JPH01258642A - (メタ)アクリル酸エステルの製造法 - Google Patents
(メタ)アクリル酸エステルの製造法Info
- Publication number
- JPH01258642A JPH01258642A JP8310388A JP8310388A JPH01258642A JP H01258642 A JPH01258642 A JP H01258642A JP 8310388 A JP8310388 A JP 8310388A JP 8310388 A JP8310388 A JP 8310388A JP H01258642 A JPH01258642 A JP H01258642A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- alcohol
- mol
- acrylate
- methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 13
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims abstract description 9
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- -1 acrylic ester Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 238000009835 boiling Methods 0.000 abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 5
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- VNQNXQYZMPJLQX-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CN2C(N(CC=3C=C(C(O)=C(C=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(=O)N(CC=3C=C(C(O)=C(C=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C2=O)=O)=C1 VNQNXQYZMPJLQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C(C)(C)C)C(O)=C1 XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 2
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- SXJSETSRWNDWPP-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-4-phenylmethoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C(O)=CC=1OCC1=CC=CC=C1 SXJSETSRWNDWPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N (4-dodecoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYLSIPUARIZAHZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(1-phenylethyl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)C=2C=CC=CC=2)=C(O)C(C(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)C1=CC=CC=C1 BYLSIPUARIZAHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDWVSAYEQPLWMX-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylenebis(2,6-di-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 MDWVSAYEQPLWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFVPEIKDMMISQO-UHFFFAOYSA-N 4-[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC=C(O)C=C1 NFVPEIKDMMISQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMLSKYOPDGYLLU-UHFFFAOYSA-N 4-[[2,3-bis[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]phenyl]methyl]-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(CC=3C=C(C(O)=C(C=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C=CC=2)CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 NMLSKYOPDGYLLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAAQJFLUOUQAOG-UHFFFAOYSA-N 4-benzyl-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CC=2C=CC=CC=2)=C1 ZAAQJFLUOUQAOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000555745 Sciuridae Species 