JPH03251569A - アクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製法 - Google Patents
アクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製法Info
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Landscapes
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔目 的]
主業上夏打里分互
本発明は、合成高分子化合物の光安定剤の原料として有
用なアクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製法に関す
る。
用なアクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製法に関す
る。
亙】ゴl支拵
2,2,6.6−チトラメチルピペリジン誘導体は、ポ
リオレフィン等の合成高分子化合物の優れた光安定剤で
ある。これらのうち、アクリル酸ピペリジルエステル誘
導体等の重合性の二重結合を有するピペリジン誘導体は
、単独重合又は他の光安定剤用のモノマーもしくは重合
性モノマーと共重合させることによって高分子量の光安
定剤として使用されるほか、合成高分子樹脂のモノマー
と共重合させ、光安定剤を樹脂中に組み込んだ合成高分
子として使用されるため、非溶出性、非揮発性光安定剤
の原料として、近年注目されている。
リオレフィン等の合成高分子化合物の優れた光安定剤で
ある。これらのうち、アクリル酸ピペリジルエステル誘
導体等の重合性の二重結合を有するピペリジン誘導体は
、単独重合又は他の光安定剤用のモノマーもしくは重合
性モノマーと共重合させることによって高分子量の光安
定剤として使用されるほか、合成高分子樹脂のモノマー
と共重合させ、光安定剤を樹脂中に組み込んだ合成高分
子として使用されるため、非溶出性、非揮発性光安定剤
の原料として、近年注目されている。
これまでのアクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製造
方法としては、例えば、4−ヒドロキシピペリジン誘導
体をアクリル酸クロライドと反応させる方法が知られて
いる(例えば、特公昭47−8539号公報)。
方法としては、例えば、4−ヒドロキシピペリジン誘導
体をアクリル酸クロライドと反応させる方法が知られて
いる(例えば、特公昭47−8539号公報)。
° しよ゛と る
しかしながら、この方法は、無水の状態で反応する必要
があり、原料のアクリル酸クロリドの取扱性、安定性等
にも問題があり、必ずしも工業的に有利な方法と言えず
、取扱い易い原料を使用し、簡易な操作で、高純度かつ
高収率で目的のアクリル酸ピペリジルエステル誘導体を
製造する方法が要望されている。
があり、原料のアクリル酸クロリドの取扱性、安定性等
にも問題があり、必ずしも工業的に有利な方法と言えず
、取扱い易い原料を使用し、簡易な操作で、高純度かつ
高収率で目的のアクリル酸ピペリジルエステル誘導体を
製造する方法が要望されている。
本発明者らは、アクリル酸ピペリジルエステル誘導体の
製法について、永年に亘って鋭意検討し、重合禁止剤の
存在下に、エステル交換反応を行うことにより、簡易な
操作を用いて、高収率で、高純度のアクリル酸ピペリジ
ルエステル誘導体が製造されることを見出して、本発明
を完成した。
製法について、永年に亘って鋭意検討し、重合禁止剤の
存在下に、エステル交換反応を行うことにより、簡易な
操作を用いて、高収率で、高純度のアクリル酸ピペリジ
ルエステル誘導体が製造されることを見出して、本発明
を完成した。
本発明は、
一般式
(式中、R2は、水素原子、CI C4アルキル基又
はC? CIOアラルキル基を示す。)を有するヒド
ロキシ化合物を、 一般式 (式中、R1は、水素原子又はメチル基を示し、R3は
、CI C4アルキル基を示す。)を有するアクリル
酸アルキルエステ72重合禁止剤の存在下、反応させる
ことを特徴とする一般式 (式中、R1及びR2は、前述したものと同意義を示す
。) を有するアクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製法に
関する。
はC? CIOアラルキル基を示す。)を有するヒド
ロキシ化合物を、 一般式 (式中、R1は、水素原子又はメチル基を示し、R3は
