JPH01156954A - ジチオエーテル化合物 - Google Patents
ジチオエーテル化合物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C321/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/37—Thiols
- C08K5/372—Sulfides, e.g. R-(S)x-R'
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Medicinal Chemistry (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な活性メチレンチオエーテルに関する。こ
の化合物は早期加硫を阻止した改善された加硫可能なゴ
ム組成物の成分として有用である。
の化合物は早期加硫を阻止した改善された加硫可能なゴ
ム組成物の成分として有用である。
スルフェンアミド阻止剤fl 、スルフェンアミド促進
剤を含有する加硫可能なゴム組成物に対して特に有効で
あるが、促進剤が2−メルカプトベンゾチアゾールまた
はビス−2−ベンゾチアグリルジスルフィドである場合
に効力(1低い。
剤を含有する加硫可能なゴム組成物に対して特に有効で
あるが、促進剤が2−メルカプトベンゾチアゾールまた
はビス−2−ベンゾチアグリルジスルフィドである場合
に効力(1低い。
酸遅延剤に、硬化速度及び硬化の程度の両方に不利に影
響を与えることによってベンゾチアゾール促進剤含有ス
トックのスコーチを減少させる。ゴム加硫における遅延
剤の機構の研究の結果として、トリアルキルスルホニル
メタンのヒドロカルビルチオ誘導体を含む種類の遅延剤
が提供さh fCC「J、 Appl、 Po1y、
Sci、 J第16巻第2647〜2655頁(197
2年〕〕。しかしながら、これらの遅延剤は、受は入れ
られていない。それ故に、ベンゾチアゾール促進剤含有
ストックに対するより有効な阻止剤が要求されている。
響を与えることによってベンゾチアゾール促進剤含有ス
トックのスコーチを減少させる。ゴム加硫における遅延
剤の機構の研究の結果として、トリアルキルスルホニル
メタンのヒドロカルビルチオ誘導体を含む種類の遅延剤
が提供さh fCC「J、 Appl、 Po1y、
Sci、 J第16巻第2647〜2655頁(197
2年〕〕。しかしながら、これらの遅延剤は、受は入れ
られていない。それ故に、ベンゾチアゾール促進剤含有
ストックに対するより有効な阻止剤が要求されている。
加硫可能なゴム組成物に、隣接活性基がカルボニルまた
はシアノである活性化メチレン化合物かう誘導されたジ
(チオエーテル)Kよって早期加硫から保護さハること
が発見さtまた。このように、本発明の阻止剤ば/Z、
Q −g6rr(−ジスルア jl−ン化ケトンまたに
α、a −gem−ジスルフエン化ニトリルである。メ
チレン基に隣接した2個の活性基は、2個のカルボニル
基、2個のシアン基、またに1個のカルボニル基および
1個のシアノ基である。
はシアノである活性化メチレン化合物かう誘導されたジ
(チオエーテル)Kよって早期加硫から保護さハること
が発見さtまた。このように、本発明の阻止剤ば/Z、
Q −g6rr(−ジスルア jl−ン化ケトンまたに
α、a −gem−ジスルフエン化ニトリルである。メ
チレン基に隣接した2個の活性基は、2個のカルボニル
基、2個のシアン基、またに1個のカルボニル基および
1個のシアノ基である。
本発明の化合物を用いた加硫可能な組成物は、硫黄加硫
可能なゴム、硫黄加硫剤、有機加硫促進剤および早期加
硫を阻止するのに有効な量の式 〔式中、Rは1〜20個の炭素原子のアルキル、5〜1
2個の炭素原子のシクロアルキル、(メチル、α−メチ
ル(メチル、フェニルまたハ置換フェニル(置換分に低
級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲンである)で
あり、R1はRまfcはアニリノまたは置換アニリノ(
置換分は低級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲン
である)であり、そしてR2にフェニルま′fcは前述
したような置換フェニルテアル〕、 (式中、Rは前述したとおりであり、ナしてXflo−
フェニレンまfcは2〜4個の鎖炭素原子の直鎖状まf
cニ有枝鎖状のアルキレンでちる〕、R 鵞 R5−Co−C−Co−R4(1) R 〔式中、Rは前述したとおりであり、R3は低級アルキ
ルまfcは低級アルコキシであり、セしてR4は1〜5
個の炭素原子のカルボアルコキシまたは R −C−Co −R5 R でありあるいはまた加硫促進剤が2−メルカプトベンゾ
チアゾールである場合KflR4fi低級アルキルでも
あり得る〕、および R NC−C−R5(IV) 審 R 〔式中、Rは前述したとおりであり、セしてR5はシア
ノ、1〜5個の炭素原子のカルボアルコ(式中、R6に
水素またはRであり、セしてR7はRまたに1〜5個の
炭素原子のカルボアルコキシであるかあるいはまたR6
およびR7に一緒になって4〜8個の炭素原子のアルキ
レンまfcはオキシジアルキレンであって窒素原子と共
に複素環全形成する)の置換カルバモイルであり、ある
いにまた加硫促進剤が2−メルカプトベン上記によって
示されたように、R4が低級アルキルである式(III
)の阻止剤およびR5が未置換カルバモイルである式(
IV)の阻止剤は、促進剤が2−メルカプトベンゾチア
ゾールである場合には強力な阻止剤であるが、他の促進
剤例えばスルフェンアミド促進剤を含有する組成物の早
期加硫全阻止するのには効力が低くそして大なる添加量
を必要とする。これは、硫黄加硫に対するすべての普通
の有機促進剤を使用する場合の通常の使用量において阻
止剤活性を示す式(1)および([I)の阻止剤および
式(f[[)および(F/)の残りの阻゛止剤とは対照
的である。
可能なゴム、硫黄加硫剤、有機加硫促進剤および早期加
硫を阻止するのに有効な量の式 〔式中、Rは1〜20個の炭素原子のアルキル、5〜1
2個の炭素原子のシクロアルキル、(メチル、α−メチ
ル(メチル、フェニルまたハ置換フェニル(置換分に低
級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲンである)で
あり、R1はRまfcはアニリノまたは置換アニリノ(
置換分は低級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲン
である)であり、そしてR2にフェニルま′fcは前述
したような置換フェニルテアル〕、 (式中、Rは前述したとおりであり、ナしてXflo−
フェニレンまfcは2〜4個の鎖炭素原子の直鎖状まf
cニ有枝鎖状のアルキレンでちる〕、R 鵞 R5−Co−C−Co−R4(1) R 〔式中、Rは前述したとおりであり、R3は低級アルキ
ルまfcは低級アルコキシであり、セしてR4は1〜5
個の炭素原子のカルボアルコキシまたは R −C−Co −R5 R でありあるいはまた加硫促進剤が2−メルカプトベンゾ
チアゾールである場合KflR4fi低級アルキルでも
あり得る〕、および R NC−C−R5(IV) 審 R 〔式中、Rは前述したとおりであり、セしてR5はシア
ノ、1〜5個の炭素原子のカルボアルコ(式中、R6に
水素またはRであり、セしてR7はRまたに1〜5個の
炭素原子のカルボアルコキシであるかあるいはまたR6
およびR7に一緒になって4〜8個の炭素原子のアルキ
レンまfcはオキシジアルキレンであって窒素原子と共
に複素環全形成する)の置換カルバモイルであり、ある
いにまた加硫促進剤が2−メルカプトベン上記によって
示されたように、R4が低級アルキルである式(III
)の阻止剤およびR5が未置換カルバモイルである式(