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006222 dimethylaminomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- LTYRAPJYLUPLCI-UHFFFAOYSA-N glycolonitrile Chemical compound OCC#N LTYRAPJYLUPLCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N glycolonitrile Natural products N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000006289 hydroxybenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- ITNVWQNWHXEMNS-UHFFFAOYSA-N methanolate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C ITNVWQNWHXEMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は(メタ)アクリル酸エステルの製造法に関する
。
。
(メタ)アクリル酸エステルは樹脂、塗料、接着剤、工
業用原料など、さまざまな分野で使用されるものである
。
業用原料など、さまざまな分野で使用されるものである
。
(メタ)アクリル酸エステルの製造法としては従来、
(メタ)アクリル酸と所望のアルコールとを酸触媒の存
在下に反応させる方法や、芳香族アミン化合物系の重合
禁止剤の存在下にメチル(メタ)アクリレートと所望の
アルコールとを触媒としてテトライソプロピルチタネー
トや酸化ジノルマルブチルスズ、またはオクチル酸スズ
などを用いて反応させる方法が知られている。また、U
SP3、686.268にはテトラフェニルチタネート
系の触媒を用いて所望の(メタ)アクリル酸エステルを
得る方法が開示されている。
(メタ)アクリル酸と所望のアルコールとを酸触媒の存
在下に反応させる方法や、芳香族アミン化合物系の重合
禁止剤の存在下にメチル(メタ)アクリレートと所望の
アルコールとを触媒としてテトライソプロピルチタネー
トや酸化ジノルマルブチルスズ、またはオクチル酸スズ
などを用いて反応させる方法が知られている。また、U
SP3、686.268にはテトラフェニルチタネート
系の触媒を用いて所望の(メタ)アクリル酸エステルを
得る方法が開示されている。
しかしながら、芳香族アミン化合物を重合禁止剤に用い
た場合、製品である(メタ)アクリル酸エステル中にア
ミン化合物が混入し易く、製品純度が低下し、さらに(
メタ)アクリル酸エステルの反応性に影晋を与える場合
もある。またスズ化合物を触媒に用いた場合はスズ誘導
体が製品中に混入し、同様の結果を与える。
た場合、製品である(メタ)アクリル酸エステル中にア
ミン化合物が混入し易く、製品純度が低下し、さらに(
メタ)アクリル酸エステルの反応性に影晋を与える場合
もある。またスズ化合物を触媒に用いた場合はスズ誘導
体が製品中に混入し、同様の結果を与える。
そしてUSP 3.686.268の場合は特殊なテト
ラフェニルチタネート系の触媒を使用するため、製品の
製造コストが高くなるという欠点がある。
ラフェニルチタネート系の触媒を使用するため、製品の
製造コストが高くなるという欠点がある。
本発明はかかる欠点を克服したものである。すなわち本
発明は、メチル又はエチル(メタ)アクリレートと炭素
数3〜20のアルコールとを反応させて(メタ)アクリ
ル酸エステルを製造する方法において、触媒としてテト
ラアルキルチタネート、重合禁止剤として立体障害性フ
ェノールを用いることを特徴とする (メタ)アクリル
酸エステルの製造法である。
発明は、メチル又はエチル(メタ)アクリレートと炭素
数3〜20のアルコールとを反応させて(メタ)アクリ
ル酸エステルを製造する方法において、触媒としてテト
ラアルキルチタネート、重合禁止剤として立体障害性フ
ェノールを用いることを特徴とする (メタ)アクリル
酸エステルの製造法である。
本発明において原料として用いる炭素数3〜20のアル
コールとしては、アルカノール類、アルコキシアルカノ
ール類、アルケノキシアルカノール類、アルテノール類
、フェノキシアルカノール類、シクロアルカノール類、
アルキルシクロアルカノール類、フェニルアルカノール
類、アルキルフェニルアルカノール類、ハロアルカノー
ル類、シアノアルカノール類、アミノアルカノール類、
などがあげられるが、アルカノール類、アルテノール類
、アミノアルカノール類が好ましく、アルカノール類が
特に好ましい。具体的には、ブタノール、アリルアルコ
ール、2−エチルヘキサノール、ステアリルアルコール
、ジメチルアミノエタノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、フェニルエタノール、エトキシエタ
ノール、グリコロニトリル、などを例示することができ
る。
コールとしては、アルカノール類、アルコキシアルカノ
ール類、アルケノキシアルカノール類、アルテノール類
、フェノキシアルカノール類、シクロアルカノール類、
アルキルシクロアルカノール類、フェニルアルカノール
類、アルキルフェニルアルカノール類、ハロアルカノー
ル類、シアノアルカノール類、アミノアルカノール類、
などがあげられるが、アルカノール類、アルテノール類
、アミノアルカノール類が好ましく、アルカノール類が
特に好ましい。具体的には、ブタノール、アリルアルコ
ール、2−エチルヘキサノール、ステアリルアルコール
、ジメチルアミノエタノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、フェニルエタノール、エトキシエタ
ノール、グリコロニトリル、などを例示することができ
る。
メチル又はエチル(メタ)アクリレートと仕込みアルコ
ールとの混合比率は、アルコール1モルに対して、通常
、メチル又はエチル(メタ)アクリレート1.0〜4.
0モル、好ましくは1.3〜3.0モルである。
ールとの混合比率は、アルコール1モルに対して、通常
、メチル又はエチル(メタ)アクリレート1.0〜4.