、CI C4アルキル基を示す。)を有するアクリル
酸アルキルエステ72重合禁止剤の存在下、反応させる
ことを特徴とする一般式 (式中、R1及びR2は、前述したものと同意義を示す
。) を有するアクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製法に
関する。
R2及びR3のCI C4アルキル基は、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、イソブチル基であり得、好適
には、メチル基である。
チル、プロピル、ブチル、イソブチル基であり得、好適
には、メチル基である。
R2のC,−C,。アラルキル基は、フェニル−CI0
4アルキル基であり得、例えば、ベンジル、フェネチル
、フェニルプロピル、フェニルブチル基ヲあげることが
できるが、好適には、ベンジル基である。又、ベンゼン
環上には、置換置を有してもよく、置換基として、例え
ば、R1て既述したC0C4アルキル基、C,−C4ア
ルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシ基等)、ハロゲン原子(弗素、塩素
、臭素、沃素原子等)をあげることができるが、好適に
は、メチル基、メトキシ基、弗素原子、塩素原子である
。
4アルキル基であり得、例えば、ベンジル、フェネチル
、フェニルプロピル、フェニルブチル基ヲあげることが
できるが、好適には、ベンジル基である。又、ベンゼン
環上には、置換置を有してもよく、置換基として、例え
ば、R1て既述したC0C4アルキル基、C,−C4ア
ルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシ基等)、ハロゲン原子(弗素、塩素
、臭素、沃素原子等)をあげることができるが、好適に
は、メチル基、メトキシ基、弗素原子、塩素原子である
。
又、化合物(n)において、好適には、R2が水素原子
又はメチル基である。
又はメチル基である。
使用される重合禁止剤は、例えば、ハイドロキノン、2
,3.5− )リメチルハイドロキノン、ハ1ドロキノ
ンモノメチルエーテルのようなハイドロキノン類:1,
4−ベンゾキノン、2.5− )ルキノンのようなキノ
ンIQ; o −、m−+ p−ジニトロベンゼンの
ようなニトロベンゼン:@Lo−、m −p−ニトロソ
フェノールのようなニトロソフェノール類;4−メチル
カテコール、4−L−ブチルカテコールのようなカテコ
ール類;ジフェニルアミン、P−フェニレンジアミンの
ようなアリールアミン類;ジフェニルピクリルヒドラジ
ールのような安定N−ラジカル類; 2,2,6.6
−テトラメチルピペリジン−N−オキシル、2,2,6
.6−テトラメチル−4−オキソピペリジン−N−オキ
シル、2.2,6.6−テトラメチル−4−ヒドロキシ
ピペリジン−N−オキシル、2,2,6.6−テトラメ
チル−4−アセトキシピペリジン−N−オキシル、2,
2゜5.5−テトラメチル−4−オキソイミダゾリジン
N−オキシルのような安定N−オキシルラジカル類をあ
げることができるが、好適には、ハイドロキノン類又は
安定N−オキシル類であり、さらに好適には、2.2.
6.6−チトラメチルピペリジン系のN−オキシル類で
あり、特に好適には、2,2゜6.6−テトラメチル−
4−ヒドロキシピペリジン−N−オキシルである。
,3.5− )リメチルハイドロキノン、ハ1ドロキノ
ンモノメチルエーテルのようなハイドロキノン類:1,
4−ベンゾキノン、2.5− )ルキノンのようなキノ
ンIQ; o −、m−+ p−ジニトロベンゼンの
ようなニトロベンゼン:@Lo−、m −p−ニトロソ
フェノールのようなニトロソフェノール類;4−メチル
カテコール、4−L−ブチルカテコールのようなカテコ
ール類;ジフェニルアミン、P−フェニレンジアミンの
ようなアリールアミン類;ジフェニルピクリルヒドラジ
ールのような安定N−ラジカル類; 2,2,6.6
−テトラメチルピペリジン−N−オキシル、2,2,6
.6−テトラメチル−4−オキソピペリジン−N−オキ
シル、2.2,6.6−テトラメチル−4−ヒドロキシ
ピペリジン−N−オキシル、2,2,6.6−テトラメ
チル−4−アセトキシピペリジン−N−オキシル、2,
2゜5.5−テトラメチル−4−オキソイミダゾリジン
N−オキシルのような安定N−オキシルラジカル類をあ
げることができるが、好適には、ハイドロキノン類又は
安定N−オキシル類であり、さらに好適には、2.2.
