JPH01257138A - シリカ系ガラスの製造方法 - Google Patents
シリカ系ガラスの製造方法Info
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- JPH01257138A JPH01257138A JP8411488A JP8411488A JPH01257138A JP H01257138 A JPH01257138 A JP H01257138A JP 8411488 A JP8411488 A JP 8411488A JP 8411488 A JP8411488 A JP 8411488A JP H01257138 A JPH01257138 A JP H01257138A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、光フアイバー母材、フォトマスク、光学ガラ
ス等の用途に用いられる高純度、高均質性の大型シリカ
系ガラスを安価に提供することができるシリカ系ガラス
の製造方法に関するものである。
ス等の用途に用いられる高純度、高均質性の大型シリカ
系ガラスを安価に提供することができるシリカ系ガラス
の製造方法に関するものである。
(従来の技術)
シリコンアルコキシドの加水分解、縮重合反応により得
られた湿潤ゲルを乾燥し、これを焼成することにより高
純度のシリカ系ガラスを製造する試みは多く行われてい
る。(例えば特開昭61−106428号、特開昭55
−167143号”Better Ceramics
Though Chemistry’Vol、32.P
47〜58)。中でも、特開昭61−106428号は
、金属アルコキシドを溶媒で希釈し、アンモニアを含む
水を添加して加水分解してゾル溶液を生成さ゛ せた後
、前記溶液を熟成させ、次いで前記熟成した溶液をゲル
化させた後乾燥して多孔質ゲル体を形成させ、この多孔
質ゲル体を高温処理し、透明ガラス化するガラスの′!
A造方決方法る。このようなゾル及びゲルを経由してガ
ラスなどを得る方法は、ゾルゲル方と称され、従来の溶
融法に比べ高品質(高純度、高均質性)のガラスが得ら
れ、かつ従来の光フアイバー母材の製造に用いられてい
る気相法で作製される高純度シリカ系ガラスよりも安価
に製造できる利点を有している。
られた湿潤ゲルを乾燥し、これを焼成することにより高
純度のシリカ系ガラスを製造する試みは多く行われてい
る。(例えば特開昭61−106428号、特開昭55
−167143号”Better Ceramics
Though Chemistry’Vol、32.P
47〜58)。中でも、特開昭61−106428号は
、金属アルコキシドを溶媒で希釈し、アンモニアを含む
水を添加して加水分解してゾル溶液を生成さ゛ せた後
、前記溶液を熟成させ、次いで前記熟成した溶液をゲル
化させた後乾燥して多孔質ゲル体を形成させ、この多孔
質ゲル体を高温処理し、透明ガラス化するガラスの′!
A造方決方法る。このようなゾル及びゲルを経由してガ
ラスなどを得る方法は、ゾルゲル方と称され、従来の溶
融法に比べ高品質(高純度、高均質性)のガラスが得ら
れ、かつ従来の光フアイバー母材の製造に用いられてい
る気相法で作製される高純度シリカ系ガラスよりも安価
に製造できる利点を有している。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、ゾル・ゲル法によるシリカ系ガラスの!!造に
おいては、以下に挙げるような問題点があった。
おいては、以下に挙げるような問題点があった。
■ 湿潤ゲルの乾燥時、溶媒の蒸発と共にクラック、割
れが発生する。
れが発生する。
■ ゲルを加熱し、ガラス化する過程で残存有機成分の
バーンアウト時にクラック、割れが発生し、かつ残存○
H基に起因する発泡現象が発生する。
バーンアウト時にクラック、割れが発生し、かつ残存○
H基に起因する発泡現象が発生する。
これらの問題は、先に述べた高純度のシリカ系ガラスの
製造方法に於いては完全に解決されているものとは言い
難く、このため得られるガラスの大きさ及び製造工程の
短縮化という点で限界がある。本発明はこれらの問題点
を解決し、大型で、クラック、割れがない高品質のシリ
