JPH0125775B2 - - Google Patents

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JPH0125775B2
JPH0125775B2 JP55164062A JP16406280A JPH0125775B2 JP H0125775 B2 JPH0125775 B2 JP H0125775B2 JP 55164062 A JP55164062 A JP 55164062A JP 16406280 A JP16406280 A JP 16406280A JP H0125775 B2 JPH0125775 B2 JP H0125775B2
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JP
Japan
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phenyl
carbon atoms
lower alkyl
formula
composition
Prior art date
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JP55164062A
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JPS5686942A (en
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Uiriamu Mendaa Otsutoo
Morita Eiichi
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Monsanto Co
Original Assignee
Monsanto Co
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Publication date
Application filed by Monsanto Co filed Critical Monsanto Co
Publication of JPS5686942A publication Critical patent/JPS5686942A/ja
Publication of JPH0125775B2 publication Critical patent/JPH0125775B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C321/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/36Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/37Thiols
    • C08K5/372Sulfides, e.g. R-(S)x-R'

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、活性メチレンチオエーテルによつて
早期加硫を阻止した改善された加硫可能なゴム組
成物および新規な活性メチレンチオエーテルに関
する。 スルフエンアミド阻止剤は、スルフエンアミド
促進剤を含有する加硫可能なゴム組成物に対して
特に有効であるが、促進剤が2―メルカプトベン
ゾチアゾールまたはビス―2―ベンゾチアゾリル
ジスルフイドである場合は効力は低い。酸遅延剤
は、硬化速度及び硬化の程度の両方に不利に影響
を与えることによつてベンゾチアゾール促進剤含
有ストツクのスコーチを減少させる。ゴム加硫に
おける遅延剤の機構の研究の結果として、トリア
ルキルスルホニルメタンのヒドロカルビルチオ誘
導体を含む種類の遅延剤が提供された〔「J.Appl.
Poly.Sci」第16巻第2647〜2655頁(1972年)〕。し
かしながら、これらの遅延剤は、受け入れられて
いない。それ故に、ベンゾチアゾール促進剤含有
ストツクに対するより有効な阻止剤が要求されて