0モル、好ましくは1.3〜3.0モルである。
本発明において触媒として用いるテトラアルキルチタネ
ートのアルキル基は通常、メチル、エチル、プロピル、
ブチル、アリル、ペンチル、ヘキシル、オクチル等の炭
素数1〜12個のアルキル基であり、特にメチル、エチ
ル、プロピル、ブチルが好適に使用し得る。
ートのアルキル基は通常、メチル、エチル、プロピル、
ブチル、アリル、ペンチル、ヘキシル、オクチル等の炭
素数1〜12個のアルキル基であり、特にメチル、エチ
ル、プロピル、ブチルが好適に使用し得る。
テトラアルキルチタネートの使用量は仕込みアルコール
1モルに対して通常、o、ooi〜0.1モル、好まし
くは0.003〜0.03モルである。0.001モル
未満では(メタ)アクリル酸エステルの収率が低下した
り、未反応のアルコール回収工程が増えたり、反応時間
が長くなる、等の欠点がある。また0、1モルを超えて
も、 (メタ)アクリル酸エステルの収率、反応時間等
が大きく変化することはなく、ただ単に触媒の使用量の
増大、釜残成分の増大を招くだけである。
1モルに対して通常、o、ooi〜0.1モル、好まし
くは0.003〜0.03モルである。0.001モル
未満では(メタ)アクリル酸エステルの収率が低下した
り、未反応のアルコール回収工程が増えたり、反応時間
が長くなる、等の欠点がある。また0、1モルを超えて
も、 (メタ)アクリル酸エステルの収率、反応時間等
が大きく変化することはなく、ただ単に触媒の使用量の
増大、釜残成分の増大を招くだけである。
本発明で重合禁止剤として用いる立体障害性フェノール
は、メチル又はエチル(メタ)アクリレート、仕込みア
ルコール、生成した(メタ)アクリル酸エステル、特に
触媒であるテトラアルキルチタネートと反応しない構造
を持ち、重合禁止効果以外の他の反応は全く起こらない
ものであり、代表的にはモノ−、ビス−1またはトリス
−フェノール系の化合物である。 具体的にはフェノー
ルの水酸基に隣接して立体障害作用を与える基、例えば
ターシャリ−ブチル基、ジメチルアミノメチル基、ベン
ゾイル基、スチリル基、ベンゾトリアゾール基、ターシ
ャリ−アミル基、等を有する化合物である。 更に具体
的には例えば、3.5−ジ−ターシャリ−ブチル−4−
ヒドロキシトルエン、4.4’−チオビス (6−ター
シャリ−ブチル−3−メチルフェノール)、2.2°−
メチレンビス (4−エチル−6−ターシャリ−ブチル
フェノール)、4.4’−メチレンビス (2,6−ジ
ターシャリ−ブチルフェノール)、2,2°−メチレン
ビス (6−ターシャリ−ブチル−4−メチルフェノー
ル)、スチレン化フェノール、2、4.6− )リス
(ジメチルアミノメチル)フェノール、2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−
ノルマルオクトキシベンゾフェノン、4.4′−ブチリ
デンビス (3−メチル−6−ターシャリ−ブチルフェ
ノール) 、1.3.5−トリメチル−2,4,6−)
リス (3,5−ジ−ターシャリ−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)ベンゼン、トリス (3,5−ジ−ター
シャリ−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌ
レート、ビス (3,5−ジ−ターシャリ−ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)サルファイド、2−ヒドロキシ
−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ
−4−ノルマルドデシルオキシベンゾフェノン、2−(
2°−ヒドロキシ−5゛−メチルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(2’〜ヒドロキシ−3’、5”−ジ−
ターシャリ−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(2°−ヒドロキシ−3”、5゛−ジ−ターシャリ−
アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒ
ドロキシ−5′−ターシャリ−ブチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、等のモノ、ビス、及びトリスフェノール
系の化合物があげられ、3,5−ジ−ターシャリ−ブチ
ル−4−ヒドロキシトルエン、2.2’−メチレンビス
(4−エチル−6−タージャリーブチルフェノール)
、2.4.6−トリス (ジメチルアミノメチル)フェ
ノール、1.3.5−)ジメチル−2,4,6−トリス
(3,5−ジ−ターシャリ−ブチル−4=ヒドロキシ
ベンジル)ベンゼン、トリス (3,5−ジ−ターシャ
リ−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレ−
)、2−(2’−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)