カ系ガラスを提供しようとするものである。
製造方法に於いては完全に解決されているものとは言い
難く、このため得られるガラスの大きさ及び製造工程の
短縮化という点で限界がある。本発明はこれらの問題点
を解決し、大型で、クラック、割れがない高品質のシリ
カ系ガラスを提供しようとするものである。
(問題点を解決するだめの手段)
本発明は、前述の問題点を解決するために研究を行い、
出発原料としてシリコンアルコキシドの多量体を含むシ
リカ系ガラス組成物前駆体を利用することにより、大型
の易焼結性の乾燥ゲルがクラック割れの発生することな
く得られることを見出した。更にこの乾燥ゲルを焼結す
ることにより大型でクラック、割れがない高純度のシリ
カ系ガラスが得られことを見出し、本発明を完成した。
出発原料としてシリコンアルコキシドの多量体を含むシ
リカ系ガラス組成物前駆体を利用することにより、大型
の易焼結性の乾燥ゲルがクラック割れの発生することな
く得られることを見出した。更にこの乾燥ゲルを焼結す
ることにより大型でクラック、割れがない高純度のシリ
カ系ガラスが得られことを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、ゾル・ゲル法でシリカ系ガラスを
製造するに当り、主たる出発原料のシリコンアルコキシ
ドとして数分子ないし数十分子重合した多量体を用い、
これを含むシリカ系ガラス組成物前駆体を加水分解、縮
重合させることにより、乾燥、焼成時にクラック、割れ
、発泡等の問題がなく、また○H基等の不純物の残存し
にくい構造を有するゲルを得、これを加熱焼成してシリ
カ系ガラスを得るものである。
製造するに当り、主たる出発原料のシリコンアルコキシ
ドとして数分子ないし数十分子重合した多量体を用い、
これを含むシリカ系ガラス組成物前駆体を加水分解、縮
重合させることにより、乾燥、焼成時にクラック、割れ
、発泡等の問題がなく、また○H基等の不純物の残存し
にくい構造を有するゲルを得、これを加熱焼成してシリ
カ系ガラスを得るものである。
使用するシリコンアルコキシド多量体は、シリコンアル
コキシド全量に対し30モル%以上においてその効果が
認められ、これ以下であると効果が少ない。特に使用す
るシリコンアルコキシドの全てが3〜50量体の多量体
のみで構成される場合、より好ましい効果が得られる。
コキシド全量に対し30モル%以上においてその効果が
認められ、これ以下であると効果が少ない。特に使用す
るシリコンアルコキシドの全てが3〜50量体の多量体
のみで構成される場合、より好ましい効果が得られる。
シリカ系ガラス組成物前駆体としては、シリコンアルコ
キシドを含む外に加水分解しうるシリコンの有機金属化
合物や無機化合物を含んでいてもよく、他にシリコン以
外の金属のアルコキシド及び有機、無機化合物を一部含
んでいてもよい。このシリカ系ガラス組成物前駆体は、
加水分解後ゾル、さらにはゲルを生成し、それを焼成し
主としてシリカからなるガラス維酸物を製造しうる原料
ならば何でもよい。
キシドを含む外に加水分解しうるシリコンの有機金属化
合物や無機化合物を含んでいてもよく、他にシリコン以
外の金属のアルコキシド及び有機、無機化合物を一部含
んでいてもよい。このシリカ系ガラス組成物前駆体は、
加水分解後ゾル、さらにはゲルを生成し、それを焼成し
主としてシリカからなるガラス維酸物を製造しうる原料
ならば何でもよい。
その製造にさいしては、シリコンアルコキシドの加水分
解、縮重合反応の触媒として通常塩基が用いられ、なか
でもアミン、より好ましくは環状第2アミンを使用する
ことにより、強固で均一なゲルネットワークの形成が効
果的に行われ、乾燥、焼成に有利な構造のゲルを得るこ
とができる。
解、縮重合反応の触媒として通常塩基が用いられ、なか
でもアミン、より好ましくは環状第2アミンを使用する
ことにより、強固で均一なゲルネットワークの形成が効
果的に行われ、乾燥、焼成に有利な構造のゲルを得るこ
とができる。
触媒として使用するアミンは、例えばメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエ
チルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ブチ