IV)の阻止剤は、促進剤が2−メルカプトベンゾチア
ゾールである場合には強力な阻止剤であるが、他の促進
剤例えばスルフェンアミド促進剤を含有する組成物の早
期加硫全阻止するのには効力が低くそして大なる添加量
を必要とする。これは、硫黄加硫に対するすべての普通
の有機促進剤を使用する場合の通常の使用量において阻
止剤活性を示す式(1)および([I)の阻止剤および
式(f[[)および(F/)の残りの阻゛止剤とは対照
的である。
アルキルまた汀アルコキシに対して言及される「低級」
なる語は1〜5個の炭素原子全含有する基を意味する。
なる語は1〜5個の炭素原子全含有する基を意味する。
式(1)の好適な阻止剤に、アセトアセトアニリドま+
na−−:ンゾイルアセトアニリドから誘導される。式
(It)の好適な阻止剤f11.3−シクロヘキサンジ
オンまたは5,5−ジアルキル−1,6−シクロヘキサ
ンジオンから誘導される。より好適な阻止剤iRがフェ
ニルである化合物である。式(IV)の好適な阻止剤[
R5がシアン、カルボエトキシ、カルボメトキシ、カル
ボエトキシカルバモイルまたはカルボメトキシカルバモ
イルである化合物でアル。
na−−:ンゾイルアセトアニリドから誘導される。式
(It)の好適な阻止剤f11.3−シクロヘキサンジ
オンまたは5,5−ジアルキル−1,6−シクロヘキサ
ンジオンから誘導される。より好適な阻止剤iRがフェ
ニルである化合物である。式(IV)の好適な阻止剤[
R5がシアン、カルボエトキシ、カルボメトキシ、カル
ボエトキシカルバモイルまたはカルボメトキシカルバモ
イルである化合物でアル。
Rに対する満足な基の例はメチル、エチル、プロピル、
インプロピル、n−ブチル、第2級ブチル、インブチル
、はメチル、第2 級’ンチ/’(1−メチルフチル)
、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ド
デシル、エイコシル、シクロペンチル、シクロヘキシル
、2−メチルシクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシル、
シクロドデシル、2−メチルフェニル、5−メチルフェ
ニル、4−メチルフェニル、2−メfルー4−第5級i
チルフェニル、4−第5Rブチルフエニル、2+4v6
− トリメチルフェニル、6−インプロビルフエニル、
4−メトキシフェニル、4−エトキシフェニル、4−ク
ロロフェニルオヨヒ2,4−ジクロロフェニルである。
インプロピル、n−ブチル、第2級ブチル、インブチル
、はメチル、第2 級’ンチ/’(1−メチルフチル)
、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ド
デシル、エイコシル、シクロペンチル、シクロヘキシル
、2−メチルシクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシ
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シクロドデシル、2−メチルフェニル、5−メチルフェ
ニル、4−メチルフェニル、2−メfルー4−第5級i
チルフェニル、4−第5Rブチルフエニル、2+4v6
− トリメチルフェニル、6−インプロビルフエニル、
4−メトキシフェニル、4−エトキシフェニル、4−ク
ロロフェニルオヨヒ2,4−ジクロロフェニルである。
炭化水素基が好適である。好適なアルキル基tri1〜
5個の炭素原子の第1級または第2級低級アルキル基で
ある。
5個の炭素原子の第1級または第2級低級アルキル基で
ある。
ノ、エテルアミノ、プロピルアミン、インプロピルアば
ノ、ブチルアミノ、第3級ブチルアミノ、シクロへキシ
ルアミノ、ベンジルアミノ、アニリノ、ジメチルアミノ
、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジシクロへキシ
ルアミノ、ジフェニルアミノ、ピロリジニル、ビはリジ
ン、モルホリノ、2,6−ジメチルモルホリノおよびヘ
キサヒドロ−1H−アゼピン−1−イルである。
ノ、ブチルアミノ、第3級ブチルアミノ、シクロへキシ
ルアミノ、ベンジルアミノ、アニリノ、ジメチルアミノ
、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジシクロへキシ
ルアミノ、ジフェニルアミノ、ピロリジニル、ビはリジ
ン、モルホリノ、2,6−ジメチルモルホリノおよびヘ
キサヒドロ−1H−アゼピン−1−イルである。
本発明の阻止剤は、ミル上でかまfchバンバリーミキ
サ−のような密閉式ミキサー中で混合することによって
ゴムストックに混合される。
サ−のような密閉式ミキサー中で混合することによって
ゴムストックに混合される。
しかしながら、阻止剤はもし必要ならばラテックスに添
加することによって混合できる。本発明の方法は、特に
アミンジスルフィドまたは重合体状ポリスルフィドのよ
うな硫黄加硫剤を含有する硫黄加硫可能なゴム組成物に
適用できる。
加することによって混合できる。本発明の方法は、特に
アミンジスルフィドまたは重合体状ポリスルフィドのよ
うな硫黄加硫剤を含有する硫黄加硫可能なゴム組成物に
適用できる。
好適Kに、加硫剤は元素状硫黄(普通にはゴム100重
量部当り硫黄約0.5〜5重量部が使用される]である
。有機促進剤を含有するゴム組成物は、特に、本発明の
阻止剤によって改善される。2−メルカプトベンゾチア
ゾール促進剤を含有する組成物が好適である。ゴムの硫
黄加硫を促進するのに有効な量(一般にゴム100重量
部当り促進剤約0.1〜5重敏部)のすべての有機促進
剤が本発明の実施に対して満足である。本発明の阻止剤
は、硫黄加硫可能な天然および合成ゴムおよびそれらの
混合物のいずれを使用する場合においても有効である。
量部当り硫黄約0.5〜5重量部が使用される]である
。有機促進剤を含有するゴム組成物は、特に、本発明の
阻止剤によって改善される。2−メルカプトベンゾチア
ゾール促進剤を含有する組成物が好適である。ゴムの硫
黄加硫を促進するのに有効な量(一般にゴム100重量
部当り促進剤約0.1〜5重敏部)のすべての有機促進
剤が本発明の実施に対して満足である。本発明の阻止剤
は、硫黄加硫可能な天然および合成ゴムおよびそれらの
混合物のいずれを使用する場合においても有効である。
適当な促進剤およびゴムはそれぞれ米国特許第3,54
6,185号および米国特許第3.780.0019各
明細書に説明されている。これらの特許の説明全参照と
して本明細書に引用する。加硫可能な組成物はまた補強
顔料、増量剤、加工油、劣化防止剤などのような普通の
配合成分を含有し得る。
6,185号および米国特許第3.780.0019各
明細書に説明されている。これらの特許の説明全参照と
して本明細書に引用する。加硫可能な組成物はまた補強
顔料、増量剤、加工油、劣化防止剤などのような普通の
配合成分を含有し得る。
少量の阻止剤が早期加硫を阻止するのに有効である。加
工安全性における改善(rlコム100部当り阻止剤0
.05部ま′fcニそれ以下の量で観察できる。使用さ
れる阻止剤の量における上限はないけれども、一般にそ
の量はゴム100部当り阻止剤5部全越えない。典型的
には、添加される阻止剤の量はゴム100部当り約0.
1〜2.5部であるが、普通にはゴム100部当り阻止
剤約0.2〜1部の量が使用される。本発明の説明にお
いて使用さ4るゴムストックのスコーチ時間および硬化
特性を測定する方法は、米国特許第5.546.185
号明細書に説明されている。応カー歪み関係はメガ、a
スカル(MPa )で示さねる。
工安全性における改善(rlコム100部当り阻止剤0
.05部ま′fcニそれ以下の量で観察できる。使用さ
れる阻止剤の量における上限はないけれども、一般にそ
の量はゴム100部当り阻止剤5部全越えない。典型的
には、添加される阻止剤の量はゴム100部当り約0.