ベンゾトリアゾールが好ましい。 立体障害性フェノー
ルの使用量は通常、メチル又はエチル(メタ)アクリレ
ートに対して100〜110000pp、好ましくは5
00〜5000ppmである。]、OOppm未満では
十分な重合禁止効果を得るのが困難となり、製品(メタ
)アクリル酸エステルの収率が大幅に低下する。100
00PI]mの範囲を超えても重合禁止効果に大きな差
は認められない。
は、メチル又はエチル(メタ)アクリレート、仕込みア
ルコール、生成した(メタ)アクリル酸エステル、特に
触媒であるテトラアルキルチタネートと反応しない構造
を持ち、重合禁止効果以外の他の反応は全く起こらない
ものであり、代表的にはモノ−、ビス−1またはトリス
−フェノール系の化合物である。 具体的にはフェノー
ルの水酸基に隣接して立体障害作用を与える基、例えば
ターシャリ−ブチル基、ジメチルアミノメチル基、ベン
ゾイル基、スチリル基、ベンゾトリアゾール基、ターシ
ャリ−アミル基、等を有する化合物である。 更に具体
的には例えば、3.5−ジ−ターシャリ−ブチル−4−
ヒドロキシトルエン、4.4’−チオビス (6−ター
シャリ−ブチル−3−メチルフェノール)、2.2°−
メチレンビス (4−エチル−6−ターシャリ−ブチル
フェノール)、4.4’−メチレンビス (2,6−ジ
ターシャリ−ブチルフェノール)、2,2°−メチレン
ビス (6−ターシャリ−ブチル−4−メチルフェノー
ル)、スチレン化フェノール、2、4.6− )リス
(ジメチルアミノメチル)フェノール、2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−
ノルマルオクトキシベンゾフェノン、4.4′−ブチリ
デンビス (3−メチル−6−ターシャリ−ブチルフェ
ノール) 、1.3.5−トリメチル−2,4,6−)
リス (3,5−ジ−ターシャリ−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)ベンゼン、トリス (3,5−ジ−ター
シャリ−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌ
レート、ビス (3,5−ジ−ターシャリ−ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)サルファイド、2−ヒドロキシ
−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ
−4−ノルマルドデシルオキシベンゾフェノン、2−(
2°−ヒドロキシ−5゛−メチルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(2’〜ヒドロキシ−3’、5”−ジ−
ターシャリ−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(2°−ヒドロキシ−3”、5゛−ジ−ターシャリ−
アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒ
ドロキシ−5′−ターシャリ−ブチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、等のモノ、ビス、及びトリスフェノール
系の化合物があげられ、3,5−ジ−ターシャリ−ブチ
ル−4−ヒドロキシトルエン、2.2’−メチレンビス
(4−エチル−6−タージャリーブチルフェノール)
、2.4.6−トリス (ジメチルアミノメチル)フェ
ノール、1.3.5−)ジメチル−2,4,6−トリス
(3,5−ジ−ターシャリ−ブチル−4=ヒドロキシ
ベンジル)ベンゼン、トリス (3,5−ジ−ターシャ
リ−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレ−
)、2−(2’−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)
ベンゾトリアゾールが好ましい。 立体障害性フェノー
ルの使用量は通常、メチル又はエチル(メタ)アクリレ
ートに対して100〜110000pp、好ましくは5
00〜5000ppmである。]、OOppm未満では
十分な重合禁止効果を得るのが困難となり、製品(メタ
)アクリル酸エステルの収率が大幅に低下する。100
00PI]mの範囲を超えても重合禁止効果に大きな差
は認められない。
反応温度は通常、80〜150℃、好ましくは還流温度
である。反応の進行と共に生成するメタノールはメチル
又はエチル(メタ)アクリレートととの共沸混合物とし
て反応系外に取り出される。反応の終了は先の共沸混合
物が留出しなくなることによって知ることができるが、
反応系内の仕込みアルコールが完全に消費されることに
よって知ることもできる。その後、更に反応を進行させ
、完結に至らしめる。
である。反応の進行と共に生成するメタノールはメチル
又はエチル(メタ)アクリレートととの共沸混合物とし
て反応系外に取り出される。反応の終了は先の共沸混合