ルアミン、tert−ブチルアミン、シクロヘキシルア
ミン、ベンジルアミン、アニリン、ジフェニルアミン、
トリフェニルアミン、エタノールアミン、ジェタノール
アミン、トリエタノールアミン、N、N−ジメチルシク
ロヘキシルアミン、N−エチルアニリンが挙げられ、環
状第2アミンとしては、例えばエチレンジイミド、ピロ
リジン、ピペリジン、ピペラジンが挙げられる。
メチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエ
チルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ブチ
ルアミン、tert−ブチルアミン、シクロヘキシルア
ミン、ベンジルアミン、アニリン、ジフェニルアミン、
トリフェニルアミン、エタノールアミン、ジェタノール
アミン、トリエタノールアミン、N、N−ジメチルシク
ロヘキシルアミン、N−エチルアニリンが挙げられ、環
状第2アミンとしては、例えばエチレンジイミド、ピロ
リジン、ピペリジン、ピペラジンが挙げられる。
シリコンアルコキシドを加水分解、重縮合する反応は常
温ないし加温下に行うことができる。また、そこで得ら
れたゲルを乾燥後焼成するさいの温度は900〜140
0℃で行うことができる。
温ないし加温下に行うことができる。また、そこで得ら
れたゲルを乾燥後焼成するさいの温度は900〜140
0℃で行うことができる。
(作用)
本発明の特徴は、ゾル・ゲル法でシリカ系ガラスを製造
するに当り、主たる出発原料のシリコンメトキシドとし
て予め数分子ないし数十分子重合した多量体を用い、こ
れを好ましくはアミン、より好ましくは環状第2アミン
の存在下に加水分解、重縮合反応させることにより、孔
径の揃った、比較的大きな気孔を有する強固な湿潤ゲル
が得られる点である。
するに当り、主たる出発原料のシリコンメトキシドとし
て予め数分子ないし数十分子重合した多量体を用い、こ
れを好ましくはアミン、より好ましくは環状第2アミン
の存在下に加水分解、重縮合反応させることにより、孔
径の揃った、比較的大きな気孔を有する強固な湿潤ゲル
が得られる点である。
その結果、気孔径の大きいことに起因して、乾燥過程で
ゲル中の気孔からの残存液分の蒸発による毛細管応力が
軽減され、気孔の孔径が揃っていることに起因して、応
力の分布が一様となり、クラック、割れの発生が抑制さ
れる。
ゲル中の気孔からの残存液分の蒸発による毛細管応力が
軽減され、気孔の孔径が揃っていることに起因して、応
力の分布が一様となり、クラック、割れの発生が抑制さ
れる。
即ち、本発明は、モノマーアルコキシドを出発原料とし
た場合に比して以下の有利な点を有すると考えられる。
た場合に比して以下の有利な点を有すると考えられる。
■ 単位アルコキシドが多量体で、モノマーに比べ分子
径が大きいため強固な太いゲルネットワークが形成され
る。同様に気孔径も太きくなり、時に、多量体の分子量
分布が狭い場合はネットワークの太さ、気孔径の大きさ
が状第2アミンを用いることにより上記の作用がより促
進される。
径が大きいため強固な太いゲルネットワークが形成され
る。同様に気孔径も太きくなり、時に、多量体の分子量
分布が狭い場合はネットワークの太さ、気孔径の大きさ
が状第2アミンを用いることにより上記の作用がより促
進される。
(実施例)
以下実施例により本発明の詳細な説明する。ただし本発
明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
実施例1
ンリコンエトキシドの4〜6塁体、平均5世体43gに
対し、エタノール40g1水12g、ピペリジン0.5
gを加え、常温で攪拌、反応させてゲル化させた後、6
0℃で一日熟成した。これを60〜80℃の温度で段階
的に乾燥した後150℃に加熱してクラックのない乾燥
ゲルを得た。
対し、エタノール40g1水12g、ピペリジン0.5
gを加え、常温で攪拌、反応させてゲル化させた後、6
0℃で一日熟成した。これを60〜80℃の温度で段階
的に乾燥した後150℃に加熱してクラックのない乾燥
ゲルを得た。
この乾燥ゲルのBET法による細孔半径のピークは80
人と比較的大きな値を示した。
人と比較的大きな値を示した。
