JPH01257138A - シリカ系ガラスの製造方法 - Google Patents

シリカ系ガラスの製造方法

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JPH01257138A
JPH01257138A JP8411488A JP8411488A JPH01257138A JP H01257138 A JPH01257138 A JP H01257138A JP 8411488 A JP8411488 A JP 8411488A JP 8411488 A JP8411488 A JP 8411488A JP H01257138 A JPH01257138 A JP H01257138A
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JP
Japan
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gel
silica
based glass
silicon alkoxide
silicon
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Pending
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JP8411488A
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English (en)
Inventor
Makoto Hori
誠 堀
Takeshi Fujiyama
毅 藤山
Kiyoshi Nagano
永野 清
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KOROIDO RES KK
Original Assignee
KOROIDO RES KK
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • C03C1/006Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、光フアイバー母材、フォトマスク、光学ガラ
ス等の用途に用いられる高純度、高均質性の大型シリカ
系ガラスを安価に提供することができるシリカ系ガラス
の製造方法に関するものである。
(従来の技術) シリコンアルコキシドの加水分解、縮重合反応により得
られた湿潤ゲルを乾燥し、これを焼成することにより高
純度のシリカ系ガラスを製造する試みは多く行われてい
る。(例えば特開昭61−106428号、特開昭55
−167143号”Better Ceramics 
Though Chemistry’Vol、32.P
47〜58)。中でも、特開昭61−106428号は
、金属アルコキシドを溶媒で希釈し、アンモニアを含む
水を添加して加水分解してゾル溶液を生成さ゛ せた後
、前記溶液を熟成させ、次いで前記熟成した溶液をゲル
化させた後乾燥して多孔質ゲル体を形成させ、この多孔
質ゲル体を高温処理し、透明ガラス化するガラスの′!
A造方決方法る。このようなゾル及びゲルを経由してガ
ラスなどを得る方法は、ゾルゲル方と称され、従来の溶
融法に比べ高品質(高純度、高均質性)のガラスが得ら
れ、かつ従来の光フアイバー母材の製造に用いられてい
る気相法で作製される高純度シリカ系ガラスよりも安価
に製造できる利点を有している。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、ゾル・ゲル法によるシリカ系ガラスの!!造に
おいては、以下に挙げるような問題点があった。
■ 湿潤ゲルの乾燥時、溶媒の蒸発と共にクラック、割
れが発生する。
■ ゲルを加熱し、ガラス化する過程で残存有機成分の
バーンアウト時にクラック、割れが発生し、かつ残存○
H基に起因する発泡現象が発生する。
これらの問題は、先に述べた高純度のシリカ系ガラスの
製造方法に於いては完全に解決されているものとは言い
難く、このため得られるガラスの大きさ及び製造工程の
短縮化という点で限界がある。本発明はこれらの問題点
を解決し、大型で、クラック、割れがない高品質のシリ
カ系ガラスを提供しようとするものである。
(問題点を解決するだめの手段) 本発明は、前述の問題点を解決するために研究を行い、
出発原料としてシリコンアルコキシドの多量体を含むシ
リカ系ガラス組成物前駆体を利用することにより、大型
