透過係数およ
び分離係数が共に大きく、燃焼設備、食品工業、医療機
器、廃棄物処理設備など、気体分離を必要とする分野に
おいて好適に用いられる気体分離膜、およびこのものを
効率よく製造する方法に関するものである。

［従来の技術］ 従来、気体の分前方法としては、たとえば冷却凝縮蒸留
法、吸着分離法、溶媒抽出分離法など穫々の方法が知ら
れているが、これらの方法においては、多大のエネルギ
ーと複雑な設備を必要とするなどの欠点があった。

そこで、近年、この気体の分離を多孔質材料がら成る膜
を用いて行うことにより、エネルギー消費を低減するな
どの試みが盛んに行われている。

このような多孔質材料からなる膜を用いて気体を分離す
る方法としては、たとえば、 ■気体の選択的透過性、特に酸素分子の選択的透過性に
優れるポリオルガノシロキサンを、その膜強度などを改
良することを目的として、他の高分子化合物、たとえば
ポリカーボネートやポリウレタン、ポリスチレン、ポリ
フェニレンオキシドなどとの共重合体としたり、あるい
はブレンドして得た素材を用いるもの（特開昭４８−６
４１９９号公報、同５８−１６３４０３号公報、同５８
−１４９２８号公報など）、 ■多孔性の高分子物質を素材とするもの、■多孔質の支
持体の表面に薄膜を付与した複合膜を用いるもの（特公
昭５９−３２０１号公報など）、 などが知られている。

しかしながら、前記■および■は、気体の透過性能が十
分でなく、一方、■では選択性が十分でないという欠点
を有している。

また、多孔性の高分子物質の細孔に、ポリオルガノシロ
キサンを含浸する方法も試みられてい番が、それだけで
は気体の透過性能が低く、実用上十分な性能が得られな
いという問題点があった。

他方、高分子膜の表面または内部に、銀などの金属の薄
層を形成させたガス分離用複合膜が提案されている（特
開昭５８−８５１０号公報）、シかしながら、この複合
膜においては、空気を透過させた場合、Ｏ＊　／　Ｎ　
２の分離係数は金属の薄層を形成させない場合が１．０
であるのに対し、３．０と増大しているものの、透過係
数は、金属の薄層を形成しない場合がｔ、１ｘｉｏ°７
であるのに対し、７．０Ｘ１０−’とかなり減少してお
り、透過係数については十分に満足しうるとはいえない
。

さらに、スルホン基を有するＮａｆｉｏｎ膜上の該スル
ホン基を介して銀を付着させたＮａｆｉｏｎ−Ａｇ複合
膜による酸素−窒素の分離が報告されている［「ジャー
ナル・オブ・メンプラン・サイエンス（Ｊ、Ｍｅｍｂｒ
ａｎｅ　　Ｓｃｉ、）」第３１巻、第２２７ページ＜１
９８７年）］、シかしながら、このＮａｆｉｏｎ−Ａｇ
複合膜においては、Ｏ＊　／　Ｎ　！の分離係数は銀を
付着させない場合が２．０であるのに対し、１１．０と
著しく増大しているものの、透過係数は、銀を付着させ
ない場合が１．５Ｘ１０””であるのに対し、１．０Ｘ
１０−”とわずかではあるが減少しており、また透過係
数の値についても必ずしも満足しうるちのではない。

［発明が解決しようとする課ｆｆ］ 本発明は、このような従来の気体分離膜が有する欠点を
克服し、分離係数および透過係数が共に大きく、選択性
と透過性に優れた気体分離膜、およびこのものを効率よ
く製造する方法を提供することを目的としてなされたも
のである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは前記目的を達成するために鋭意研究を重ね
た結果、多孔質基材の表面に銀の薄層を設け、次いでこ
れにシロキサン系ポリマーを含浸させたのち乾燥処理す
るか、又は架橋性シロキサン系ポリマーを含浸させたの
ち部分架橋処理を行うことにより、分離係数および透過
係数の大きな気体分離膜が得られること、さらに、前記
部分架橋処理したものを溶媒抽出して、未架橋のシロキ
サン系ポリマーを除去することにより、透過係数が一層
増大した気体分離膜が得られることを見い出し、この知
見に基づいて本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は多孔質基材の表面に銀の薄　゛　。