1〜2.5部であるが、普通にはゴム100部当り阻止
剤約0.2〜1部の量が使用される。本発明の説明にお
いて使用さ4るゴムストックのスコーチ時間および硬化
特性を測定する方法は、米国特許第5.546.185
号明細書に説明されている。応カー歪み関係はメガ、a
スカル(MPa )で示さねる。
本発明の一つの態様は、式
%式%(
〔式中、Rに1〜20個の炭素原子のアルキル、5〜1
2個の炭素原子のシクロアルキル、〈/シル、α−メチ
ルベンジル、フェニルまたは置換フェニル(置換分は低
級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲンである〕で
あり、R11dRまたはアニリノまたに置換アニリノ(
置換分は低級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲン
である)であり、ナしてR2はフェニルまたは前述した
ような置換フェニルである〕、 (式中、Rは前述したとおりであり、そしてXにo−フ
ェニレンまfcf12〜4個の鎖炭素原子の直鎖状まf
cハ有枝鎖状アルキレンである)、R R3−Co−C−Co−R4(■) R (式中、Rは前述したとおりであり、R5に低級アルキ
ルまたは低級アルコキシであり、セしてR4t11〜5
個の炭素原子のカルボアルコキシま−C−Go−R4 R である)、 R NC−C−85(■) R 〔式中、Rは前述したとおりであり、セしてR5は1〜
5個の炭素原子のカルボアルコキシ(式中、R6は水素
またばRであり、ナしてR7/riRまたは1〜5個の
炭素原子のカルボアルコキシなって4〜8個の炭素原子
のアルキレンまたはオキシジアルキレンであって窒素原
子と共に複素環を形成する〕の置換カルーシモイルであ
る〕の新規な化合物に関する。
2個の炭素原子のシクロアルキル、〈/シル、α−メチ
ルベンジル、フェニルまたは置換フェニル(置換分は低
級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲンである〕で
あり、R11dRまたはアニリノまたに置換アニリノ(
置換分は低級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲン
である)であり、ナしてR2はフェニルまたは前述した
ような置換フェニルである〕、 (式中、Rは前述したとおりであり、そしてXにo−フ
ェニレンまfcf12〜4個の鎖炭素原子の直鎖状まf
cハ有枝鎖状アルキレンである)、R R3−Co−C−Co−R4(■) R (式中、Rは前述したとおりであり、R5に低級アルキ
ルまたは低級アルコキシであり、セしてR4t11〜5
個の炭素原子のカルボアルコキシま−C−Go−R4 R である)、 R NC−C−85(■) R 〔式中、Rは前述したとおりであり、セしてR5は1〜
5個の炭素原子のカルボアルコキシ(式中、R6は水素
またばRであり、ナしてR7/riRまたは1〜5個の
炭素原子のカルボアルコキシなって4〜8個の炭素原子
のアルキレンまたはオキシジアルキレンであって窒素原
子と共に複素環を形成する〕の置換カルーシモイルであ
る〕の新規な化合物に関する。
本発明の若干の阻止剤は既知である。例えば3、3−ジ
フェニルチオ−2.4−−!:ンタンジオンおよヒ2.
2−ジフェニルチオマロノニトリルは「欧文日本化学会
誌」第45巻第866−870頁( i972年)K説
明されている。ここに説明されている合成方法は本発明
の阻止剤を製造するのに適当している。別法として、本
発明の阻止剤に塩化スルフェニル全適当な活性メチレン
化合物と反応せしめることによって製造することができ
る。好適には反応はトリエチルアミン、ピリジンおよび
ビぼリジンのような酸受容体の存在下において実施され
る。中間体として有用な適当な活性メチレン化合物の例
はアセトアセトアニリド(N−フェニル−3−オキンブ
タンアミドン、ベンゾイルアセトアニリド、ビス(〕工
二ルカルパモイルンメタン、1,3−シクロヘキサンジ
オン、インダンジオン、メチルアセトアセテート、ジエ
チルオキザルアセテートまたはそのナトリウム塩、2−
シアノアセトアミド、エチルシアンアセテート、N−シ
アノアセチルウレタン(エチル−N−シアノアセチル−
カルバメート)、N−メチル−2−シアノアセトアミド
および、2−シアノアセトアニリドである。
フェニルチオ−2.4−−!:ンタンジオンおよヒ2.
2−ジフェニルチオマロノニトリルは「欧文日本化学会
誌」第45巻第866−870頁( i972年)K説
明されている。ここに説明されている合成方法は本発明
の阻止剤を製造するのに適当している。別法として、本
発明の阻止剤に塩化スルフェニル全適当な活性メチレン
化合物と反応せしめることによって製造することができ
る。好適には反応はトリエチルアミン、ピリジンおよび
ビぼリジンのような酸受容体の存在下において実施され
る。中間体として有用な適当な活性メチレン化合物の例
はアセトアセトアニリド(N−フェニル−3−オキンブ
タンアミドン、ベンゾイルアセトアニリド、ビス(〕工
二ルカルパモイルンメタン、1,3−シクロヘキサンジ
オン、インダンジオン、メチルアセトアセテート、ジエ
チルオキザルアセテートまたはそのナトリウム塩、2−
シアノアセトアミド、エチルシアンアセテート、N−シ
アノアセチルウレタン(エチル−N−シアノアセチル−
カルバメート)、N−メチル−2−シアノアセトアミド
および、2−シアノアセトアニリドである。
その他の適当な中間体に1−シアノアセチルピロリジン
、N−フェニル−5−オキンーペンタンアミド、2+4
−ハンタンジオン、2,4−ヘキサンジオン、6,5−
へブタンジオン、1,6−シクロはメタンジオン、1,
5−シクロへブタンジオン、4−メチルインダンジオン
、5−メチルインダンジオン、エチルアセトアセテート
、プロピルアセトアセテート、ジメチルオキザルアセテ
ート(ジメチル−2−オキンーブタンジオエート〕、ジ
プロピルオキザルアセテート、メチルシアンアセテート
、プロピルシアノアセテート、N−シクロヘキシルシア
ノアセトアミド、4−(シアノアセチルフモルホリン、
N、N−ジメチルシアノアセトアミド、N、N−ジフェ
ニルシアノアセトアミド、N−メチル−N−7エニルシ
アノアセトアミド、1−シアノアセチルビはリジン、メ
チルN−シアノアセチルカルバメート、プロピルN−7
アノアセチルカルパメート、ヒス(N−メチルカルバモ
イル)メタンおよびジメチル1.6−アセドンジカルポ
キンレートである。
、N−フェニル−5−オキンーペンタンアミド、2+4
−ハンタンジオン、2,4−ヘキサンジオン、6,5−
へブタンジオン、1,6−シクロはメタンジオン、1,
5−シクロへブタンジオン、4−メチルインダンジオン
、5−メチルインダンジオン、エチルアセトアセテート
、プロピルアセトアセテート、ジメチルオキザルアセテ
ート(ジメチル−2−オキンーブタンジオエート〕、ジ
プロピルオキザルアセテート、メチルシアンアセテート
、プロピルシアノアセテート、N−シクロヘキシルシア
ノアセトアミド、4−(シアノアセチルフモルホリン、
N、N−ジメチルシアノアセトアミド、N、N−ジフェ
ニルシアノアセトアミド、N−メチル−N−7エニルシ
アノアセトアミド、1−シアノアセチルビはリジン、メ
チルN−シアノアセチルカルバメート、プロピルN−7