いる。 加硫可能なゴム組成物は、隣接活性基がカルボ
ニルまたはシアノである活性化メチレン化合物か
ら誘導されたジ(チオエーテル)によつて早期加
硫から保護されることが発見された。このよう
に、本発明の阻止剤はα,α―gem―ジスルフエ
ン化ケトンまたはα,α―gem―ジスルフエン化
ニトリルである。メチレン基に隣接した2個の活
性基は、2個のカルボニル基、2個のシアノ基、
または1個のカルボニル基および1個のシアノ基
である。 本発明の加硫可能な組成物は、硫黄加硫可能な
ゴム、硫黄加硫剤、有機加硫促進剤および早期加
硫を阻止するのに有効な量の式 〔式中、Rは1〜20個の炭素原子のアルキル、5
〜12個の炭素原子のシクロアルキル、ベンジル、
α―メチルベンジル、フエニルまたは置換フエニ
ル(置換分は低級アルキル、低級アルコキシまた
はハロゲンである)であり、R1はRまたはアニ
リノまたは置換アニリノ(置換分は低級アルキ
ル、低級アルコキシまたはハロゲンである)であ
り、そしてR2はフエニルまたは前述したような
置換フエニルである〕、 (式中、Rは前述したとおりであり、そしてXは
o―フエニレンまたは2〜4個の鎖炭素原子の直
鎖状または有枝鎖状のアルキレンである)、 〔式中、Rは前述したとおりであり、R3は低級
アルキルまたは低級アルコキシであり、そして
R4は1〜5個の炭素原子のカルボアルコキシま
たは でありあるいはまた加硫促進剤が2―メルカプト
ベンゾチアゾールである場合にはR4は低級アル
キルでもあり得る〕、および 〔式中、Rは前述したとおりであり、そしてR5
はシアノ、1〜5個の炭素原子のカルボアルコキ
シ、式 (式中、R6は水素またはRであり、そしてR7
Rまたは1〜5個の炭素原子のカルボアルコキシ
であるかあるいはまたR6およびR7は一緒になつ
て4〜8個の炭素原子のアルキレンまたはオキシ
ジアルキレンであつて窒素原子と共に複素環を形
成する)の置換カルバモイルであり、あるいはま
た加硫促進剤が2―メルカプトベンゾチアゾール
である場合にはR5はカルバモイルでもあり得る〕
で表わされるgem―ジ(チオエーテル)の群から
選ばれた一種の阻止剤からなる。 上記によつて示されたように、R4が低級アル
キルである式()の阻止剤およびR5が未置換
カルバモイルである式()の阻止剤は、促進剤
が2―メルカプトベンゾチアゾールである場合に
は強力な阻止剤であるが、他の促進剤例えばスル
フエンアミド促進剤を含有する組成物の早期加硫
を阻止するのには効力が低くそして大なる添加量
を必要とする。これは、硫黄加硫に対するすべて
の普通の有機促進剤を使用する場合の通常の使用
量において阻止剤活性を示す式()および
()の阻止剤および式()および()の残
りの阻止剤とは対照的である。 アルキルまたはアルコキシに対して言及される
「低級」なる語は1〜5個の炭素原子を含有する
基を意味する。式()の好適な阻止剤は、アセ
トアセトアニリドまたはα―ベンゾイルアセトア
ニリドから誘導される。式()の好適な阻止剤
は1,3―シクロヘキサンジオンまたは5,5―
ジアルキル―1,3―シクロヘキサンジオンから
誘導される。より好適な阻止剤はRがフエニルで
ある化合物である。式()の好適な阻止剤は
R5がシアノ、カルボエトキシ、カルボメトキシ、
カルボエトキシカルバモイルまたはカルボメトキ
シカルバモイルである化合物である。 Rに対する満足な基の例はメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、n―ブチル、第2級ブチ
ル、イソブチル、ペンチル、第2級ペンチル(1
―メチルブチル)、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル、ノニル、デシル、ドデシル、エイコシル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、2―メチルシク
ロヘキシル、4―メチルシクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、シクロオクチル、シクロデシル、シク