層を設け、かつ該薄層の上および細孔内壁にオルガノシ
ロキサン系重合体の薄層を形成させたことを特徴とする
気体分離膜を提供するものである。

この気体分離膜は、本発明に従えば、多孔質基材の表面
に銀の薄層を設け、次いでこれにシロキサン系ポリマー
を含浸させたのち、乾燥処理するか、または架橋性シロ
キサン系ポリマーを含浸させたのち、部分架橋処理を行
うことにより製造することができるし、また、多孔質基
材の表面に銀の薄層を設け、次いで、これに架橋性シロ
キサン系ポリマーを含浸させたのち、部分架橋処理を行
い、さらに溶媒を用いて未架橋のシロキサン系ポリマー
を抽出除去することにより、−層通過係数の増大した前
記気体分Ｍｍを製造することができる。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明における多孔質基材としては、平均孔径が０．１
〜１０μｍ程度の比較的大きな孔を有するものであれば
、従来慣用されている無機系および有機系のものの中か
ら任意のものを選択して用いることができる。この多孔
質基材の具体例としては、ニトロセルロース、酢酸セル
ロース、アクリル系ポリマー、フッ素系樹脂、ポリオレ
フィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、塩ビ系
ポリマー、多孔質シリカ、多孔質アルミナなどを挙げる
ことができる。これらの多孔質基材の平均孔径が０．１
μｍ未満では気体の透過性能が不十分となるおそれがあ
るし、１０μｍを超えると透過選択性が低下する傾向が
生じ、好ましくない。

この多孔質基材の形態については特に制限はなく、たと
えば平膜状、中空糸状、チューブ状などいずれの形態の
ものも使用することができるし、また所望により、多孔
質セラミック系支持体、多孔質有機高分子系支持体、多
孔質金属系支持体などに支持されたものであってもよい
。

本発明においては、前記の多孔質基材の表面に、まず銀
の薄層を設けるが、この銀の薄層を設ける方法としては
、公知の方法、たとえば真空蒸着法、イオンブレーティ
ング法、スパッタリング法などを用いることができる。

真空蒸着法によって銀の薄層を形成させる場合には、た
とえばペルジャー型蒸着装置に、多孔質基材および金属
銀をセットしたのち、１（１’ｔｏｒｒ程度の十分な真
空下で該金属銀の入ったタングステンボートを加熱して
、銀蒸気を多孔質基材表面に接触させ、銀を析出させる
。このようにして形成される銀の薄層の厚みの調節は、
加熱温度および蒸着時間を変えることによって任意に行
うことができる。該薄層の厚みは、通常５０〜５０００
人、好ましくは１００〜１０００人の範囲で選ばれる。

この厚みに関しては、銀の薄層によって多孔質基材の微
細孔が閉窓されないようにすることが重要である。した
がって、使用する多孔質基材の微細孔の孔径に合せて、
孔径が大なるときはこの厚みも大とすべきである。

また前記方法以外に、硝酸銀を塗布したのち、硝酸根を
除去することにより、基材上に銀の薄層を形成させる方
法も用いることができる。また、銀の微粒子を分散させ
たペーストを塗布あるいは含浸させる方法を採用しても
よい、これらの場合、生成する銀の薄層が厚くなりやす
いので、多孔質基材の細孔径の比較的大なるものに適用
した方が好ましい。