アノアセチルカルパメート、ヒス(N−メチルカルバモ
イル)メタンおよびジメチル1.6−アセドンジカルポ
キンレートである。
本発明の阻止剤の例はα−アセチル−α、α−ジ〔ベン
ジルチオノアセトアニリド、α−アセチル−α、α−ジ
(ブチルチオノアセトアニリド、α−アセチル−α、α
−ジ(シクロヘキシルチオ〕アセトアニリド、ヒス(フ
ェニルカルバモイル)ビス(イソプロピルチオノメタン
、ビス(フェニルカルバモイル メタン、2,2−ジ(フェニルチオ) − 1,3−シ
クロはメタンジオン、2,2−ジ(フェニルチオ)−1
,3−シクロヘプタンジオン、2,2−ジ(インプロピ
ルチオ) − 1,5−シクロRンタンジオン、2,2
−ジ(インプロピルチオ) −1.3−シクロヘプタン
ジオン、2,2−ジ(シクロヘキシルチオツーインダン
ジオン、2,2−ジ(インプロヒルチオ)−インダンジ
オン、2.2−シ()・エニルチオ)−tJ−フェニル
−3−オキソ−はメタンアミド、2,2−ジ(インプロ
ピルチオン−N−フェニル−3−オキンー/!:/タン
アミド、2、2 − シ(シクロへキシルチオ)−N−
フェニル−6−オキソ−はメタンアミド、2,2−ジ(
ベンジルチオ) − 1.3−シクロヘキサンジオン、
ビス(フェニルカルバモイル)ヒス(ベンジルチオンメ
タン、3,6ージ(イソプロピルチオノ−2,4−はフ
タ/ジオン、6,6ージ(フェニルチオ) − 2.4
−ヘキサンジオン、4,4−ジ(フェニルチオ) −5
.5−ヘプタンジオン、2.2−ジ(ベンジルチオ)イ
ンダンジオン、2,2−ジ(フェニルチオ)−4−メチ
ルインタ/ジオン、2、2−ジ(フェニルチオ)−5−
メチルインダンジオン、エチルα−アセチル−a,α−
ジ(イソプロピルチオノアセテート、プロピルα−アセ
チル−a,α−ジ(インプロピルチオ)アセテート、ジ
メチル2.2−ジ(フェニルチオ)オキザルアセテート
、ジプロピル2,2−ジ(フェニルチオノオキザルアセ
テート、ビス(フェニルチオノビス(N−メチルカルバ
モイル)メタン、ビス(ペンジルチオフビス(N−メチ
ルカルバモイル)メタン、ビス(インプロピルチオ)ビ
ス(N−メチルカルバモイル)メタン、ビス(シクロへ
キシルチオノヒス(N−メチルカルバ4モイル〕メタン
、メチルジ(ベンジルチオ)シアノアセテート、メチル
ジ(インプロピルチオノシアノアセテート、メチルジ(
シアノヘキシルチオ)シアノアセトアミド、4(1.1
−ジ〔)エニルチオ〕−1−zアノアセチル〕モルt、
IJン、N、N−ジメチル−2,2−ジ(フェニルチ
オ)シアノアセトアミド、N、N−ジフェニル−2,2
−ジ(インプロピルチオ)シアノアセトアミド、N−メ
チル−N−フェニル−2,2−ジ(フェニルチオ)シア
ノアセトアミド、メチルジ(フェニルチオ)シアノアセ
チルカルバメート、メチルジ(インプロピルチオ)−N
−シアノアセチルカルバメートおよびジメチル1,1,
3.3−テトラ(インプロピルチオ) −1,3−アセ
トンジカルボキシレートである。
ジルチオノアセトアニリド、α−アセチル−α、α−ジ
(ブチルチオノアセトアニリド、α−アセチル−α、α
−ジ(シクロヘキシルチオ〕アセトアニリド、ヒス(フ
ェニルカルバモイル)ビス(イソプロピルチオノメタン
、ビス(フェニルカルバモイル メタン、2,2−ジ(フェニルチオ) − 1,3−シ
クロはメタンジオン、2,2−ジ(フェニルチオ)−1
,3−シクロヘプタンジオン、2,2−ジ(インプロピ
ルチオ) − 1,5−シクロRンタンジオン、2,2
−ジ(インプロピルチオ) −1.3−シクロヘプタン
ジオン、2,2−ジ(シクロヘキシルチオツーインダン
ジオン、2,2−ジ(インプロヒルチオ)−インダンジ
オン、2.2−シ()・エニルチオ)−tJ−フェニル
−3−オキソ−はメタンアミド、2,2−ジ(インプロ
ピルチオン−N−フェニル−3−オキンー/!:/タン
アミド、2、2 − シ(シクロへキシルチオ)−N−
フェニル−6−オキソ−はメタンアミド、2,2−ジ(
ベンジルチオ) − 1.3−シクロヘキサンジオン、
ビス(フェニルカルバモイル)ヒス(ベンジルチオンメ
タン、3,6ージ(イソプロピルチオノ−2,4−はフ
タ/ジオン、6,6ージ(フェニルチオ) − 2.4
−ヘキサンジオン、4,4−ジ(フェニルチオ) −5
.5−ヘプタンジオン、2.2−ジ(ベンジルチオ)イ
ンダンジオン、2,2−ジ(フェニルチオ)−4−メチ
ルインタ/ジオン、2、2−ジ(フェニルチオ)−5−
メチルインダンジオン、エチルα−アセチル−a,α−
ジ(イソプロピルチオノアセテート、プロピルα−アセ
チル−a,α−ジ(インプロピルチオ)アセテート、ジ
メチル2.2−ジ(フェニルチオ)オキザルアセテート
、ジプロピル2,2−ジ(フェニルチオノオキザルアセ
テート、ビス(フェニルチオノビス(N−メチルカルバ
モイル)メタン、ビス(ペンジルチオフビス(N−メチ
ルカルバモイル)メタン、ビス(インプロピルチオ)ビ
ス(N−メチルカルバモイル)メタン、ビス(シクロへ
キシルチオノヒス(N−メチルカルバ4モイル〕メタン
、メチルジ(ベンジルチオ)シアノアセテート、メチル
ジ(インプロピルチオノシアノアセテート、メチルジ(
シアノヘキシルチオ)シアノアセトアミド、4(1.1
−ジ〔)エニルチオ〕−1−zアノアセチル〕モルt、
IJン、N、N−ジメチル−2,2−ジ(フェニルチ
オ)シアノアセトアミド、N、N−ジフェニル−2,2
−ジ(インプロピルチオ)シアノアセトアミド、N−メ
チル−N−フェニル−2,2−ジ(フェニルチオ)シア
ノアセトアミド、メチルジ(フェニルチオ)シアノアセ
チルカルバメート、メチルジ(インプロピルチオ)−N
−シアノアセチルカルバメートおよびジメチル1,1,
3.3−テトラ(インプロピルチオ) −1,3−アセ
トンジカルボキシレートである。
本発明の阻止剤の例は次の典型的な操作方法によって製
造される。はじめに、例えば塩化メチレンのような適当
な溶剤中における約0℃におけるメルカプタンの塩素化
によって慣用の操作方法により塩化スルフェニル溶液を
製造する。
造される。はじめに、例えば塩化メチレンのような適当
な溶剤中における約0℃におけるメルカプタンの塩素化
によって慣用の操作方法により塩化スルフェニル溶液を
製造する。
仄に塩化スルフェニル2分子当量を含有する溶Ht t
ft拌しながら0〜25℃で活性メチレン化合物1分子
当量、酸受容体例えばトリエチルアミン2.2分子当量
および適当な溶剤例えば塩化メチレン全含有する溶液に
加える。次いで反応混合物を60〜60分攪拌する。生
成物の採取および精製は慣用の方法による。次に、反応
混合物を水で洗浄してアミン塩副生成物を除去する。
ft拌しながら0〜25℃で活性メチレン化合物1分子
当量、酸受容体例えばトリエチルアミン2.2分子当量
および適当な溶剤例えば塩化メチレン全含有する溶液に
加える。次いで反応混合物を60〜60分攪拌する。生
成物の採取および精製は慣用の方法による。次に、反応
混合物を水で洗浄してアミン塩副生成物を除去する。
不溶性生成物の場合においてに、矢に固体生成物’k濾
過によって採取する。可溶性生成物の場合においては、
有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、p過しそしてF液
を蒸発して生成物を採取する。次に、生成物全適当な溶
剤例えば、エタノールから再結晶する。生成物の確認は