物が留出しなくなることによって知ることができるが、
反応系内の仕込みアルコールが完全に消費されることに
よって知ることもできる。その後、更に反応を進行させ
、完結に至らしめる。
以」二の反応によって得られる反応系内の混合液は所望
の(メタ)アクリル酸エステルと未反応のメチル又はエ
チル(メタ)アクリレート、テトラアルキルチタネート
及び重合禁止剤等からなり、反応終了後、 (減圧)蒸
留操作を行うことによって低沸分としてメチル又はエチ
ル(メタ)アクリレート、高沸留分として所望の(メタ
)アクリル酸エステルを高純度及び高収率で得ることが
できる。
の(メタ)アクリル酸エステルと未反応のメチル又はエ
チル(メタ)アクリレート、テトラアルキルチタネート
及び重合禁止剤等からなり、反応終了後、 (減圧)蒸
留操作を行うことによって低沸分としてメチル又はエチ
ル(メタ)アクリレート、高沸留分として所望の(メタ
)アクリル酸エステルを高純度及び高収率で得ることが
できる。
以下に実施例等をあげて説明する。
実施例1
アリルアルコール116.2g (2,0モル)、メチ
ルメタアクリレート300.3g (3,0モル)とテ
トライソプロピルチタネート2.8g (0,01モル
)及び3.5−ジ−ターシャリ−ブチル−4−ヒドロキ
シトルエン0.3g(1000ppm対メチルメタアク
リレート)とを攪拌機、温度計、分留頭付蒸留塔及び空
気吹き込み管を備え付けたフラスコ内に一括仕込み、空
気気流下に攪拌し、3時間、全還流した後、蒸留塔塔頂
温度64.2〜68°Cの留分を85.2g分取し、こ
の時反応液の温度は89°Cから124°Cまで上昇し
た。
ルメタアクリレート300.3g (3,0モル)とテ
トライソプロピルチタネート2.8g (0,01モル
)及び3.5−ジ−ターシャリ−ブチル−4−ヒドロキ
シトルエン0.3g(1000ppm対メチルメタアク
リレート)とを攪拌機、温度計、分留頭付蒸留塔及び空
気吹き込み管を備え付けたフラスコ内に一括仕込み、空
気気流下に攪拌し、3時間、全還流した後、蒸留塔塔頂
温度64.2〜68°Cの留分を85.2g分取し、こ
の時反応液の温度は89°Cから124°Cまで上昇し
た。
次にloOmmllgの減圧下において減圧蒸留を行な
い、メチルメタクリレートを多く含む低沸分とアリルメ
タアクリレートを多く含む高沸分とに分取し、そしてこ
の高沸分を再び100mmHgの減圧下で蒸留を行うこ
とにより、純度99.9%(イソプロピルメタアクリレ
ート0.1%、ガスクロマトグラフ分析結果)のアリル
メタアクリレート72.6gが得られ、重金属および窒
素化合物は全く含まれていなかった。
い、メチルメタクリレートを多く含む低沸分とアリルメ
タアクリレートを多く含む高沸分とに分取し、そしてこ
の高沸分を再び100mmHgの減圧下で蒸留を行うこ
とにより、純度99.9%(イソプロピルメタアクリレ
ート0.1%、ガスクロマトグラフ分析結果)のアリル
メタアクリレート72.6gが得られ、重金属および窒
素化合物は全く含まれていなかった。
実施、例2
アリルアルコール116.2g (2,0モル)、メチ
ルメタアクリレート400.4g (4,0モル)、テ
トラメチルチタネート3.4g (0,02モル)及び
2,2゛−メチレンビス (6−ターシャリ−ブチル−
ブチル−4−エチルフェノール)0.8g (2000
ppm対メチルメタアクリレート)とを実施例1と同様
に反応させて、純度100%(ガスクロマトグラフ結果
)のアリルメタアクリレート72.3gを得、金属及び
窒素酸化物は検出されなかった。
ルメタアクリレート400.4g (4,0モル)、テ
トラメチルチタネート3.4g (0,02モル)及び
2,2゛−メチレンビス (6−ターシャリ−ブチル−
ブチル−4−エチルフェノール)0.8g (2000
ppm対メチルメタアクリレート)とを実施例1と同様
に反応させて、純度100%(ガスクロマトグラフ結果
)のアリルメタアクリレート72.3gを得、金属及び
窒素酸化物は検出されなかった。
実施例3
n−ブチル了“ルコール148.2g (2,0モル)
、メチルメタアクリレート280.3g (2,8モル
)、テトラブチルチタネート2. Og (0゜006
モル)及びトリス (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)イソシアヌレート0.14g (5
00ppm対メチルメタアクリレート)とを実施例1と
同様に反応させた結果、純度100%(ガスクロマトグ
ラフ分析結果)のn−プチルメタアクリレー) 62.
5gが得られ、金属成分及び窒素成分は全く検出されな
かった。
、メチルメタアクリレート280.3g (2,8モル
)、テトラブチルチタネート2. Og (0゜006
モル)及びトリス (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)イソシアヌレート0.14g (5
00ppm対メチルメタアクリレート)とを実施例1と
同様に反応させた結果、純度100%(ガスクロマトグ
ラフ分析結果)のn−プチルメタアクリレー) 62.