本発明においては、多孔質基材の表面に、このようにし
て銀の薄層を形成したのち、さらに分離性を付与するた
めにシロキサン系ポリマーによる処理が行われる。この
シロキサン系ポリマーによる処理方法としては、（１）
シロキサン系ポリマーを含浸したのち乾燥処理する方法
、（２）架橋性シロキサン系ポリマーを含浸したのち部
分架橋処理する方法、（３）架橋性シロキサン系ポリマ
ーを含浸したのち、部分架橋処理を行い、さらに溶媒を
用いて未架橋のシロキサン系ポリマーを抽出除去する方
法の３ＦＩＩの方法が月いられる。

前記（１）の方法においては、シロキサン系ポリマーと
して、それ自体で十分な効果を発揮しうるもの、たとえ
ば、一般式 （式中のＲ１およびＲ２は、それぞれ水素原子、炭素数
１〜４のアルキル基、フェニル基、ビニル基などであり
、ｎは重合度を示す数である）で表わされるシリコーン
ゴムや、−最大（式中のＲ１およびＲ２は前記と同じ意
味をもち、ＡはビスフェノールＡｆｉポリカーボネート
、脂肪族エーテル、ポリスチレンなどのセグメントであ
る） で表わされる構成単位を有するコポリマーなどを用い、
適当な溶媒、たとえばクロロホルムやｎ−ヘキサンなど
に溶解し、この溶液を前記の表面に鋏の薄層が設けられ
た多孔質材料に含浸させなのち、乾燥処理が行われる。

該含浸処理は、一般に用いられている手法、たとえば浸
漬法、スプレー法、各種塗布法などによって行うことが
できる。

また、該多孔質材料の全体に施してもよいし、所望部分
のみに施してもよく、また、含浸操作として、該多孔質
材料の片面側（多孔質材料が中空糸状のものである場合
は、その内面または外面側）から施してもよいし、多孔
質材料全体を浸漬するなどして、両面側から施してもよ
い。

このシロキサン系ポリマーの使用量は、用いる多孔質材
料の細孔容積や形成されるシロキサン系ポリマーの所望
膜厚などによって異なり、−概に定めることができない
が、少なくとも該多孔質材料の気体透過断面の全面にわ
たる細孔内部を含浸するのに十分な量で、通常多孔質材
料１００重量部当り、１０〜５００重量部、好ましくは
２０〜２５０重量部の範囲で選ばれる。

このようにして、シロキサン系ポリマーの含浸処理を行
ったのち、通常の手段によって加熱処理を行い、溶媒を
蒸発させて、多孔質材料の表面に設けられた銀の薄層上
および細孔内壁に、所望の厚さの該オルガノシロキサン
系重合体の薄層を形成させる。

一方、前記（２）および（３）の方法においては、シロ
キサン系ポリマーとして架橋性のものが用いられる。こ
の架橋性シロキサン系ポリマーとしては、従来酸素など
の気体の分Ｉ１１膜の素材として慣用されているものを
用いることができる。このような架橋性シロキサン系ポ
リマーとしては、たとえば−最大 （式中のＹおよびＺは、それぞれ−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｎ
Ｈｆ、−ＯＨ、エポキシ基などであり、Ｒ１、Ｒ１およ
びｎは前記と同じ意味をもつ）で表わされる官能基を有
するシロキサン系ポリマーやプレポリマーなどを挙げる
ことができる。

この架橋性シロキサン系ポリマーは、必要に応じ、たと
えばジメチルジクロロシランなどの２官能性有機シラン
化合物やメチルトリクロロシランなどの３官能性有機シ
ラン化合物などの架橋剤、重合促進剤、分子量調節剤、
老化防止剤などの添加剤や他のポリマーなどを添加して
用いてもよい。

該架橋性シロキサン系ポリマーの官能基の種類や割合、
必要に応じて用いられる架橋剤の種類や量は、所望の気
体分ＮＷＡの性質に応じて適宜選択することができる。

該架橋性シロキサン系ポリマーが液状である場合には、
溶媒を用いる必要がなく、そのまま多孔質材料に含浸さ
せてもよいが、高粘度液体や固体である場合には適当な
溶媒を用い、希釈して含浸させることが望ましい、含浸
方法や含浸量については、前記（１）の場合と同様であ
る。