、元素分析、赤外線分析および核磁気スにクトル分析か
らなる1種またはそれ以上の分析によって確認される。
過によって採取する。可溶性生成物の場合においては、
有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、p過しそしてF液
を蒸発して生成物を採取する。次に、生成物全適当な溶
剤例えば、エタノールから再結晶する。生成物の確認は
、元素分析、赤外線分析および核磁気スにクトル分析か
らなる1種またはそれ以上の分析によって確認される。
この方法で製造した化合物を第1〜4表に例1〜62と
して示す◎ 第 3 表 SR R3−Co−C−Co−R4 SR 例 19 ジエチル2,2−ジ(フェニルチオツーオキザ
ルアセテート フェニル20ジエチル
2.2−ジ(インプロピルチオ)−オキザルアセテート
インプロピル21 5.5−’、;C
フェニルチオ> −2,4−ハンタンジオン
フェニル22 メチルσ、α−ジ(
フェニルチオ)アセトアセテート
フェニル23ジエチル1,1,3.3−テトラ(フ
ェニルチオ) −1,5−アセト/ジ フェ
ニルカルボキシレート 24 ジエチル1,1,3.3−テトラ(シクロへキ
シルチオ)−1,5−アセ フクロヘキシル
トンジカルボキシレート R5R4融点C℃) エトキク カルボエトキシ 74〜76
エトキシ カルボエトキシ iL体メ
チル メチル 119〜120
メトキシ メチル 755〜76
R エトキシ −C−Co−R5145−146SR SR 13R(70%検定) 番号 化 合 物 25 2.2− ’; (フェニルチオ)−2−シアノ
アセトアミド26N−(α、n−(ジフェニルチオコク
アノアセチルノウレタン27 エチルージ(フェニル
チオコシアノアセテート28 2.2−ジ(フェニルチ
オ)マロノニトリル291−(α−シアノ−α、σ−ジ
〔フェニルチオコアセチル)ピロリジン 30 2.2−ジ(インプロピルチオ)−2−シアノア
セトアミド31 2.2−ジ(フェニルチオ)−2−シ
アノアセトアニリド52 2.2−ジ(インプロピルチ
オ)−2−シアノアセトアニリド第 4 表 R ■ NC−C−R5 R フェニル カルバモイル 1
51〜152 21.58 21.35フ
エニル カルボエトキシカル/qモ 1
13〜114 16.59 1722イル フェニル カルボエトキシ
36 19.36 19.46フエ
ニル シアノ 54〜55
− −フェニル ピロリジニルカ
ルボニル 86 1742
18.14インプロピル 力ルノ強イル
75. ’=
−フェニル フェニルカルノ強イル
110 − −インプロピル
フェニルカル7強イル 69〜70
− −本発明に、本発明の阻IE剤
を次の天然ゴムマスターバッチに混合することによって
例示される。
して示す◎ 第 3 表 SR R3−Co−C−Co−R4 SR 例 19 ジエチル2,2−ジ(フェニルチオツーオキザ
ルアセテート フェニル20ジエチル
2.2−ジ(インプロピルチオ)−オキザルアセテート
インプロピル21 5.5−’、;C
フェニルチオ> −2,4−ハンタンジオン
フェニル22 メチルσ、α−ジ(
フェニルチオ)アセトアセテート
フェニル23ジエチル1,1,3.3−テトラ(フ
ェニルチオ) −1,5−アセト/ジ フェ
ニルカルボキシレート 24 ジエチル1,1,3.3−テトラ(シクロへキ
シルチオ)−1,5−アセ フクロヘキシル
トンジカルボキシレート R5R4融点C℃) エトキク カルボエトキシ 74〜76
エトキシ カルボエトキシ iL体メ
チル メチル 119〜120
メトキシ メチル 755〜76
R エトキシ −C−Co−R5145−146SR SR 13R(70%検定) 番号 化 合 物 25 2.2− ’; (フェニルチオ)−2−シアノ
アセトアミド26N−(α、n−(ジフェニルチオコク
アノアセチルノウレタン27 エチルージ(フェニル
チオコシアノアセテート28 2.2−ジ(フェニルチ
オ)マロノニトリル291−(α−シアノ−α、σ−ジ
〔フェニルチオコアセチル)ピロリジン 30 2.2−ジ(インプロピルチオ)−2−シアノア
セトアミド31 2.2−ジ(フェニルチオ)−2−シ
アノアセトアニリド52 2.2−ジ(インプロピルチ
オ)−2−シアノアセトアニリド第 4 表 R ■ NC−C−R5 R フェニル カルバモイル 1
51〜152 21.58 21.35フ
エニル カルボエトキシカル/qモ 1
13〜114 16.59 1722イル フェニル カルボエトキシ
36 19.36 19.46フエ
ニル シアノ 54〜55
− −フェニル ピロリジニルカ
ルボニル 86 1742
18.14インプロピル 力ルノ強イル
75. ’=
−フェニル フェニルカルノ強イル
110 − −インプロピル
フェニルカル7強イル 69〜70
− −本発明に、本発明の阻IE剤
を次の天然ゴムマスターバッチに混合することによって
例示される。
スモークドシート 100カーボンブラ
ツク 40増量油 10 ワックス 2 酸化亜鉛 5 ステアリン酸 1加硫可能な
組成物は、促進剤および硫黄の混入によって製造される
。本発明の組成物は、指示された量の阻止剤を加硫可能
な組成物に混合することによって製造される。阻止剤を
含有していない組成物は対照である。結果は第5〜12
表に示されるとおりである。
ツク 40増量油 10 ワックス 2 酸化亜鉛 5 ステアリン酸 1加硫可能な
組成物は、促進剤および硫黄の混入によって製造される
。本発明の組成物は、指示された量の阻止剤を加硫可能
な組成物に混合することによって製造される。阻止剤を
含有していない組成物は対照である。結果は第5〜12
表に示されるとおりである。
第5表においては、加硫可能なゴム組成物に、天然ゴム
マスターパッチ158部、N−(1,3−ジメチルブチ
ル)−N’−Cフェニル)−p−7二二レンジアミン(
ナンドフレックス16劣化防止剤22部、N(第6級ブ
チルンーペンゾチアゾールスルフエンアミド(サントキ
ュアNS促進剤)0.5部および硫黄2.5部からなる
0部げすべて重量部である。ストック7に阻止剤全含有
していない対照である。ストック2〜10は阻止剤1部
を含有している。
マスターパッチ158部、N−(1,3−ジメチルブチ
ル)−N’−Cフェニル)−p−7二二レンジアミン(
ナンドフレックス16劣化防止剤22部、N(第6級ブ
チルンーペンゾチアゾールスルフエンアミド(サントキ
ュアNS促進剤)0.5部および硫黄2.5部からなる
0部げすべて重量部である。ストック7に阻止剤全含有
していない対照である。ストック2〜10は阻止剤1部
を含有している。
データ&′ハスコープ遅延の増大によって示されるよう
に、アセトアセトアニリドおよびインジイルアセトアニ
リドのα、α−gem−ジスルフエン化誘導体は加硫可
能な組成物に加工安全性を与えるということを示す。更
に、データはフェニルおよびインプロピル化合物は大な
る活性を示しそしてベンゾイルアセトアニリド化合物は
特に強力であるということを示す。
に、アセトアセトアニリドおよびインジイルアセトアニ
リドのα、α−gem−ジスルフエン化誘導体は加硫可
能な組成物に加工安全性を与えるということを示す。更
に、データはフェニルおよびインプロピル化合物は大な
る活性を示しそしてベンゾイルアセトアニリド化合物は