また、細孔半径のピークは非常に鋭く、孔径の大きさが
揃っている。このゲルを1050℃で5時間焼成するこ
とにより、比重2.22の緻密なシリカゲルを得た。
揃っている。このゲルを1050℃で5時間焼成するこ
とにより、比重2.22の緻密なシリカゲルを得た。
実施例2
シリコンメトキシドモノマー65gにエタノール20g
1水4.5g(シリコンメトキシドの0゜8倍モル)及
び少量の塩酸を加え、80℃還流下で反応させた後、エ
タノールを揮発させて平均7量体と推定させるシリコン
エトキシド多量体のエタノール溶液を得た。この溶液に
13gの水と適量のエタノールを加え、更にピロリジン
を0.5g加え、常温で反応させてゲル化させた。これ
を60℃で1日熟成し、段階的に乾燥して最終的に15
0℃として乾燥ゲルを得た。これを1030℃で5時間
焼成することにより透明なシリカガラスを得た。
1水4.5g(シリコンメトキシドの0゜8倍モル)及
び少量の塩酸を加え、80℃還流下で反応させた後、エ
タノールを揮発させて平均7量体と推定させるシリコン
エトキシド多量体のエタノール溶液を得た。この溶液に
13gの水と適量のエタノールを加え、更にピロリジン
を0.5g加え、常温で反応させてゲル化させた。これ
を60℃で1日熟成し、段階的に乾燥して最終的に15
0℃として乾燥ゲルを得た。これを1030℃で5時間
焼成することにより透明なシリカガラスを得た。
実施例3
シリコンエトキシド平均5量体50gに対し、エタノー
ル120 g、亜リン酸トリエチル(P(OC2H5)
s )を111g、水12g1ヒペリジン1gを常温
で攪拌、反応させ60℃で1日熟成してゲル化させ、こ
れを60〜80℃で段階的に乾燥し、その後150℃で
加熱してクラックのない乾燥ゲルとした。これを100
0℃で5時間焼成して5i0250モル%P20.系均
−ガラスを得た。
ル120 g、亜リン酸トリエチル(P(OC2H5)
s )を111g、水12g1ヒペリジン1gを常温
で攪拌、反応させ60℃で1日熟成してゲル化させ、こ
れを60〜80℃で段階的に乾燥し、その後150℃で
加熱してクラックのない乾燥ゲルとした。これを100
0℃で5時間焼成して5i0250モル%P20.系均
−ガラスを得た。
実施例4
シリコンメトキシド平均5量体50gに対し、メタノー
ル40g1硝酸ネオジウム6水和物を3゜8g、水を1
6g1キノリンを0.8gを加え、常温で反応させ、6
0℃で熟成してゲルを得た。
ル40g1硝酸ネオジウム6水和物を3゜8g、水を1
6g1キノリンを0.8gを加え、常温で反応させ、6
0℃で熟成してゲルを得た。
このゲルを60〜150℃で段階的に乾燥し、ドライゲ
ルとした後、1050℃で5時間焼成し、5in2−N
d2L 系−ガラスを得た。
ルとした後、1050℃で5時間焼成し、5in2−N
d2L 系−ガラスを得た。
比較例1
シリコンメトキシドモノマー(Si(OCHs)<)
50gにメタノール50g1アンモニアでpHを10
゜5に調整した水を24g加え、攪拌、反応させた後、
60℃で1日熟成し、湿潤ゲルを得た。これを60〜8
0℃で段階的に乾燥したが、クラックが生じ、最終的に
は割れた。この対策として出発湿潤ゲルのサイズを小さ
くし、十分時間をかけて乾燥した結果、細孔半径10〜
20人程度の緻密な乾燥ゲルを得た。これを1000℃
で焼成すると数片に割れ、白い発泡体となった。
50gにメタノール50g1アンモニアでpHを10
゜5に調整した水を24g加え、攪拌、反応させた後、
60℃で1日熟成し、湿潤ゲルを得た。これを60〜8
0℃で段階的に乾燥したが、クラックが生じ、最終的に
は割れた。この対策として出発湿潤ゲルのサイズを小さ
くし、十分時間をかけて乾燥した結果、細孔半径10〜
20人程度の緻密な乾燥ゲルを得た。これを1000℃
で焼成すると数片に割れ、白い発泡体となった。
〈発明の効果)
本発明によれば、他のシリカ系ガラスの製造方法に比べ
以下の利点を有する。
以下の利点を有する。
■ ゲルの乾燥時、またその焼成時にクラック、割れが
入ることがないので大型のシリカ系ガラス製品が得られ
る。
入ることがないので大型のシリカ系ガラス製品が得られ
る。
■ 2000℃の高温を要する溶融法に比し、900〜