5gが得られ、金属成分及び窒素成分は全く検出されな
かった。
実施例4
1−プロピルアルコール120.2g (2,0モル)
、エチルメタアクリレート456.5g (4,0モル
)、テトライソブロピルチタネー) 5.6g (0,
02モル)及び2,4゜6−トリス (ジメチルアミノ
メチル)フェノール、0、46g (1000ppm対
エチルメタアクリレート)とを実施例1と同様に反応さ
せた。その結果、純度100%(ガスクロマトグラフ分
析)の1−プロピルメタアクリレ−) 75.8gが得
られ、金属成分及び窒素成分は全く検知されなかった。
、エチルメタアクリレート456.5g (4,0モル
)、テトライソブロピルチタネー) 5.6g (0,
02モル)及び2,4゜6−トリス (ジメチルアミノ
メチル)フェノール、0、46g (1000ppm対
エチルメタアクリレート)とを実施例1と同様に反応さ
せた。その結果、純度100%(ガスクロマトグラフ分
析)の1−プロピルメタアクリレ−) 75.8gが得
られ、金属成分及び窒素成分は全く検知されなかった。
実施例5
2−エチルヘキサノール260g (2,0モル)、エ
チルアクリレ−) 300.3g (3,0モル)、テ
トラエチルチタネート2.3g (0,01モル)及び
1.3.5− )ジメチル−2,4,6−)リス (3
,5−ジターシャリ−ブチル−4−ヒドロキシベンジル
)ベンゼン0.90g (3000ppm対エチルアク
リレート)とを実施例1と同様に反応させた。その結果
、純度100%(ガスクロマトグラフ分析)の2−エチ
ルへキシルアクリレート283gが得られ、金属成分及
び窒素成分は全く検知されなかった。
チルアクリレ−) 300.3g (3,0モル)、テ
トラエチルチタネート2.3g (0,01モル)及び
1.3.5− )ジメチル−2,4,6−)リス (3
,5−ジターシャリ−ブチル−4−ヒドロキシベンジル
)ベンゼン0.90g (3000ppm対エチルアク
リレート)とを実施例1と同様に反応させた。その結果
、純度100%(ガスクロマトグラフ分析)の2−エチ
ルへキシルアクリレート283gが得られ、金属成分及
び窒素成分は全く検知されなかった。
実施例6
ジメチルアミノエタノール178g (2,0モル)、
メチルメタアクリレート300.3g (3,0モル)
、テトラメチルチタネー) 6.9g (0,04モル
)及び2(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)
ベンゾトリアゾール1.5g (5000ppm対メチ
ルメタアクリレート)とを実施例1と同様に反応させた
。その結果、純度100%(ガスクロマトグラフ分析)
のジメチルアミノエチルメタアクリレート243gが得
られ、金属成分は全く検知されなかった。
メチルメタアクリレート300.3g (3,0モル)
、テトラメチルチタネー) 6.9g (0,04モル
)及び2(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)
ベンゾトリアゾール1.5g (5000ppm対メチ
ルメタアクリレート)とを実施例1と同様に反応させた
。その結果、純度100%(ガスクロマトグラフ分析)
のジメチルアミノエチルメタアクリレート243gが得
られ、金属成分は全く検知されなかった。
比較例1
アリルアルコール116.2g (2モル)、メチルメ
タアクリレート300.3g (3,0モル)、テトラ
イソプロピルチタネート2.84g (0,1モル)及
びN−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p−
フェニレンジアミン0.3g (1000ppm対メチ
ルメタアクリレート)とを実施例1と同様に反応させた
。その結果、了りルメタアクリレート99.4%、イソ
プロピルメタアクリレート0.6%(ガスクロマトグラ
フ分析結果)の製品78.3gを得、金属成分は全く検
知されなかったが、窒素化合物が10ppm検出された
。
タアクリレート300.3g (3,0モル)、テトラ
イソプロピルチタネート2.84g (0,1モル)及
びN−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p−
フェニレンジアミン0.3g (1000ppm対メチ
ルメタアクリレート)とを実施例1と同様に反応させた
。その結果、了りルメタアクリレート99.4%、イソ
プロピルメタアクリレート0.6%(ガスクロマトグラ
フ分析結果)の製品78.3gを得、金属成分は全く検
知されなかったが、窒素化合物が10ppm検出された
。
比較例2
アリルアルコール116.2g (2,0モル)、メチ
ルメタアクリレート300.3g (3,0モル)、オ
クチル酸スズ4.05g(0,01モル)及びN、 N
’−ジー2−ナフチル−p−フ二二レしジアミン0.3
g (1000ppm対メチルメタアクリレート)とを
実施例1と同様にして反応させた。その結果、純度99
.7%のアリルメタアクリレ−) 73.3gを得たが
、これからスズ化合物が200ppm及び窒素化合物が
5ppm検出された。
ルメタアクリレート300.3g (3,0モル)、オ
クチル酸スズ4.05g(0,01モル)及びN、 N
’−ジー2−ナフチル−p−フ二二レしジアミン0.3
g (1000ppm対メチルメタアクリレート)とを
実施例1と同様にして反応させた。その結果、純度99
.7%のアリルメタアクリレ−) 73.3gを得たが
、これからスズ化合物が200ppm及び窒素化合物が
5ppm検出された。
比較例3
アリルアルコール116.2g(2,0モル)、メチル
メタクリレート300.3g (3,0モル)、テトラ
イソプロピルチタネート2.8g (0,01モル)及
びパラメトキシフェノール0.3g (10001)p
m対メチルメタクリレート)とを実施例1と同様にして
反応させた。 反応開始してから0.5時間後に反応溶
液の粘度が上昇しはじめ、多量のポリマーが生成し、反
応を完結させることが不可能であった。
メタクリレート300.3g (3,0モル)、テトラ
イソプロピルチタネート2.8g (0,01モル)及
びパラメトキシフェノール0.3g (10001)p
m対メチルメタクリレート)とを実施例1と同様にして
反応させた。 反応開始してから0.5時間後に反応溶
液の粘度が上昇しはじめ、多量のポリマーが生成し、反
応を完結させることが不可能であった。
比較例4
アリルアルコール116.2g (2,0モル)、エチ
ルメタクリレート342.3g (3,0モル)、テト