このようにして含浸処理された架橋性シロキサン系ポリ
マーは、溶媒を用いない場合はそのまま架橋処理を行っ
てもよいが、溶媒を用いる場合には、溶媒を蒸発などに
より除去したのち、架橋処理を行ってもよいし、溶媒を
除去しないで架橋処理を行ったのち、溶媒を除去しても
よい、架橋処理としては、従来慣用されている方法、た
とえば加熱処理法や紫外線照射法などを用いることがで
きる。加熱処理の条件については、使用する架橋性シロ
キサン系ポリマーの種類、架橋剤の種類や量などによっ
て左右され、−概に定めることができないが、通常１０
〜１５０℃、好ましくは５０〜１００℃の範囲の温度に
おいて、通常１分ないし２時間、好ましくは１０〜３０
分間程度加熱することにより、架橋が行われる。

（２）の方法においては、架橋処理後、溶媒による抽出
処理を施さないので、ポリマーで細孔をふさがない程度
に含浸させ、架橋処理することが肝要である。

（３）の方法においては、架橋処理後、溶媒による抽出
処理を施して、未架橋のシロキサン系ポリマーの抽出除
去が行われる。この抽出処理によって、得られる気体分
離膜の透過係数はより一層増大する。このような溶媒に
よる抽出処理を施すために、前記架橋処理における架橋
度はＪＩＳ　　Ｋ−２２２０による針入度で２０〜１５
０、好ましくは５０〜８０の範囲になるように調節する
ことが望ましい、この架橋度が針入度で２０未満では、
溶媒による抽出処理時に、架橋処理物中の未架橋シロキ
サン系ポリマーの抽出除去が有効に行われず、透過係数
の増大が期待できないし、針入度で１５０を超えると該
抽出処理で架橋処理物がほとんど抽出され、その結果気
体分子膜の選択性が低下するおそれがある。

この抽出処理に使用する溶媒としては、たとえば、ヘキ
サン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水
素、四塩化炭素、ジクロロメタン、トリクロロエタン、
テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、クロロベン
ゼンなどのハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどの環状エーテルなどが挙げられるが、こ
れらの中で芳香族炭化水素が好ましく、特にベンゼン、
トルエン、キシレンが好適である。

該溶媒抽出処理の条件については、使用する架橋性シロ
キサン系ポリマーや溶媒のＦｌ類によって異なり、−概
に定めることができないが、通常２０〜１５０℃、好ま
しくは５０〜１００℃の範囲の温度において、通常１分
ないし、１時間、好ましくは１０〜３０分間程度処理が
行われる。

このようにして溶媒抽出処理を行ったのち、所望に応じ
、さらに、前記溶媒などで洗浄処理を施してもよい、残
存溶媒は、通常の乾燥方法、たとえば加熱乾燥法、熱風
乾燥法、減圧乾燥法などにより乾燥し、所望の気体分離
膜を得ることができる。

このようにして作製された気体分離膜は、第１図の表面
拡大断面図で示されるように、多孔質基材１の表面に銀
の薄層２を有し、かつ該薄層２の上および細孔３の内壁
にオルガノシロキサン系重合体の薄層４が設けられた構
造を有しており、透過係数および分！係数共に大きく、
気体の透過性能および透過選択性に潰れる上、膜強度も
高いなどの特徴を有している。

この気体分ｌｌ１ｔ膜は、支持体を用いずそのまま使用
してもよいし、前記したように支持体に支持して用いて
もよく、あるいは前記製造法の過程において、該支持体
に支持することもできる。また、該気体分離膜は、その
まま単独で用いてもよいし、所望に応じ２種以上を重ね
て多層構造として用いてもよい。