ロドデシル、2―メチルフエニル、3―メチルフ
エニル、4―メチルフエニル、2―メチル―4―
第3級ブチルフエニル、4―第3級ブチルフエニ
ル、2,4,6―トリメチルフエニル、3―イソ
プロピルフエニル、4―メトキシフエニル、4―
エトキシフエニル、4―クロロフエニルおよび
2,4―ジクロロフエニルである。炭化水素基が
好適である。好適なアルキル基は1〜5個の炭素
原子の第1級または第2級低級アルキル基であ
る。
【式】に対する満足な基の例は、メチルアミ ノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピ
ルアミノ、ブチルアミノ、第3級ブチルアミノ、
シクロヘキシルアミノ、ベンジルアミノ、アニリ
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピ
ルアミノ、ジシクロヘキシルアミノ、ジフエニル
アミノ、ピロリジニル、ピペリジノ、モルホリ
ノ、2,6―ジメチルモルホリノおよびヘキサヒ
ドロ―1H―アゼピン―1―イルである。 本発明の阻止剤は、ミル上でかまたはバンバリ
ーミキサーのような密閉式ミキサー中で混合する
ことによつてゴムストツクに混合される。しかし
ながら、阻止剤はもし必要ならばラテツクスに添
加することによつて混合できる。本発明の方法
は、特にアミンジスルフイドまたは重合体状ポリ
スルフイドのような硫黄加硫剤を含有する硫黄加
硫可能なゴム組成物に適用できる。好適には、加
硫剤は元素状硫黄(普通にはゴム100重量部当り
硫黄約0.5〜5重量部が使用される)である。有
機促進剤を含有するゴム組成物は、特に、本発明
の阻止剤によつて改善される。2―メルカプトベ
ンゾチアゾール促進剤を含有する組成物が好適で
ある。ゴムの硫黄加硫を促進するのに有効な量
(一般にゴム100重量部当り促進剤約0.1〜5重量
部)のすべての有機促進剤が本発明の実施に対し
て満足である。本発明の阻止剤は、硫黄加硫可能
な天然および合成ゴムおよびそれらの混合物のい
ずれを使用する場合においても有効である。適当
な促進剤およびゴムはそれぞれ米国特許第
3546185号および米国特許第3780001号各明細書に
説明されている。これらの特許の説明を参照とし
て本明細書に引用する。加硫可能な組成物はまた
補強顔料、増量剤、加工油、劣化防止剤などのよ
うな普通の配合成分を含有し得る。 少量の阻止剤が早期加硫を阻止するのに有効で
ある。加工安全性における改善はゴム100部当り
阻止剤0.05部またはそれ以下の量で観察できる。
使用される阻止剤の量における上限はないけれど
も、一般にその量はゴム100部当り阻止剤5部を
越えない。典型的には、添加される阻止剤の量は
ゴム100部当り約0.1〜2.5部であるが、普通には
ゴム100部当り阻止剤約0.2〜1部の量が使用され
る。本発明の説明において使用されるゴムストツ
クのスコーチ時間および硬化特性を測定する方法
は、米国特許第3546185号明細書に説明されてい
る。応力―歪み関係はメガパスカル(MPa)で
示される。 本発明の若干の阻止剤は既知である。例えば
3,3―ジフエニルチオ―2,4―ペンタンジオ
ンおよび2,2―ジフエニルチオマロノニトリル
は「欧文日本化学会誌」第45巻第866〜870頁
(1972年)に説明されている。ここに説明されて
いる合成方法は本発明の阻止剤を製造するのに適
当している。別法として、本発明の阻止剤は塩化
スルフエニルを適当な活性メチレン化合物と反応
せしめることによつて製造することができる。好
適には反応はトリエチルアミン、ピリジンおよび
ピペリジンのような酸受容体の存在下において実
施される。中間体として有用な適当な活性メチレ
ン化合物の例はアセトアセトアニリド(N―フエ
ニル―3―オキソブタンアミド)、ベンゾイルア
セトアニリド、ビス(フエニルカルバモイル)メ
タン、1,3―シクロヘキサンジオン、インダン
ジオン、メチルアセトアセテート、ジエチルオキ
ザルアセテートまたはそのナトリウム塩、2―シ