ラエチルチタネート4.6g (0,02モル)、及び
ハイドロキノン0、34g (1000ppm対エチル
メタクリレート)とを実施例1と同様にして反応させた
。 加熱と共に褐色の沈澱物が析出し、0.5時間反応
後から反応溶液の粘度が上昇し、多量のポリマーの生成
が認められ、反応を継続させることが不可能であった。
ルメタクリレート342.3g (3,0モル)、テト
ラエチルチタネート4.6g (0,02モル)、及び
ハイドロキノン0、34g (1000ppm対エチル
メタクリレート)とを実施例1と同様にして反応させた
。 加熱と共に褐色の沈澱物が析出し、0.5時間反応
後から反応溶液の粘度が上昇し、多量のポリマーの生成
が認められ、反応を継続させることが不可能であった。
特許出願人 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 弁理士 小 堀 貞 文
Claims (1)
- メチル又はエチル(メタ)アクリレートと炭素数3〜2
0のアルコールとを反応させて(メタ)アクリル酸エス
テルを製造する方法において、触媒としてテトラアルキ
ルチタネート、重合禁止剤として立体障害性フェノール
を用いることを特徴とする(メタ)アクリル酸エステル
の製造法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8310388A JPH01258642A (ja) | 1988-04-06 | 1988-04-06 | (メタ)アクリル酸エステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8310388A JPH01258642A (ja) | 1988-04-06 | 1988-04-06 | (メタ)アクリル酸エステルの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01258642A true JPH01258642A (ja) | 1989-10-16 |
Family
ID=13792857
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8310388A Pending JPH01258642A (ja) | 1988-04-06 | 1988-04-06 | (メタ)アクリル酸エステルの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01258642A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0703220A1 (en) * | 1994-08-31 | 1996-03-27 | Ciba-Geigy Ag | Process for the preparation of N-oxyl hindered amine esters using tetraalkyl orthotitanate tranesterification catalysts |
US6710204B2 (en) | 2001-03-26 | 2004-03-23 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Decreasing method of N-oxyl compound |
JP2005314248A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | (メタ)アリル(メタ)アクリレートの製造方法 |
DE102007031468A1 (de) | 2007-07-05 | 2009-01-08 | Evonik Röhm Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Allylmethacrylat |
JP2009167107A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-30 | Toagosei Co Ltd | ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレートの製造方法 |
JP2010529948A (ja) * | 2007-02-15 | 2010-09-02 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | N−ヒドロキシアルキル化イミダゾールの(メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
WO2013047786A1 (ja) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | 日本化成株式会社 | 重合性無機粒子分散剤、該重合性無機粒子分散剤を含む無機有機複合粒子、および無機有機樹脂複合材 |
WO2017032699A1 (de) | 2015-08-21 | 2017-03-02 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von niedrigsiedenden (meth)acrylsäureestern |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49135916A (ja) * | 1973-04-06 | 1974-12-27 | ||
JPS6089447A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-20 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | (メタ)アクリル酸エステル単量体の重合防止法 |
-
1988
- 1988-04-06 JP JP8310388A patent/JPH01258642A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49135916A (ja) * | 1973-04-06 | 1974-12-27 | ||
JPS6089447A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-20 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | (メタ)アクリル酸エステル単量体の重合防止法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0703220A1 (en) * | 1994-08-31 | 1996-03-27 | Ciba-Geigy Ag | Process for the preparation of N-oxyl hindered amine esters using tetraalkyl orthotitanate tranesterification catalysts |