6.6−チトラメチルピペリジン系のN−オキシル類で
あり、特に好適には、2,2゜6.6−テトラメチル−
4−ヒドロキシピペリジン−N−オキシルである。
使用される重合禁止剤の使用量は、原料化合物(II)
に対して、10乃至500ppmであり、好適には、5
0乃至200ppmである。
に対して、10乃至500ppmであり、好適には、5
0乃至200ppmである。
本発明の反応は、好適には、不活性溶媒中、触媒の存在
下、化合物(IF)と(I[I)を加熱攪拌し、生成す
るC、−C,のアルコールを留去しながら行う。
下、化合物(IF)と(I[I)を加熱攪拌し、生成す
るC、−C,のアルコールを留去しながら行う。
使用される化合物(n)と(■)の量は、通常等モルで
あるが精製工程を省略するためには、化合物(I)を0
.5乃至1モル過剰に使用することが好ましい。
あるが精製工程を省略するためには、化合物(I)を0
.5乃至1モル過剰に使用することが好ましい。
使用される触媒は、いわゆるエステル交換反応に使用さ
れるものなら特に限定されないが、例えば、水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアル
カリ金属水酸化物、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸化物、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブト
キシドのようなアルカリ金属アルコキシド、リチウムア
ミド、ナトリウムアミド、カリウムアミドのようン酸テ
トライソプロピル、チタン酸テトラブチルのようなチタ
ン酸テトラc、−c4アルキルをあげることができるが
、好適には、アルカリ金属アミド又はチタン酸テトラC
+ C4アルキルである。
れるものなら特に限定されないが、例えば、水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアル
カリ金属水酸化物、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸化物、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブト
キシドのようなアルカリ金属アルコキシド、リチウムア
ミド、ナトリウムアミド、カリウムアミドのようン酸テ
トライソプロピル、チタン酸テトラブチルのようなチタ
ン酸テトラc、−c4アルキルをあげることができるが
、好適には、アルカリ金属アミド又はチタン酸テトラC
+ C4アルキルである。
使用される不活性溶剤は、反応に関与しなければ特に限
定されないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン
、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、シクロヘキサン
、エチルシクロヘキサンのような炭化水素類、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類
をあげることができるが、好適には、炭化水素類である
。
定されないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン
、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、シクロヘキサン
、エチルシクロヘキサンのような炭化水素類、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類
をあげることができるが、好適には、炭化水素類である
。
反応温度は、50°C乃至200″C(好適には、80
°C乃至150’C)であり、反応に要する時間は、反
応温度、触媒の種類等によって異なるが、3時間乃至2
4時間である。
°C乃至150’C)であり、反応に要する時間は、反
応温度、触媒の種類等によって異なるが、3時間乃至2
4時間である。
反応終了後、本発明の目的化合物は、常法に従って採取
される。例えば、反応混合物に水を加え、不溶物がある
場合には日別し、必要に応じて、水不溶性有機溶剤で抽
出し、抽出物を乾燥した後、溶剤を留去することによっ
て、目的化合物を得ることができる。
される。例えば、反応混合物に水を加え、不溶物がある
場合には日別し、必要に応じて、水不溶性有機溶剤で抽
出し、抽出物を乾燥した後、溶剤を留去することによっ
て、目的化合物を得ることができる。
〔効 果]
本発明の方法は、副生成物の生成を極めて抑え、高収率
で目的物を得ることができるものである。
で目的物を得ることができるものである。
さらに、化合物(It)に対して、化合物(!I)を過
剰に使用して、反応を完結させる場合には、溶剤を留去
する際に未反応の化合物(I[[)が除去されるため、
蒸留、再結晶等の精製工程を要さず、極めて高純度の目
的物を得ることができる。
剰に使用して、反応を完結させる場合には、溶剤を留去
する際に未反応の化合物(I[[)が除去されるため、
蒸留、再結晶等の精製工程を要さず、極めて高純度の目
的物を得ることができる。
以下に、実施例及び比較例をあげて、さらに本発明を具
体的に説明するが、本発明は、何等これにより限定され
ない。
体的に説明するが、本発明は、何等これにより限定され
ない。
実施例1
226ローペン メチル−−り10イ
ルオキシピペ1ジン
1.2.2.6.6−ベンタメチルー4−ヒドロキシピ
ペリジン102.6 gのトルエン500ffl!溶液
にリチウムアミドQ、7 gを添加し2時間加熱還流し
た。
ペリジン102.6 gのトルエン500ffl!溶液
にリチウムアミドQ、7 gを添加し2時間加熱還流し
た。
ついで、メトキノン15■を添加したのちメチルメタク
リレート180gを滴下した。滴下と同時に生成するメ
タノールを除去しながら、106〜110°Cで5時間
攪拌した。
リレート180gを滴下した。滴下と同時に生成するメ
タノールを除去しながら、106〜110°Cで5時間
攪拌した。
反応終了後、水を加え、不溶物を口割したのち、減圧下
で溶剤を留去し、無色液体として目的物129g (収
率90%)を得た。
で溶剤を留去し、無色液体として目的物129g (収
率90%)を得た。
さらに、得られた目的物を減圧で蒸留した(沸点99−
102℃/2腑Hg)。この際、若干量の蒸留残渣が見
られた。
102℃/2腑Hg)。この際、若干量の蒸留残渣が見
られた。
実施例2
メトキノン15■の代りにエーオ牛シル−2,2゜6.