の易焼結性の乾燥ゲルがクラック割れの発生することな
く得られることを見出した。更にこの乾燥ゲルを焼結す
ることにより大型でクラック、割れがない高純度のシリ
カ系ガラスが得られことを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、ゾル・ゲル法でシリカ系ガラスを
製造するに当り、主たる出発原料のシリコンアルコキシ
ドとして数分子ないし数十分子重合した多量体を用い、
これを含むシリカ系ガラス組成物前駆体を加水分解、縮
重合させることにより、乾燥、焼成時にクラック、割れ
、発泡等の問題がなく、また○H基等の不純物の残存し
にくい構造を有するゲルを得、これを加熱焼成してシリ
カ系ガラスを得るものである。
使用するシリコンアルコキシド多量体は、シリコンアル
コキシド全量に対し30モル%以上においてその効果が
認められ、これ以下であると効果が少ない。特に使用す
るシリコンアルコキシドの全てが3〜50量体の多量体
のみで構成される場合、より好ましい効果が得られる。
シリカ系ガラス組成物前駆体としては、シリコンアルコ
キシドを含む外に加水分解しうるシリコンの有機金属化
合物や無機化合物を含んでいてもよく、他にシリコン以
外の金属のアルコキシド及び有機、無機化合物を一部含
んでいてもよい。このシリカ系ガラス組成物前駆体は、
加水分解後ゾル、さらにはゲルを生成し、それを焼成し
主としてシリカからなるガラス維酸物を製造しうる原料
ならば何でもよい。
その製造にさいしては、シリコンアルコキシドの加水分
解、縮重合反応の触媒として通常塩基が用いられ、なか
でもアミン、より好ましくは環状第2アミンを使用する
ことにより、強固で均一なゲルネットワークの形成が効
果的に行われ、乾燥、焼成に有利な構造のゲルを得るこ
とができる。
触媒として使用するアミンは、例えばメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエ
チルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ブチ
ルアミン、tert−ブチルアミン、シクロヘキシルア
ミン、ベンジルアミン、アニリン、ジフェニルアミン、
トリフェニルアミン、エタノールアミン、ジェタノール
アミン、トリエタノールアミン、N、N−ジメチルシク
ロヘキシルアミン、N−エチルアニリンが挙げられ、環
状第2アミンとしては、例えばエチレンジイミド、ピロ
リジン、ピペリジン、ピペラジンが挙げられる。
シリコンアルコキシドを加水分解、重縮合する反応は常
温ないし加温下に行うことができる。また、そこで得ら
れたゲルを乾燥後焼成するさいの温度は900〜140
0℃で行うことができる。
(作用) 本発明の特徴は、ゾル・ゲル法でシリカ系ガラスを製造
するに当り、主たる出発原料のシリコンメトキシドとし
て予め数分子ないし数十分子重合した多量体を用い、こ
れを好ましくはアミン、より好ましくは環状第2アミン
の存在下に加水分解、重縮合反応させることにより、孔
径の揃った、比較的大きな気孔を有する強固な湿潤ゲル
が得られる点である。
その結果、気孔径の大きいことに起因して、乾燥過程で
ゲル中の気孔からの残存液分の蒸発による毛細管応力が
軽減され、気孔の孔径が揃っていることに起因して、応
力の分布が一様となり、クラック、割れの発生が抑制さ
れる。
即ち、本発明は、モノマーアルコキシドを出発原料とし
た場合に比して以下の有利な点を有すると考えられる。
■ 単位アルコキシドが多量体で、モノマーに比べ分子
径が大きいため強固な太いゲルネットワークが形成され
る。同様に気孔径も太きくなり、時に、多量体の分子量
分布が狭い場合はネットワークの太さ、気孔径の大きさ
が状第2アミンを用いることにより上記の作用がより促
進される。
(実施例) 以下実施例により本発明の詳細な説明する。ただし本発
明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
実施例1 ンリコンエトキシドの4〜6塁体、平均5世体43gに
対し、エタノール40g1水12g、ピペリジン0.5
gを加え、常温で攪拌、反応させてゲル化させた後、6
0℃で一日熟成した。これを60〜80℃の温度で段階
的に乾燥した後150℃に加熱してクラックのない乾燥
ゲルを得た。
この乾燥ゲルのBET法による細孔半径のピークは80
人と比較的大きな値を示した。
また、細孔半径のピークは非常に鋭く、孔径の大きさが
揃っている。このゲルを1050℃で5時間焼成するこ