アノアセトアミド、エチルシアノアセテート、N
―シアノアセチルウレタン(エチル―N―シアノ
アセチル―カルバメート)、N―メチル―2―シ
アノアセトアミドおよび、2―シアノアセトアニ
リドである。その他の適当な中間体は1―シアノ
アセチルピロリジン、N―フエニル―3―オキソ
―ペンタンアミド、2,4―ペンタンジオン、
2,4―ヘキサンジオン、3,5―ヘプタンジオ
ン、1,3―シクロペンタンジオン、1,3―シ
クロヘプタンジオン、4―メチルインダンジオ
ン、5―メチルインダンジオン、エチルアセトア
セテート、プロピルアセトアセテート、ジメチル
オキザルアセテート(ジメチル―2―オキソ―ブ
タンジオエート)、ジプロピルオキザルアセテー
ト、メチルシアノアセテート、プロピルシアノア
セテート、N―シクロヘキシルシアノアセトアミ
ド、4―(シアノアセチル)モルホリン、N,N
―ジメチルシアノアセトアミド、N,N―ジフエ
ニルシアノアセトアミド、N―メチル―N―フエ
ニルシアノアセトアミド、1―シアノアセチルピ
ペリジン、メチルN―シアノアセチルカルバメー
ト、プロピルN―シアノアセチルカルバメート、
ビス(N―メチルカルバモイル)メタンおよびジ
メチル1,3―アセトンジカルボキシレートであ
る。 本発明の阻止剤の例はα―アセチル―α,α―
ジ(ベンジルチオ)アセトアニリド、α―アセチ
ル―α,α―ジ(ブチルチオ)アセトアニリド、
α―アセチル―α,α―ジ(シクロヘキシルチ
オ)アセトアニリド、ビス(フエニルカルバモイ
ル)ビス(イソプロピルチオ)メタン、ビス(フ
エニルカルバモイル)ビス(シクロヘキシルチ
オ)メタン、2,2―ジ(フエニルチオ)―1,
3―シクロペンタンジオン、2,2―ジ(フエニ
ルチオ)―1,3―シクロヘプタンジオン、2,
2―ジ(イソプロピルチオ)―1,3―シクロペ
ンタンジオン、2,2―ジ(イソプロピルチオ)
―1,3―シクロヘプタンジオン、2,2―ジ
(シクロヘキシルチオ)―インダンジオン、2,
2―ジ(イソプロピルチオ)―インダンジオン、
2,2―ジ(フエニルチオ)―N―フエニル―3
―オキソ―ペンタンアミド、2,2―ジ(イソプ
ロピルチオ)―N―フエニル―3―オキソ―ペン
タンアミド、2,2―ジ(シクロヘキシルチオ)
―N―フエニル―3―オキソ―ペンタンアミド、
2,2―ジ(ベンジルチオ)―1,3―シクロヘ
キサンジオン、ビス(フエニルカルバモイル)ビ
ス(ベンジルチオ)メタン、3,3―ジ(イソプ
ロピルチオ)―2,4―ペンタンジオン、3,3
―ジ(フエニルチオ)―2,4―ヘキサンジオ
ン、4,4―ジ(フエニルチオ)―3,5―ヘプ
タンジオン、2,2―ジ(ベンジルチオ)インダ
ンジオン、2,2―ジ(フエニルチオ)―4―メ
チルインダンジオン、2,2―ジ(フエニルチ
オ)―5―メチルインダンジオン、エチルα―ア
セチル―α,α―ジ(イソプロピルチオ)アセテ
ート、プロピルα―アセチル―α,α―ジ(イソ
プロピルチオ)アセテート、ジメチル2,2―ジ
(フエニルチオ)オキザルアセテート、ジプロピ
ル2,2―ジ(フエニルチオ)オキザルアセテー
ト、ビス(フエニルチオ)ビス(N―メチルカル
バモイル)メタン、ビス(ベンジルチオ)ビス
(N―メチルカルバモイル)メタン、ビス(イソ
プロピルチオ)ビス(N―メチルカルバモイル)
メタン、ビス(シクロヘキシルチオ)ビス(N―
メチルカルバモイル)メタン、メチルジ(ベンジ
ルチオ)シアノアセテート、メチルジ(イソプロ
ピルチオ)シアノアセテート、メチルジ(シアノ
ヘキシルチオ)シアノアセトアミド、4(1,1
―ジ〔フエニルチオ〕―1―ジアノアセチル)モ
ルホリン、N,N―ジメチル―2,2―ジ(フエ
ニルチオ)シアノアセトアミド、N,N―ジフエ
ニル―2,2―ジ(イソプロピルチオ)シアノア
セトアミド、N―メチル―N―フエニル―2,2
―ジ(フエニルチオ)シアノアセトアミド、メチ
ルジ(フエニルチオ)シアノアセチルカルバメー
ト、メチルジ(イソプロピルチオ)―N―シアノ
アセチルカルバメートおよびジメチル1,1,
3,3―テトラ(イソプロピルチオ)―1,3―