6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン15mg
を用いる他、全〈実施例1と同様に反応させ、後処理し
て、目的物135g (収率95%)を得た。また減圧
蒸留後、蒸留残渣はほとんど見られなかった。
6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン15mg
を用いる他、全〈実施例1と同様に反応させ、後処理し
て、目的物135g (収率95%)を得た。また減圧
蒸留後、蒸留残渣はほとんど見られなかった。
実施例3
1.2,2,6.6−ベンタメチルー4−ヒドロキシピ
ペリジン256.9 gのトルエン300mj2溶液に
チタン酸テトライソプロピル2.13g、1−オキシル
−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペ
リジン36■及びメチルメタクリレート450.5gを
加え2時間還流した。
ペリジン256.9 gのトルエン300mj2溶液に
チタン酸テトライソプロピル2.13g、1−オキシル
−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペ
リジン36■及びメチルメタクリレート450.5gを
加え2時間還流した。
ついで、生成するメタノールを除去しながら、110〜
115°Cで20時間攪拌した。
115°Cで20時間攪拌した。
反応終了後、水を加え、生じた不溶物を濾別したのち、
トルエン層から減圧下でトルエンを留去し、無色液体と
して目的物343g (収率95Z)を得た。
トルエン層から減圧下でトルエンを留去し、無色液体と
して目的物343g (収率95Z)を得た。
また、減圧蒸留後、蒸留残渣はほとんど見られなかった
。
。
実施例4
2.2,6.6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリ
ジン94.4 gのトルエン500mf溶液にリチウム
アミド0.7 gを添加し、2時間加熱還流した。
ジン94.4 gのトルエン500mf溶液にリチウム
アミド0.7 gを添加し、2時間加熱還流した。
ついで、1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチル
−4−ヒドロキシピペリジン15■を添加し、メチルメ
タクリレート180gを滴下した。滴下と同時に生成す
るメタノールを除去しながら、106〜110°Cで1
1時間攪拌した。
−4−ヒドロキシピペリジン15■を添加し、メチルメ
タクリレート180gを滴下した。滴下と同時に生成す
るメタノールを除去しながら、106〜110°Cで1
1時間攪拌した。
反応終了後、水を加え、不溶物を濾別したのち、減圧下
で、溶剤を留去し、無色固体として目的物130.0g
(収率96%)を得た。
で、溶剤を留去し、無色固体として目的物130.0g
(収率96%)を得た。
本化合物は、再結晶しなくても、シャープな融点60℃
を示した。
を示した。
1と同様に反応させ、後処理して、目的物121g(収
率84%)を得た。また減圧蒸留後、かなりの量の蒸留
残渣が見られた。
率84%)を得た。また減圧蒸留後、かなりの量の蒸留
残渣が見られた。
以上の実施例及び比較例から分かるように、重合禁止剤
を用いる本発明の方法は、重合禁止剤を使用しない方法
に比らべ、極めて高収率で、高純度の目的物を与えるす
ぐれた方法である。
を用いる本発明の方法は、重合禁止剤を使用しない方法
に比らべ、極めて高収率で、高純度の目的物を与えるす
ぐれた方法である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^2は、水素原子、C_1−C_4アルキル
基又はC_7−C_1_0アラルキル基を示す。)を有
するヒドロキシ化合物を、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R^1は、水素原子又はメチル基を示し、R^
3は、C_1−C_4アルキル基を示す。)を有するア
クリル酸アルキルエステル化合物と、重合禁止剤の存在
下、反応させることを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1及びR^2は、前述したものと同意義を
示す。) を有するアクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2044746A JP2549183B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | アクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2044746A JP2549183B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | アクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03251569A true JPH03251569A (ja) | 1991-11-11 |
JP2549183B2 JP2549183B2 (ja) | 1996-10-30 |
Family
ID=12700013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2044746A Expired - Lifetime JP2549183B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | アクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2549183B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000327658A (ja) * | 1999-05-21 | 2000-11-28 | Asahi Denka Kogyo Kk | 安定化された2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン−n−オキシル組成物 |