US6710204B2 (en) | 2001-03-26 | 2004-03-23 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Decreasing method of N-oxyl compound |
JP2005314248A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | (メタ)アリル(メタ)アクリレートの製造方法 |
JP2010529948A (ja) * | 2007-02-15 | 2010-09-02 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | N−ヒドロキシアルキル化イミダゾールの(メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
DE102007031468A1 (de) | 2007-07-05 | 2009-01-08 | Evonik Röhm Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Allylmethacrylat |
JP2009167107A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-30 | Toagosei Co Ltd | ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレートの製造方法 |
WO2013047786A1 (ja) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | 日本化成株式会社 | 重合性無機粒子分散剤、該重合性無機粒子分散剤を含む無機有機複合粒子、および無機有機樹脂複合材 |
WO2017032699A1 (de) | 2015-08-21 | 2017-03-02 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von niedrigsiedenden (meth)acrylsäureestern |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
AU2006314805B2 (en) | Manufacture of esters | |
US6437173B1 (en) | Process for the continuous manufacturing of dialkylaminoalkyl (METH) acrylates having a critical order of steps | |
US8067633B2 (en) | Method for the synthesis of (meth)acrylic esters catalysed by a polyol titanate | |
CA2761707A1 (en) | The production of n,n-dialkylaminoethyl(meth)acrylates | |
JP2895633B2 (ja) | アルキルイミダゾリドン(メタ)アクリレートの製造方法 | |
JPH01258642A (ja) | (メタ)アクリル酸エステルの製造法 | |
JP3733635B2 (ja) | 有機ケイ素化合物の製造方法 | |
EP0029362B1 (en) | Production of a diallyl ester of an aromatic dicarboxylic acid | |
US7547798B2 (en) | Process for preparing aminobenzoate esters | |
JP7269170B2 (ja) | 重合禁止剤および当該重合禁止剤を用いた(メタ)アクリル酸エステルの製造方法、精留物 | |
JP5369438B2 (ja) | ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレートの連続製造方法 | |
CA1246588A (en) | Process for preparing substituted oxazolines | |
JPH0466555A (ja) | (メタ)アクリル酸エステルの製造法 | |
US9670134B2 (en) | Synthesis of (2-nitro)alkyl (meth)acrylates via transesterification of (meth)acrylate esters | |
JP2797000B2 (ja) | (メタ)アクリレート化合物の製造方法 | |
JP2001316328A (ja) | エステル交換反応によるエステルの製造方法 | |
JP2003171345A (ja) | エステル交換反応法、及びこれに用いる新規触媒 | |
JPH03251569A (ja) | アクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製法 | |
JPH08183755A (ja) | α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法 | |
JPH0747568B2 (ja) | アクリル酸又はメタクリル酸のアルキルアミノアルキルエステルの製造方法 | |
US5412146A (en) | Process for the preparation of 2-cyanoacetoxypropionic esters | |
JP3028141B2 (ja) | (メタ)アクリレ−ト化合物およびその製造方法 | |
JP2003286226A (ja) | エステル交換反応方法、及びエステル交換反応触媒 | |
JPH02229145A (ja) | ジメチルアミノエチルアクリレートの製造方法 | |
JPH02160809A (ja) | ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート用重合防止剤 |