特に強力であるということを示す。
Nlマスターパッチ
サントキュア■NS促進剤
硫黄
a−アセチル−aμmジ(フェニルチオノアセトアニリ
ドα−アセチル−a、α−ジ(シクロへキシルチオ)ア
セトアニリドa−アセチル−〇、(’1−ジ(イソプロ
ピルチオノアセトアニリドα−アセチル−a、a−ジ(
メチルチオンアセトアニリドミーアセチル−a、L′1
−ジ(プロピルチオ)アセトアニリドa−アセチル−〇
、a−ジ(エチルチオ)アセトアニリドa−アセチル−
(1,n−ジ(フェニルチオ)−p−クロロアセトアニ
リドα−アセチル−a、α−ジ(シクロヘキ7)−プ2
オンーp−クロロアセトアニリa−ベンゾイル−α、α
−ジ(フェニルチオ)アセトアニリド121℃における
ムーニースコープ t5 (分〕 スコーチ遅延の増大俤 153℃における応カー歪み M!+00 (MPa) UTS (MPa) 伸度 (%) 第5表 158 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−→2 −−−−−−−、−−−−−−−−−−
−−−−− −→0.5 −−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−− 、− −−→2.5 −−−−−−
−−−−−− −−−−−−−−−−−−→−1−−−
一−−−− 一−−1−’−−−−− 一−−−−i−−−− 一−−−−−i−−− 一一−−−−− 1−− ド −−−−−−−−i−−一−−−−
−−−i 28.6 51.6 44,4 55.9 5
8.0 410 425 48.4 455
68.47.5 7.3&9 6.7 7.5
.6.7 6.7 7.1 75 6
.424.9 25B 24,6 25,1
26.6 2a6 25.9 25.6 25
2 253加硫促進剤として2−メルカプトベンゾチ
アゾールを含有する加硫可能な組成物は第6および7表
に例示される。データは、阻止剤が実質的に組成物のス
コーチ安全性全強化しそして更に硬化速度および引張強
度を増大することを示す。第6表のストック5〜9のデ
ータは、スコーチ遅延の量が本質的に使用される阻止剤
の量に直接比例することを示す。
ドα−アセチル−a、α−ジ(シクロへキシルチオ)ア
セトアニリドa−アセチル−〇、(’1−ジ(イソプロ
ピルチオノアセトアニリドα−アセチル−a、a−ジ(
メチルチオンアセトアニリドミーアセチル−a、L′1
−ジ(プロピルチオ)アセトアニリドa−アセチル−〇
、a−ジ(エチルチオ)アセトアニリドa−アセチル−
(1,n−ジ(フェニルチオ)−p−クロロアセトアニ
リドα−アセチル−a、α−ジ(シクロヘキ7)−プ2
オンーp−クロロアセトアニリa−ベンゾイル−α、α
−ジ(フェニルチオ)アセトアニリド121℃における
ムーニースコープ t5 (分〕 スコーチ遅延の増大俤 153℃における応カー歪み M!+00 (MPa) UTS (MPa) 伸度 (%) 第5表 158 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−→2 −−−−−−−、−−−−−−−−−−
−−−−− −→0.5 −−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−− 、− −−→2.5 −−−−−−
−−−−−− −−−−−−−−−−−−→−1−−−
一−−−− 一−−1−’−−−−− 一−−−−i−−−− 一−−−−−i−−− 一一−−−−− 1−− ド −−−−−−−−i−−一−−−−
−−−i 28.6 51.6 44,4 55.9 5
8.0 410 425 48.4 455
68.47.5 7.3&9 6.7 7.5
.6.7 6.7 7.1 75 6
.424.9 25B 24,6 25,1
26.6 2a6 25.9 25.6 25
2 253加硫促進剤として2−メルカプトベンゾチ
アゾールを含有する加硫可能な組成物は第6および7表
に例示される。データは、阻止剤が実質的に組成物のス
コーチ安全性全強化しそして更に硬化速度および引張強
度を増大することを示す。第6表のストック5〜9のデ
ータは、スコーチ遅延の量が本質的に使用される阻止剤
の量に直接比例することを示す。
異なる促進剤を含有する加硫可能なゴム組成物は第8表
に示される。データに、本発明の阻止剤は促進剤が2−
メルカプトベンゾチアゾールのアミン塩である組成物に
おいて特に強力であるということを示す。
に示される。データに、本発明の阻止剤は促進剤が2−
メルカプトベンゾチアゾールのアミン塩である組成物に
おいて特に強力であるということを示す。
環状ジオンから誘導さjた本発明の阻止5第9表に例示
される。データは、フェニル5体が一層活性であること
を示す。
される。データは、フェニル5体が一層活性であること
を示す。
オキザルアセテートエステル、アセトア−−トエステル
、2+1’ンタンジオンおよびインダンジオンから誘導
された本発明の阻止剤は第10表に例示される。データ
に、阻止剤が促進剤が2−メルカプトベンゾチアゾール
である組成物において、実質的な前加硫阻止剤活性を示
すということを示す。具体的に示していないが、他の実
験においてにジエチルオキザルアセテ−)、2.4−ベ
ンタンジオンおよびメチルアセトアセテートのα、α−
ジ(フェニルチオ)誘導体ハ、匹敵する使用量において
はスルフェンアミド促進剤を含有する加硫可能なゴム組
成物においてはほとんど活性を示さない。
、2+1’ンタンジオンおよびインダンジオンから誘導
された本発明の阻止剤は第10表に例示される。データ
に、阻止剤が促進剤が2−メルカプトベンゾチアゾール
である組成物において、実質的な前加硫阻止剤活性を示
すということを示す。具体的に示していないが、他の実
験においてにジエチルオキザルアセテ−)、2.4−ベ
ンタンジオンおよびメチルアセトアセテートのα、α−
ジ(フェニルチオ)誘導体ハ、匹敵する使用量において
はスルフェンアミド促進剤を含有する加硫可能なゴム組
成物においてはほとんど活性を示さない。
NRマスターノ2ソチ
2−メルカプトベンゾチアゾール
硫黄
a−アセチル−aμmジ(フェニルチオ)7p−クロロ
アセトアニリドミーアセチル−aμmジ(シクロへキシ
ルチオ)−p−クロロアセトアニリドα−アセテルーa
、a−ジ(メチルチオ)−アセトアニリドローアセチル
−n、n−ジ(インプロピルチオクーアセトアニリドa
−アセチル−aμmジ(フェニルチオクーアセトアニリ
ドt5 (分) スコーチ遅延の増大チ t90−t2 (分) M2O3(MPa) UTS (MPa) 伸度 (%] 第 6 表 158 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−→1 −−−−−−−−−−−−−−−−
−一−−−−−−−−→2.5−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−→−0,855−−−
−−−− −−0,88−一−−−− −−−0,54−−−−− −−−−0,651,5−−− 0,3950,7851,595 12,424723:025.425050.419.
324,937.59.68.58510.1 8B
9.0857.98.95.53.94.04.0
5.9 4.1 5.7 42 5.917.019.