［実施例］ 次に５実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。

（実施例１） 孔径０．３μｍのニトロセルロース多孔質メンプランの
表面に、真空蒸着法により銀を蒸着し、厚み２５０人の
銀の薄層を形成した０次に、これにシリコーンゴム／ク
ロロホルム溶液を含浸させたのち、乾燥して気体分離膜
を作製した。

得られた気体分Ｎ膜を用いて　圧力１ｋｌＦ／ｃｉ＋”
、温度２０℃の条件で空気の透過テストを行った。

その結果、 透過係数Ｐ　＝　２　、１　Ｘ　１０−”ｃｃ−ｃｘ／
ｃｍ”ｓｅｔ−ｃｍＨｇ、分離係数（０２／　Ｎ　２　
）α＝３．３であった。

なお、シリコーンゴムとしては、 の構造を有する分子量３０　、ＯＯＯのものを用いた。

（比較例１） 実施例１において、シリコーンゴム層を形成しなかった
こと以外は、実施例１と同様にして実施した。その結果
、 Ｐ＝６．ＯＸ　１０−”ｃｃ−ｃｚ／ｃｚ”−ｓｅａ−
ｃｚＨｇ、α子１．０であった。

（比較例２） 実施例１において、銀の薄層を形成しなかったこと以外
は、実施例１と全く同様にして実施した。

その結果、 Ｐ＝　２．２　Ｘ　１０−”ｃｃ−ｃｗ／ｃｘ２−５ｅ
ｅ−ｃｘＨｇ、α＝２．０であった。

（実施例２） 孔径１．０μｍのニトロセルロース多孔質メンプランに
、銀を真空蒸着して、厚み３００人の銀の薄層を形成し
たのち、液状有機シロキサン化合ｖｌＪＡ（分子中に一
８ｉＨ結合を含む）と液状有機シロキサン化合物Ｂ（分
子中に−ＣＨ＝ＣＨｔ結合を含む）とを官能基モル比が
１：１になるように混合した液状組成物を含浸させ、７
０℃で２時間加熱して架橋処理し、気体分離膜を作製し
た。

この膜を用いて実施例１と同様の透過テストを行った結
果、 Ｐ　−２，２Ｘ　１０−”ｃｃ−ｃｍ／ｃｍ”　Ｈｓｅ
ｅ−ＣＩＨＩＩ、α−４，０であった。

（比較例３） 実施例２において、銀の薄層を形成しなかったこと以外
は、実施例２と同様にして実施した。その結果。

Ｐ寓２．６Ｘ　１０−”ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ”−ｓｅｅ−
ｃｍＲｇ。

０厘１．９であった。

（実施例３） 孔径０．８μｍのポリエーテルスルホン多孔質メンプラ
ンに、銀を真空蒸着して、厚み２００人の銀の薄層を設
けたのち、液状有機シロキサン化合物Ｃ（末端にエポキ
シ基を含有）と液状有機シロキサン化合物Ｄ（末端にア
ミノ基を含有）とを、官能基モル比が１＝１になるよう
に混合した液状組成物を含浸させ、１００℃で３時間加
熱して架橋処理を行い、気体分１ｌＩｉ膜を作製した。

この膜を用いて実施例１と同様の透過テストを行った結
果、Ｐ＝　１．８Ｘ　１０−”ｃｃ−ＣＩ／ＣＩ”−５
ｅａ−ｃｘＨｇ、α雪３．７であった。

（比較例４） 実施例３において、オルガノシロキサン系重合体の薄層
を形成させなかったこと以外は、実施例３と同様にして
実施した。その結果、 Ｐ＝１．９Ｘ１０°”ｃｃ　−ｃｍ／ｃｍ２−　ｓｅｅ
　ｅｃＩＩＨｇ、α！１．０であった。

（実施例４） 孔径０．８μｍのポリスルホン多孔質メンプランに、銀
を真空蒸着して、厚み３５０人の銀の薄層を形成したの
ち、オルガノシロキサン系重合体−とスフエノールＡ型
ポリカーボネートブロックコポリマーのクロロポルム溶
液を含浸させたのち、乾燥して気体分Ｎ膜を作製した。