とにより、比重2.22の緻密なシリカゲルを得た。
実施例2 シリコンメトキシドモノマー65gにエタノール20g
1水4.5g(シリコンメトキシドの0゜8倍モル)及
び少量の塩酸を加え、80℃還流下で反応させた後、エ
タノールを揮発させて平均7量体と推定させるシリコン
エトキシド多量体のエタノール溶液を得た。この溶液に
13gの水と適量のエタノールを加え、更にピロリジン
を0.5g加え、常温で反応させてゲル化させた。これ
を60℃で1日熟成し、段階的に乾燥して最終的に15
0℃として乾燥ゲルを得た。これを1030℃で5時間
焼成することにより透明なシリカガラスを得た。
実施例3 シリコンエトキシド平均5量体50gに対し、エタノー
ル120 g、亜リン酸トリエチル(P(OC2H5)
 s )を111g、水12g1ヒペリジン1gを常温
で攪拌、反応させ60℃で1日熟成してゲル化させ、こ
れを60〜80℃で段階的に乾燥し、その後150℃で
加熱してクラックのない乾燥ゲルとした。これを100
0℃で5時間焼成して5i0250モル%P20.系均
−ガラスを得た。
実施例4 シリコンメトキシド平均5量体50gに対し、メタノー
ル40g1硝酸ネオジウム6水和物を3゜8g、水を1
6g1キノリンを0.8gを加え、常温で反応させ、6
0℃で熟成してゲルを得た。
このゲルを60〜150℃で段階的に乾燥し、ドライゲ
ルとした後、1050℃で5時間焼成し、5in2−N
d2L 系−ガラスを得た。
比較例1 シリコンメトキシドモノマー(Si(OCHs)<) 
 50gにメタノール50g1アンモニアでpHを10
゜5に調整した水を24g加え、攪拌、反応させた後、
60℃で1日熟成し、湿潤ゲルを得た。これを60〜8
0℃で段階的に乾燥したが、クラックが生じ、最終的に
は割れた。この対策として出発湿潤ゲルのサイズを小さ
くし、十分時間をかけて乾燥した結果、細孔半径10〜
20人程度の緻密な乾燥ゲルを得た。これを1000℃
で焼成すると数片に割れ、白い発泡体となった。
〈発明の効果) 本発明によれば、他のシリカ系ガラスの製造方法に比べ
以下の利点を有する。
■ ゲルの乾燥時、またその焼成時にクラック、割れが
入ることがないので大型のシリカ系ガラス製品が得られ
る。
■ 2000℃の高温を要する溶融法に比し、900〜
1400℃という低温で製造することができるので、省
エネルギーが達成され、それでいて高純度、高均質とい
う高品質の製品が得られる。
■ 光りファイバー母材のように、気相で製造されるガ
ラスに比べて、原料コストが安く、収率が良い。また、
工程も簡便で、同等の品質の製品を安価に得ることがで
きる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)シリコンアルコキシドを含むシリカ系ガラス組成
    物前駆体を塩基触媒下で加水分解、 縮重合を生じせしめゲルとし、これを加熱してシリカ系
    ガラスを得る方法に於いて、使用するシリコンアルコキ
    シドが予め重合した多量体をその全量に対し30モル%
    以上含むことを特徴とするシリカ系ガラスの製造方法。
  2. (2)使用するシリコンアルコキシドが3〜50の重合
    度を有する多量体のみから成ることを特徴とする特許請
    求の範囲第(1)項記載のシリカ系ガラスの製造方法。
  3. (3)塩基触媒としてアミンを用いることを特徴とする
    特許請求の範囲第(1)項または第(2)項記載のシリ
    カ系ガラスの製造方法。
  4. (4)塩基触媒として環状第二アミンを用いることを特
    徴とする特許請求の範囲第(3)項記載のシリカ系ガラ
    スの製造方法。
JP8411488A 1988-04-07 1988-04-07 シリカ系ガラスの製造方法 Pending JPH01257138A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62265129A (ja) * 1986-05-14 1987-11-18 Hitachi Chem Co Ltd シリカガラスの製造方法
JPS6369724A (ja) * 1986-09-08 1988-03-29 Seiko Epson Corp ガラスの製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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