219,219,119.220,917,720,6
21.4680690680690690710670
70073ONRマスターパツチ 2−メルカプトベンゾチアゾール 硫黄 a−ベンゾイル−α、a−ジ(フェニルチオ)アセトア
ニリドα−アセチル−α、a−ジ(フェニルチオ)アセ
トアニリドa−アセチル−α、α−ジ(シクロへキシル
チオ)アセトアニリドα−アセチル−α、α−ジ(フェ
ニルチオ)−0−アセトアニシジt5 (分) スコーチ遅延の増大チ t90−t2 (分) M2O3(MPa) UTS (MPa) 伸度 (%) 第 7 表 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5−
0.91 − − −−
−0.785 − − − −− o、si
−ド −−−−0,86513,52
6,123,724,921,59,58,57,98
,28,1 3,74,53,94,25,9 1B、!+ 20.821.0 20.818.9NR
マスターパンチ 硫黄 ビス−(ジメチルチオカルバミル)スルフィド2.2′
−ビス(′;チオベンゾチアゾール)亜鉛0.σ−ジブ
チルホスホロジチオエート亜鉛2−メルカプト−<ンゾ
チアゾール2−メルカフトペンゾテアン゛−ルの第3級
ブチルアミン塩α−アセチル−Q、Q−ジ(フェニルチ
オノアセトアニリドt5 (分) スコーチ遅延の増大チ M2O3(MPa) TS (MPa) 伸度 (%] 第 8 表 1ss−−−−−−−−−−−−++−−−−−−−−
−→25−−−−−−−−− + −−一−−−−
→0.50.5− − + + + −+ −−−1
1−−−m−− −−−−’−−−−0,50,5 −0,5−05−05−0,65−0,6517,23
0,721,528,423,045,617255,
010,029,46,96,8424,65,945
424,76,35,625,925,421,221
,118,121,311817,624322B65
0620690680660690540640650
67ONRマスターパツチ 2−メルカプト(ンゾチアゾール −硫黄 2.2−シ(フェニルチオ) −1,3−シクロヘキサ
ンジオン2.2−ジ(インプロピルチオ) −1,3−
シクロヘキサンジオ72.2−ジ(シクロヘキシルチオ
) −1,5−シクロヘキサンジオン2.2−ジ(フェ
ニルチオ)−5,5−ジメチル−1,5−シクロヘキサ
ンジオン 2.2−ジ(シクロヘキシルチオ) −5,5−ジメチ
ル−1,3−シクロヘキサンジオン 121℃におけるムーニースコーチ t5 (分) スコーチ遅延の増大チ t90−t2 (分) M S OO(MPa) UTS (MPa) 伸度 (%) 2.5 2.5 2.5 2.5
2.5 2.5− 0.655
− − − −−
−0.52 − − −−
− − 0.68−−
一 −〜 −0,715−一
−−−−0,755 15,027,424,921,428,720,51
1,89,58,68,08,78,45,23,74
,14,24,44,515,019J 22.
8 22,8 21.0 25.1NRマ
スターパンチ 2−メルカプトベンゾチアゾール 硫黄 ジエチルn、Q−ジ(フェニルチオ)オキザルアセチ−
トロ、a−ジフェニルチオ−2,4−インタンジオンメ
チル(1,n −) (フェニルチオ)アセトアセテー
ト2.2−ジ(フェニルチオコインダンジオンジエチル
2.2−ジ(インプロピルチオ)オキザルアセテートt
5 (分〕 スコーチ遅延の増大チ t90−t2 (分) M2O3(MPa) UTS (MPa) 伸度 (%) 第10表 i 1i i O,60,60,62,5
2,52,52,52−52,52,5−0,81−−
−−〜 −−0,655−−−− −−−0,66−−− −−−−−0,(55− −−−−−−0,6 15,027,321,020,07,514,412
,4−110625492’65 9.5 8.8 8.5 8.4 12.4 9,9
12.55.4 3.8 4.0 4.1 五667
3゜3173 20.4 20.8 20,7 16,
2 17.9 17.2700 720 700 .6
90 660 680 7!inシアン含有活性メチレ
ン化合物から誘導された本発明の阻止剤は第11および
12表において例示される。第11表のデータは、2,
2−ジ(フェニルチオ)マロノニトリルおjヒN−(シ
アノージ〔フェニルチオ〕)ウレタンが特に強力である
ということを示す。第12表のデータは、2−シアノア
セトアミドおよび2−シアノアセトアニリドの誘導体が
良好な活性を示しそしてイソプロピル誘導体が良好であ
るということを示す。
アセトアニリドミーアセチル−aμmジ(シクロへキシ
ルチオ)−p−クロロアセトアニリドα−アセテルーa
、a−ジ(メチルチオ)−アセトアニリドローアセチル
−n、n−ジ(インプロピルチオクーアセトアニリドa
−アセチル−aμmジ(フェニルチオクーアセトアニリ
ドt5 (分) スコーチ遅延の増大チ t90−t2 (分) M2O3(MPa) UTS (MPa) 伸度 (%] 第 6 表 158 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−→1 −−−−−−−−−−−−−−−−
−一−−−−−−−−→2.5−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−→−0,855−−−
−−−− −−0,88−一−−−− −−−0,54−−−−− −−−−0,651,5−−− 0,3950,7851,595 12,424723:025.425050.419.
324,937.59.68.58510.1 8B
9.0857.98.95.53.94.04.0
5.9 4.1 5.7 42 5.917.019.
219,219,119.220,917,720,6
21.4680690680690690710670
70073ONRマスターパツチ 2−メルカプトベンゾチアゾール 硫黄 a−ベンゾイル−α、a−ジ(フェニルチオ)アセトア
ニリドα−アセチル−α、a−ジ(フェニルチオ)アセ
トアニリドa−アセチル−α、α−ジ(シクロへキシル
チオ)アセトアニリドα−アセチル−α、α−ジ(フェ
ニルチオ)−0−アセトアニシジt5 (分) スコーチ遅延の増大チ t90−t2 (分) M2O3(MPa) UTS (MPa) 伸度 (%) 第 7 表 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5−
0.91 − − −−
−0.785 − − − −− o、si
−ド −−−−0,86513,52
6,123,724,921,59,58,57,98
,28,1 3,74,53,94,25,9 1B、!+ 20.821.0 20.818.9NR
マスターパンチ 硫黄 ビス−(ジメチルチオカルバミル)スルフィド2.2′
−ビス(′;チオベンゾチアゾール)亜鉛0.σ−ジブ
チルホスホロジチオエート亜鉛2−メルカプト−<ンゾ
チアゾール2−メルカフトペンゾテアン゛−ルの第3級
ブチルアミン塩α−アセチル−Q、Q−ジ(フェニルチ
オノアセトアニリドt5 (分) スコーチ遅延の増大チ M2O3(MPa) TS (MPa) 伸度 (%] 第 8 表 1ss−−−−−−−−−−−−++−−−−−−−−
−→25−−−−−−−−− + −−一−−−−
→0.50.5− − + + + −+ −−−1
1−−−m−− −−−−’−−−−0,50,5 −0,5−05−05−0,65−0,6517,23
0,721,528,423,045,617255,
010,029,46,96,8424,65,945
424,76,35,625,925,421,221
,118,121,311817,624322B65
0620690680660690540640650
67ONRマスターパツチ 2−メルカプト(ンゾチアゾール −硫黄 2.2−シ(フェニルチオ) −1,3−シクロヘキサ
ンジオン2.2−ジ(インプロピルチオ) −1,3−
シクロヘキサンジオ72.2−ジ(シクロヘキシルチオ
) −1,5−シクロヘキサンジオン2.2−ジ(フェ
ニルチオ)−5,5−ジメチル−1,5−シクロヘキサ
ンジオン 2.2−ジ(シクロヘキシルチオ) −5,5−ジメチ
ル−1,3−シクロヘキサンジオン 121℃におけるムーニースコーチ t5 (分) スコーチ遅延の増大チ t90−t2 (分) M S OO(MPa) UTS (MPa) 伸度 (%) 2.5 2.5 2.5 2.5
2.5 2.5− 0.655
− − − −−
−0.52 − − −−
− − 0.68−−
一 −〜 −0,715−一
−−−−0,755 15,027,424,921,428,720,51
1,89,58,68,08,78,45,23,74
,14,24,44,515,019J 22.