アセトンジカルボキシレートである。 本発明の阻止剤の例は次の典型的な操作方法に
よつて製造される。はじめに、例えば塩化メチレ
ンのような適当な溶剤中における約0℃における
メルカプタンの塩素化によつて慣用の操作方法に
より塩化スルフエニル溶液を製造する。次に塩化
スルフエニル2分子当量を含有する溶液を撹拌し
ながら0〜25℃で活性メチレン化合物1分子当
量、酸受容体例えばトリエチルアミン2.2分子当
量および適当な溶剤例えば塩化メチレンを含有す
る溶液に加える。次いで反応混合物を30〜60分撹
拌する。生成物の採取および精製は慣用の方法に
よる。次に、反応混合物を水で洗浄してアミン塩
副生成物を除去する。不溶性生成物の場合におい
ては、次に固体生成物を過によつて採取する。
可溶性生成物の場合においては、有機層を硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、過しそして液を蒸発し
て生成物を採取する。次に、生成物を適当な溶剤
例えば、エタノールから再結晶する。生成物の確
認は、元素分析、赤外線分析および核磁気スペク
トル分析からなる1種またはそれ以上の分析によ
つて確認される。 この方法で製造した化合物を第1〜4表に例1
〜32として示す。
【表】
【表】 ジオン

【表】 インダンジオン

【表】
【表】 アノアセトアニドリ
モイル
本発明は、本発明の阻止剤を次の天然ゴムマス
ターバツチに混合することによつて例示される。 マスターバツチ スモークドシート 100 カーボンブラツク 40 増量油 10 ワツクス 2 酸化亜鉛 5 ステアリン酸 1 158 加硫可能な組成物は、促進剤および硫黄の混入
によつて製造される。本発明の組成物は、指示さ
れた量の阻止剤を加硫可能な組成物に混合するこ
とによつて製造される。阻止剤を含有していない
組成物は対照である。結果は第5〜12表に示され
るとおりである。 第5表においては、加硫可能なゴム組成物は、
天然ゴムマスターバツチ158部、N―(1,3―
ジメチルブチル)―N′―(フエニル)―p―フ
エニレンジアミン(サントフレツクス13劣化防止
剤)2部、N(第3級ブチル)―ベンゾチアゾー
ルスルフエンアミド(サントキユアNS促進剤)
0.5部および硫黄2.5部からなる。部はすべて重量
部である。ストツク1は阻止剤を含有していない
対照である。ストツク2〜10は阻止剤1部を含有
している。 データはスコーチ遅延の増大によつて示される
ように、アセトアセトアニリドおよびベンゾイル
アセトアニリドのα,α―gem―ジスルフエン化
誘導体は加硫可能な組成物に加工安全性を与える
ということを示す。更に、データはフエニルおよ
びイソプロピル化合物は大なる活性を示しそして
ベンゾイルアセトアニリド化合物は特に強力であ
るということを示す。
【表】
【表】 加硫促進剤として2―メルカプトベンゾチアゾ
ールを含有する加硫可能な組成物は第6および7
表に例示される。データは、阻止剤が実質的に組
成物のスコーチ安全性を強化しそして更に硬化速
度および引張強度を増大することを示す。第6表
のストツク5〜9のデータは、スコーチ遅延の量
が本質的に使用される阻止剤の量に直接比例する
ことを示す。 異なる促進剤を含有する加硫可能なゴム組成物
は第8表に示される。データは、本発明の阻止剤
は促進剤が2―メルカプトベンゾチアゾールのア
ミン塩である組成物において特に強力であるとい
うことを示す。 環状ジオンから誘導された本発明の阻止剤は、
第9表に例示される。データは、フエニル誘導体
が一層活性であることを示す。 オキザルアセテートエステル、アセトアセテー
トエステル、2,4―ペンタンジオンおよびイン
ダンジオンから誘導された本発明の阻止剤は第10
表に例示される。データは、阻止剤が促進剤が2
―メルカプトベンゾチアゾールである組成物にお
いて、実質的な前加硫阻止剤活性を示すというこ
とを示す。具体的に示していないが、他の実験に
おいてはジエチルオキザルアセテート、2,4―
ペンタンジオンおよびメチルアセトアセテートの