この膜を用いて実施例１と同様の透過テストを行った結
果、Ｐ−２，３Ｘ１０°’ｃｃ　−ｃｍ／　ｃｍ”　・
ｓｅｅ　・ｃｘＨｙ、α＝３．０であった。

（比較例５） 実施例４において、オルガノシロキサン系重合体の薄層
を形成させなかったこと以外は、実施例４と同様にして
実施した。その結果、 Ｐ＝　２．２　Ｘ　１０−’ｃｃ−ｃｍ／ｃｍ”　−ｓ
ｅｏ−ｃａｎｇ、０厘１．０であった。

（実施例５） 孔径０．６５μｍのガラス繊維フィルターに、銀を真空
蒸着させ、厚み３５０人の銀の薄層を形成したのち、こ
れに液状有機シロキサン化合物Ａと液状有機シロキサン
化合物Ｂとを官能基モル比が１：１になるように混合し
た液状組成物を含浸させ、７０℃で２時間加熱して架橋
処理を行い、気体分離膜を作製した。この膜を用いて実
施例１と同様の透過テストを行った結果、 Ｐ＝１．８Ｘ１０−”ｃｃ−ｃｍ／ｃｍ”−ｓｅｔ−ｃ
ｍＨｇ、αｍ３．１であった。

（比較例６） 実施例５において、銀の薄層を形成しなかったこと以外
は、実施例５と同様にして実施した。その結果、 Ｐ　＝　２．２　Ｘ　１０−”ｃｃ　１ｃｍ／ｃｍ″−
３ｅＣ１Ｃｌ！Ａｇ、α：２．０であった。

（実施例６） 実施例２と同様の操作で得たメンプランを、トルエン中
に浸し、９０℃で３０分間加熱して未架橋物の抽出処理
を行ったのち、乾燥して気体分離膜を作製した。この膜
を用いて実施例１と同様の透過テストを行った結果、 Ｐｚ　１．３　Ｘ　１０−’ｃｃ−ｃｘ／ｃｗ”・５ｅ
ｅ−ｃｍＨｇ、α篇２．９であった。

（実施例７） 孔径０．８μｍのアクリル系多孔質メンプランに、銀を
真空蒸着して、厚み２５０人の銀の薄層を形成したのち
、液状有機シロキサン化合物Ａと液状有機シロキサン化
合物Ｂとを官能基のモル比が１：１になるように混合し
た液状組成物を含浸させ、７０°Ｃで２時間加熱して架
橋処理を行い、気体分離膜を作製した。この膜を用いて
実施例１と同様の透過テストを行った結果、 Ｐ＝２．４Ｘ　１０−＠ｃｃ−ｃｍ／ｃ１１”・ｓｅａ
−ｃｍＨｇ、α＝４．１であった。

（実施例８） 実施例７と同様の操作で得たメンプランをトルエン中に
浸し、９０℃で３０分間加熱して未架橋のオルガノシロ
キサン系重合体の抽出処理を行い、気体分ＰｌＩＭを作
製した。この膜を用いて実施例１と同様の透過テストを
行った結果、 Ｐ＝２．３Ｘ　１０−”ｃｃ−ｃｍ／ｃｍ”−ｓｅｔ−
ｃｍＮｇ。

０Ｍ２．８であった。

（比較例６） 実施例８において、銀の薄層を形成させなかったこと以
外は、実施例８と同様にして実施した。

その結果、 Ｐ−４，３Ｘ　１０−’ｃｃ−ｃｍ／ｃｗ”ｓｅｃ−ｃ
ｘＨｇ、６Ｍ１．９であった。

（実施例９） 孔径３．０μｍのニトロセルロース多孔質メンプランに
、銀の微粒子をトルエン中に分散したペーストを膜厚０
．１μｍとなるように塗布し、乾燥した。ついで、これ
を、液状有機シロキサン化合物Ａと、液状有機シロキサ
ン化合物Ｂとの官能基モル比１：１の混合液に含浸した
後、７０”Ｃに２時間加熱して架橋処理し、気体分離膜
を作製した。