EP1927477A1 (en) | 2006-11-30 | 2008-06-04 | FUJIFILM Corporation | Ink composition for inkjet-recording and method for inkjet-recording |
EP2085439A1 (en) | 2008-01-22 | 2009-08-05 | FUJIFILM Corporation | Photocurable composition, photocurable ink composition, process for producing photocured material, and inkjet recording method |
CN104844501A (zh) * | 2015-04-02 | 2015-08-19 | 广州合成材料研究院有限公司 | 一种四甲基哌啶醇酯的合成方法 |
CN105283444A (zh) * | 2013-05-30 | 2016-01-27 | 大鹏药品工业株式会社 | 新颖的氟代二苯乙醇酸酯化合物及其盐 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2016110134A (ru) * | 2013-08-22 | 2017-09-27 | Басф Се | Стабилизированные композиции, содержащие акриламидные полимеры, и способ третичной нефтедобычи с использованием этих композиций |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5115001A (en) * | 1974-07-30 | 1976-02-06 | Jujo Paper Co Ltd | Arukariparupuno seizoho |
JPS5421489A (en) * | 1977-07-19 | 1979-02-17 | Ciba Geigy Ag | Homooand coopolymer* preparation thereof and organic material containing it |
JPS5638301A (en) * | 1979-09-07 | 1981-04-13 | Osaka Yuki Kagaku Kogyo Kk | Method for prevention of alpha,beta-unsaturated carboxylic ester against popcorn polymerization |
-
1990
- 1990-02-26 JP JP2044746A patent/JP2549183B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5115001A (en) * | 1974-07-30 | 1976-02-06 | Jujo Paper Co Ltd | Arukariparupuno seizoho |
JPS5421489A (en) * | 1977-07-19 | 1979-02-17 | Ciba Geigy Ag | Homooand coopolymer* preparation thereof and organic material containing it |
JPS5638301A (en) * | 1979-09-07 | 1981-04-13 | Osaka Yuki Kagaku Kogyo Kk | Method for prevention of alpha,beta-unsaturated carboxylic ester against popcorn polymerization |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000327658A (ja) * | 1999-05-21 | 2000-11-28 | Asahi Denka Kogyo Kk | 安定化された2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン−n−オキシル組成物 |
JP4518590B2 (ja) * | 1999-05-21 | 2010-08-04 | 株式会社Adeka | 安定化された2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン−n−オキシル組成物 |
EP1927477A1 (en) | 2006-11-30 | 2008-06-04 | FUJIFILM Corporation | Ink composition for inkjet-recording and method for inkjet-recording |
EP2085439A1 (en) | 2008-01-22 | 2009-08-05 | FUJIFILM Corporation | Photocurable composition, photocurable ink composition, process for producing photocured material, and inkjet recording method |
CN105283444A (zh) * | 2013-05-30 | 2016-01-27 | 大鹏药品工业株式会社 | 新颖的氟代二苯乙醇酸酯化合物及其盐 |
CN104844501A (zh) * | 2015-04-02 | 2015-08-19 | 广州合成材料研究院有限公司 | 一种四甲基哌啶醇酯的合成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2549183B2 (ja) | 1996-10-30 |
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