8 22,8 21.0 25.1NRマ
スターパンチ 2−メルカプトベンゾチアゾール 硫黄 ジエチルn、Q−ジ(フェニルチオ)オキザルアセチ−
トロ、a−ジフェニルチオ−2,4−インタンジオンメ
チル(1,n −) (フェニルチオ)アセトアセテー
ト2.2−ジ(フェニルチオコインダンジオンジエチル
2.2−ジ(インプロピルチオ)オキザルアセテートt
5 (分〕 スコーチ遅延の増大チ t90−t2 (分) M2O3(MPa) UTS (MPa) 伸度 (%) 第10表 i 1i i O,60,60,62,5
2,52,52,52−52,52,5−0,81−−
−−〜 −−0,655−−−− −−−0,66−−− −−−−−0,(55− −−−−−−0,6 15,027,321,020,07,514,412
,4−110625492’65 9.5 8.8 8.5 8.4 12.4 9,9
12.55.4 3.8 4.0 4.1 五667
3゜3173 20.4 20.8 20,7 16,
2 17.9 17.2700 720 700 .6
90 660 680 7!inシアン含有活性メチレ
ン化合物から誘導された本発明の阻止剤は第11および
12表において例示される。第11表のデータは、2,
2−ジ(フェニルチオ)マロノニトリルおjヒN−(シ
アノージ〔フェニルチオ〕)ウレタンが特に強力である
ということを示す。第12表のデータは、2−シアノア
セトアミドおよび2−シアノアセトアニリドの誘導体が
良好な活性を示しそしてイソプロピル誘導体が良好であ
るということを示す。
ジエチル1,3−アセトンジカルボキシレから誘導され
た阻止剤は第13表に例示さストック1〜3は促進剤と
して2−メルカベンゾチアゾールを含有する。ストック
4は、スルフェンアミド促進剤を含有する。
た阻止剤は第13表に例示さストック1〜3は促進剤と
して2−メルカベンゾチアゾールを含有する。ストック
4は、スルフェンアミド促進剤を含有する。
ツク1および4に、阻止剤を含有しない対ある。データ
に、フェニルチオ誘導体が相るシクロヘキシルチオ誘導
体よりより強力であるということを示す。
に、フェニルチオ誘導体が相るシクロヘキシルチオ誘導
体よりより強力であるということを示す。
同様な結果は、本発明の阻止剤を使用して7チレンーブ
タジエンゴムのような合成コムからなる加硫可能な組成
物において得られる。
タジエンゴムのような合成コムからなる加硫可能な組成
物において得られる。
本発明を典型的な例によって説明したけれども、本発明
はこねらに限定さハるものでにない。
はこねらに限定さハるものでにない。
説明のために選択した本発明の例の変性金なし得るもの
であって、こt′Lハ本発明の精神からの離脱を構成す
るものではない。
であって、こt′Lハ本発明の精神からの離脱を構成す
るものではない。
NRマスターパッチ
2−メルカプトベンゾチアゾール
硫黄
2.2−9(フェニルチオ)マロンニトリルN−(α、
α−ジ〔フェニルチオコシアノアセチル)ウレタ;エチ
ルジ(フェニルチオ)シアノアセテート2.2−ジ(フ
ェニルチオ)−2−シアノアセトアミド1(a−シフ/
−α、α−ジ〔フェニルチオ〕アセチル)ヒロ14t5
(分ン スコーチ遅延の増大チ 153℃におけるレオメータ− t90−t2 (分) M2O3(MP&) UTS (MP&) 伸度 (%) 第11表 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5−
0.565 − −− − / −−0,745−−− −−−0,66−− 一−−−0,60− 1ジン −−−−−0,70515,052,
534,728,524,221,99,68,89,
17,9B、5 7.05.35.6 !1.7 3
.8 3.9 4.118.2 19.5 19.2
20.6 20.5 22.11 1 !
α−ジ〔フェニルチオコシアノアセチル)ウレタ;エチ
ルジ(フェニルチオ)シアノアセテート2.2−ジ(フ
ェニルチオ)−2−シアノアセトアミド1(a−シフ/
−α、α−ジ〔フェニルチオ〕アセチル)ヒロ14t5
(分ン スコーチ遅延の増大チ 153℃におけるレオメータ− t90−t2 (分) M2O3(MP&) UTS (MP&) 伸度 (%) 第11表 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5−
0.565 − −− − / −−0,745−−− −−−0,66−− 一−−−0,60− 1ジン −−−−−0,70515,052,
534,728,524,221,99,68,89,
17,9B、5 7.05.35.6 !1.7 3
.8 3.9 4.118.2 19.5 19.2
20.6 20.5 22.11 1 !
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔式中、Rは1〜20個の炭素原子のアルキル、5〜1
2個の炭素原子のシクロアルキル、ベンジル、α−メチ
ルベンジル、フェニルまたは置換フェニル(置換分は低
級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲンである)で
あり、R_1はRまたはアニリノまたは置換アニリノ(
置換分は低級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲン
である)であり、そしてR_2はフエニルまたは前述し
たような置換フエニルである〕、および ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中、Rは前述したとおりであり、そしてXはo−フ
ェニレンまたは2〜4個の鎖炭素原子の直鎖状または有
枝鎖状のアルキレンである)、および ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中、Rは前述したとおりであり、R_3は低級アル
キルまたは低級アルコキシであり、そしてR_4は1〜
5個の炭素原子のカルボアルコキシまたは ▲数式、化学式、表等があります▼ である)、または ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) 〔式中、Rは前述したとおりであり、そしてR_5は1
〜5個の炭素原子のカルボアルコキシ、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_6は水素またはRであり、そしてR_7は
Rまたは1〜5個の炭素原子のカルボアルコキシである
かあるいはまたR_6およびR_7は一緒になつて4〜
8個の炭素原子のアルキレンまたはオキシジアルキレン
であつて、窒素と共に複素環を形成する)の置換カルバ
モイルである〕で表される化合物。 2 Rが低級アルキル、シクロヘキシル、ベンジルまた
はフェニル、R_1が低級アルキル、フエニルまたはア
ニリノでありそしてR_2がフェニルである式(V)の
化合物である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3 R_1がメチルである特許請求の範囲第2項記載の
化合物。 4 R_1がフェニルである特許請求の範囲第2項記載
の化合物。 5 R_1がアニリノである特許請求の範囲第2項記載
の化合物。 6 Rがイソプロピルである特許請求の範囲第3項記載
の化合物。 7 Rがフェニルである特許請求の範囲第3項記載の化
合物。 8 Rがイソプロピルである特許請求の範囲第4項記載
の化合物。 9 Rがフエニルである特許請求の範囲第4項記載の化
合物。 10 Rが低級アルキル、シクロヘキシル、ベンジルま
たはフェニルであり、そしてXがo−フェニレンである
式(VI)の化合物である特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 11 Rが低級アルキル、シクロヘキシル、ベンジルま
たはフェニルであり、そしてR_3およびR_4がそれ
ぞれメトキシまたはエトキシである式(VII)の化合物
である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 12 Rが低級アルキル、シクロヘキシル、ベンジルま
たはフェニルであり、そしてR_5がカルボアルコキシ
である式(VIII)の化合物である特許請求の範囲第1項
記載の化合物。 13 Rが低級アルキル、シクロヘキシル、ベンジルま
たはフェニルであり、そしてR_5が置換カルバモイル
(R_6は水素であり、そしてR_7はフエニルまたは
カルボアルコキシである)である特許請求の範囲第12
項記載の化合物。
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-
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