この膜を用いて実施例１と同様の透過テストを行った結
果、 ｐ＝１．ｏｘｔ　Ｏ−”ｃｃ−ｃｍ／ｃｍ”−ｓｅｃ−
ｃａＨｇ、α＝４．０であった。

（実施例１０） 孔径５．０μｍのニトロセルロース多孔質メンプランに
、銀の微粒子をトルエン中に分散したペーストを膜厚０
．３μｍとなるように塗布し、乾燥した。ついで、これ
を、液状有機シロキサン化合物Ａと、液状有機シロキサ
ン化合物Ｂとの官能基モル比１：１の混合液に含浸した
後、７０℃に２時間加熱して架橋処理し、気体分離膜を
作製した。この腹を用いて実施例１と同様の透過テスト
を行った結果、 Ｐ　＝　１．２　Ｘ　１０−”ｃｃ−ｃｍ／ｃｍ″・５
ｅｅ−ｃａＨｇ、α＝４．１であった。

（実施例１１） 実施例９と同様のｔ：１ｍ　（％により得たメンプラン
を、トルエン中に浸漬し、９０℃に３０分間加熱して、
未架橋物の抽出処理を行ったのち、乾燥して気体分離膜
を作製した。この膜を用いて実施例１と同様の透過テス
トを行った結果、 Ｐ−１、ＯＸ　１０−”ｃｃ−ｃｘ／ｃｘ”−５ｅｃ−
ｃｚｌｌｇ、α＝２．５であった。

（実施例１２） 実施例１０と同様の操作により得たメンプランを、トル
エン中に浸漬し、９０℃に３０分間加熱して、未架橋物
の抽出処理を行ったのち、乾燥して気体分ｌｌｌ！膜を
作製した。

この膜を用いて実施例１と同様の透過テストを行った結
果、 Ｐ＝３．４Ｘ１０−”ｃｃ−ｃｚ／ｃｌ１２１ｓｅｃ−
ｃａＨｇ、α＝２．７であった。

［発明の効果コ 本発明の気体分離膜は、多孔質基材の表面に銀の薄層を
設けさらにその上細孔内壁にオルガノシロキサン系重合
体の薄層を形成させることにより、透過係数を現状の最
高レベルくシリコーン系材料）に保持し、かつ分離係数
を３．０〜４．５と大幅に向上させたものであって、気
体の透過性能および選択性能共に優れており、たとえば
燃焼設備、食品工業、医療機器、廃棄物処理設備など、
気体分離を必要とする分野において好適に用いられる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の気体分離膜の１例の表面拡大図であり
、図中符号１は多孔質基材、２は銀の薄層、３は細孔、
４はオルガノシロキサン系重合体の薄層である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）多孔質基材の表面に銀の薄層を設け、かつ該薄層
   の上および細孔内壁にオルガノシロキサン系重合体の薄
   層を形成させたことを特徴とする気体分離膜。
2. （２）多孔質基材の表面に銀の薄層を設け、次いでこれ
   にシロキサン系ポリマーを含浸させたのち乾燥処理する
   か、または架橋性シロキサン系ポリマーを含浸させたの
   ち、部分架橋処理を行うことを特徴とする、請求項１記
   載の気体分離膜の製造法。
3. （３）多孔質基材の表面に銀の薄層を設け、次いでこれ
   に架橋性シロキサン系ポリマーを含浸させたのち、部分
   架橋処理を行い、さらに溶媒を用いて未架橋のシロキサ
   ン系ポリマーを抽出除去することを特徴をする、請求項
   １記載の気体分離膜の製造法。