1400℃という低温で製造することができるので、省
エネルギーが達成され、それでいて高純度、高均質とい
う高品質の製品が得られる。
1400℃という低温で製造することができるので、省
エネルギーが達成され、それでいて高純度、高均質とい
う高品質の製品が得られる。
■ 光りファイバー母材のように、気相で製造されるガ
ラスに比べて、原料コストが安く、収率が良い。また、
工程も簡便で、同等の品質の製品を安価に得ることがで
きる。
ラスに比べて、原料コストが安く、収率が良い。また、
工程も簡便で、同等の品質の製品を安価に得ることがで
きる。
Claims (4)
- (1)シリコンアルコキシドを含むシリカ系ガラス組成
物前駆体を塩基触媒下で加水分解、 縮重合を生じせしめゲルとし、これを加熱してシリカ系
ガラスを得る方法に於いて、使用するシリコンアルコキ
シドが予め重合した多量体をその全量に対し30モル%
以上含むことを特徴とするシリカ系ガラスの製造方法。 - (2)使用するシリコンアルコキシドが3〜50の重合
度を有する多量体のみから成ることを特徴とする特許請
求の範囲第(1)項記載のシリカ系ガラスの製造方法。 - (3)塩基触媒としてアミンを用いることを特徴とする
特許請求の範囲第(1)項または第(2)項記載のシリ
カ系ガラスの製造方法。 - (4)塩基触媒として環状第二アミンを用いることを特
徴とする特許請求の範囲第(3)項記載のシリカ系ガラ
スの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8411488A JPH01257138A (ja) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | シリカ系ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8411488A JPH01257138A (ja) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | シリカ系ガラスの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01257138A true JPH01257138A (ja) | 1989-10-13 |
Family
ID=13821494
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8411488A Pending JPH01257138A (ja) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | シリカ系ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01257138A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62265129A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-18 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカガラスの製造方法 |
JPS6369724A (ja) * | 1986-09-08 | 1988-03-29 | Seiko Epson Corp | ガラスの製造方法 |
-
1988
- 1988-04-07 JP JP8411488A patent/JPH01257138A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62265129A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-18 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカガラスの製造方法 |
JPS6369724A (ja) * | 1986-09-08 | 1988-03-29 | Seiko Epson Corp | ガラスの製造方法 |
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