α,α―ジ(フエニルチオ)誘導体は、匹敵する
使用量においてはスルフエンアミド促進剤を含有
する加硫可能なゴム組成物においてはほとんど活
性を示さない。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】 シアノ含有活性メチレン化合物から誘導された
本発明の阻止剤は第11および12表において例示さ
れる。第11表のデータは、2,2―ジ(フエニル
チオ)マロノニトリルおよびN―(シアノ―ジ
〔フエニルチオ〕)ウレタンが特に強力であるとい
うことを示す。第12表のデータは、2―シアノア
セトアミドおよび2―シアノアセトアニリドの誘
導体が良好な活性を示しそしてイソプロピル誘導
体が良好であるということを示す。 ジエチル1,3―アセトンジカルボキシレート
から誘導された阻止剤は第13表に例示される。ス
トツク1〜3は促進剤として2―メルカプトベン
ゾチアゾールを含有する。ストツク4〜6は、ス
ルフエンアミド促進剤を含有する。ストツク1お
よび4に、阻止剤を含有しない対照である。デー
タは、フエニルチオ誘導体が相当するシクロヘキ
シルチオ誘導体よりより強力であるということを
示す。 同様な結果は、本発明の阻止剤を使用してスチ
レン―ブタジエンゴムのような合成ゴムからなる
加硫可能な組成物において得られる。 本発明を典型的な例によつて説明したけれど
も、本発明はこれらに限定されるものではない。
説明のために選択した本発明の例の変性をなし得
るものであつて、これは本発明の精神からの離脱
を構成するものではない。
【表】
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 硫黄加硫可能なゴム、硫黄加硫剤、有機加硫
    促進剤及び早期加硫を阻止するのに有効な量の次
    〔式中、Rは1〜20個の炭素原子のアルキル、5
    〜12個の炭素原子のシクロアルキル、ベンジル、
    α―メチルベンジル、フエニルまたは置換フエニ
    ル(置換分は低級アルキル、低級アルコキシ又は
    ハロゲンである)であり、R1はR又はアニリノ
    又は置換アニリノ(置換分は低級アルキル、低級
    アルコキシ又はハロゲンである)であり、そして
    R2はフエニル又は前述したような置換フエニル
    である〕 (式中、Rは前述したとおりでありそしてXはo
    ―フエニレン又は2〜4個の鎖炭素原子の直鎖状
    又は有枝鎖状のアルキレンである)、 〔式中、Rは前述したとおりであり、R3は低級
    アルキル又は低級アルコキシであり、そしてR4
    は1〜5個の炭素原子のカルボアルコキシ又は であるが加硫促進剤が2―メルカプトチアゾール
    である場合にはR4は低級アルキルでもあり得る〕
    及び 〔式中、Rは前述したとおりでありそしてR5
    シアノ、1〜5個の炭素原子のカルボアルコキ
    シ、式 (R6は水素又はRでありそしてR7はRまたは1
    〜5個の炭素原子のカルボアルコキシであるか或
    は又はR6及びR7は一緒になつて4〜8個の炭素
    原子のアルキレン又はオキシジアルキレンであつ
    て窒素原子と共に複数環を形成する)の置換カル
    バモイルであるが但し加硫促進剤が2―メルカプ
    トベンゾチアゾールである場合にはR5はカルバ
    モイルでもあり得る〕で表わされるgem―ジ(チ
    オエーテル)の群から選ばれた一種の阻止剤から
    なる加硫可能な組成物。 2 ゴムがジエンゴムでありそして加硫剤が元素
    状硫黄である特許請求の範囲第1項記載の組成
    物。 3 ゴム100重量部当り硫黄0.5〜5重量部、加硫
    促進剤0.1〜5重量部及び早期加硫阻止剤0.1〜2.5
    重量部を含有する特許請求の範囲第2項記載の組
    成物。 4 Rが低級アルキル、5〜8個の炭素原子のシ
    クロアルキル、ベンジル又はフエニルであり、
    R1が低級アルキル、フエニルまたはアニリノで
    ありそしてR2がフエニルである式()の早期
    加硫阻止剤を含有する特許請求の範囲第3項記載
    の組成物。 5 R1がメチルである特許請求の範囲第4項記
    載の組成物。 6 Rがイソプロピルである特許請求の範囲第5
    項記載の組成物。 7 Rがフエニルである特許請求の範囲第5項記
    載の組成物。 8 Rがシクロヘキシルである特許請求の範囲第
    5項記載の組成物。 9 R1がアニリノである特許請求の範囲第4項
    記載の組成物。 10 R1がフエニルである特許請求の範囲第4
    項記載の組成物。 11 Rが低級アルキル、5〜8個の炭素原子の
    シクロアルキル、ベンジル又はフエニルでありそ
    してXがo―フエニレンである式()の早期加
    硫阻止剤を含有する特許請求の範囲第3項記載の
    組成物。 12 Rが低級アルキル、5〜8個の炭素原子の
    シクロアルキル、ベンジル又はフエニルでありそ
    してXが1,3―プロピレンである式()の早
    期加硫阻止剤を含有する特許請求の範囲第3項記
    載の組成物。 13 Rがシクロヘキシルである特許請求の範囲
    第12項記載の組成物。 14 Rが低級アルキル、5〜8個の炭素原子の
    シクロアルキル、ベンジルまたはフエニルである
    式()の早期加硫阻止剤を含有する特許請求の
    範囲第3項記載の組成物。 15 式()の早期加硫阻止剤を含有する特許
    請求の範囲第3項記載の組成物。 16 硫黄加硫可能なジエンゴム及び該ゴム100
    重量部当り硫黄0.5〜5重量部、2―メルカプト
    ベンゾチアゾール0.1〜5重量部及び式 〔式中、Rは1〜20個の炭素原子のアルキル、5
    〜12個の炭素原子のシクロアルキル、ベンジル、
    α―メチルベンジル、フエニルまたは置換フエニ
    ル(置換分は低級アルキル、低級アルコキシ又は
    ハロゲンである)であり、R1はR又はアニリノ
    又は置換アニリノ(置換分は低級アルキル、低級
    アルコキシ又はハロゲンである)であり、そして
    R2はフエニル又は前述したような置換フエニル
    である〕、 (式中、Rは前述したとおりでありそしてXはo
    ―フエニレン又は2〜4個の鎖炭素原子の直鎖状
    又は有枝鎖状のアルキレンである)、 〔式中、Rは前述したとおりであり、R3は低級
    アルキル又は低級アルコキシであり、そしてR4
    は1〜5個の炭素原子のカルボアルコキシ又は である)、及び 〔式中、Rは前述したとおりでありそしてR5
    シアノ、1〜5個の炭素原子のカルボアルコキ
    シ、カルバモイル又は式 (式中、R6は水素又はRでありそしてR7はR又
    は1〜5個の炭素原子のカルボアルコキシである
    か或は又はR6及びR7は一緒になつて4〜8個の
    炭素原子のアルキレン又はオキシジアルキレンで
    あつて窒素原子と共に複数環を形成する)の置換
    カルバモイルである〕で表わされるgem―ジ(チ
    オエーテル)の群から選ばれた一種の早期加硫阻
    止剤0.1〜2.5重量部からなる加硫可能な組成物。 17 Rが低級アルキル、シクロヘキシル、ベン
    ジル又はフエニルであり、R1が低級アルキル、
    フエニル又はアニリノであり、そしてR2がフエ
    ニルである式()の早期加硫阻止剤を含有する
    特許請求の範囲第16項記載の組成物。 18 Rが低級アルキル、シクロヘキシル、ベン
    ジル又はフエニルでありそしてXがo―フエニレ
    ン又は1,3―プロピレンである式()の早期
    加硫阻止剤を含有する特許請求の範囲第16項記
    載の組成物。 19 Rが低級アルキル、シクロヘキシル、ベン
    ジル又はフエニルである式()の早期加硫阻止
    剤を含有する特許請求の範囲第16項記載の組成
    物。
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