JPH01255563A - 印字装置 - Google Patents
印字装置Info
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- JPH01255563A JPH01255563A JP8372688A JP8372688A JPH01255563A JP H01255563 A JPH01255563 A JP H01255563A JP 8372688 A JP8372688 A JP 8372688A JP 8372688 A JP8372688 A JP 8372688A JP H01255563 A JPH01255563 A JP H01255563A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/335—Structure of thermal heads
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は通電熱転写記録方式を用いた印写装置に関し、
特に記録ヘッドの構造に関する。
特に記録ヘッドの構造に関する。
(従来の技術)
従来の通電熱転写記録方式を用いた印写装置としては「
印写装置」 (特願昭58−186496号)があった
。この発明により、1記録素子による印写ドツトの面積
変調が、又、構造の簡単なライン記録ヘッドが可能とな
り、高速、高画質かつ低価格のフルカラー印写装置が実
現された。又、「印写装置」 (特願昭6O−2348
41)では、記録ヘッドの研磨機構を設け、印写装置の
耐久性を向上させた。
印写装置」 (特願昭58−186496号)があった
。この発明により、1記録素子による印写ドツトの面積
変調が、又、構造の簡単なライン記録ヘッドが可能とな
り、高速、高画質かつ低価格のフルカラー印写装置が実
現された。又、「印写装置」 (特願昭6O−2348
41)では、記録ヘッドの研磨機構を設け、印写装置の
耐久性を向上させた。
(発明が解決しようとする課題)
しかし、従来の記録ヘッドは、アルミナを主成分とした
セラミック基板にNi−CrおよびCuを蒸着し、フォ
トエツチングにより電極を形成し、この電極上にN;、
−w−pの無電界メツキを施して電極が形成されていた
。又、フオルステライト上にWなどを厚膜印刷で電極を
形成し、この電極上にN1−W−Pの無電解メツキを施
して電極を形成しているものもあった。どちらの場合で
も、電極及び電極近傍の基板は抵抗層との機械的摺動に
起因する摩耗により第4図のイに示すような領域が削れ
てしまう。又電極部はそれに加え、放電による摩耗も存
在する。そこで第4図の口に示す領域を定期的に削り取
り、抵抗層と接触する電極部を初期状態に戻す必要があ
る。
セラミック基板にNi−CrおよびCuを蒸着し、フォ
トエツチングにより電極を形成し、この電極上にN;、
−w−pの無電界メツキを施して電極が形成されていた
。又、フオルステライト上にWなどを厚膜印刷で電極を
形成し、この電極上にN1−W−Pの無電解メツキを施
して電極を形成しているものもあった。どちらの場合で
も、電極及び電極近傍の基板は抵抗層との機械的摺動に
起因する摩耗により第4図のイに示すような領域が削れ
てしまう。又電極部はそれに加え、放電による摩耗も存
在する。そこで第4図の口に示す領域を定期的に削り取
り、抵抗層と接触する電極部を初期状態に戻す必要があ
る。
ところが、初期状態に戻す場合、第4図の口の領域を研
磨しなければならない。はじめは第4図の口・1の領域
の研磨で良くても次は口・2の領域を研磨する必要があ
る。十分な耐久性を確保するためには、例えば、1万枚
の印画耐久性を確保しなければならないとすると、1万
枚印画後に電極が初期状態に戻る量を想定して研磨量を
決定しなければならない。
磨しなければならない。はじめは第4図の口・1の領域
の研磨で良くても次は口・2の領域を研磨する必要があ
る。十分な耐久性を確保するためには、例えば、1万枚
の印画耐久性を確保しなければならないとすると、1万
枚印画後に電極が初期状態に戻る量を想定して研磨量を
決定しなければならない。
研磨にはラッピングフィルムを用いているが、研磨量が
多いとラッピングフィルムを多く用いなければならずラ
ンニングコストの上昇をまねく。
多いとラッピングフィルムを多く用いなければならずラ
ンニングコストの上昇をまねく。
研磨性を良くするために粗いラッピングフィルムを用い
ると、電極面が荒れ画質劣化をまねく。
ると、電極面が荒れ画質劣化をまねく。
また、リフレッシュ時の研磨性を良くする為に、ベース
基板を電極よりかなり柔らかくしてしまうと第4図のイ
の領域の摩耗量が多くなり、口の領域の研磨量も増やさ
なければならない。
基板を電極よりかなり柔らかくしてしまうと第4図のイ
の領域の摩耗量が多くなり、口の領域の研磨量も増やさ
なければならない。
そこで本発明は上記のような課題を解決するもので、そ
の目的とするところは通電熱転写記録方式の記録ヘッド
の電極部のリフレッシュを画質の劣化をまねかずに低コ
ストで実現し、これにより耐久性の良い低ランニングコ
ストの高画質フルカラー印写装置を提供することにある
。
の目的とするところは通電熱転写記録方式の記録ヘッド
の電極部のリフレッシュを画質の劣化をまねかずに低コ
ストで実現し、これにより耐久性の良い低ランニングコ
ストの高画質フルカラー印写装置を提供することにある
。
(課題を解決するための手段)
上記問題点を解決するために、本発明は印写装置に記録
電極と同等の硬度の薄い第1層とその第1層の1/2以
下の硬度で第1層より厚い第2層からなるベース基板を
用いた記録ヘッドを使用したものである。
電極と同等の硬度の薄い第1層とその第1層の1/2以
下の硬度で第1層より厚い第2層からなるベース基板を
用いた記録ヘッドを使用したものである。
(作用)
上記のように、抵抗層と接する電極近傍のベース基板が
他のケ所に比べ薄い記録ヘッドを使用すると、抵抗層と
の摺動による摩耗が少なくて良く、抵抗層との摺動によ
る又は放電による摩耗で先端が削られた場合に際し、基
板の研削性も良い為、リフレッシュ時のラッピングフィ
ルムの使用量が少なくて済み、その分ラッピングフィル
ムを短くすることができる為、画質劣化を招かずに、記
録ヘッドの耐久性を低ランニングコストで確保できる。
他のケ所に比べ薄い記録ヘッドを使用すると、抵抗層と
の摺動による摩耗が少なくて良く、抵抗層との摺動によ
る又は放電による摩耗で先端が削られた場合に際し、基
板の研削性も良い為、リフレッシュ時のラッピングフィ
ルムの使用量が少なくて済み、その分ラッピングフィル
ムを短くすることができる為、画質劣化を招かずに、記
録ヘッドの耐久性を低ランニングコストで確保できる。
(実施例)
以下、本発明に基づき、その1実施例について詳細に説
明する。第1図は本実施例の記録ヘッドの図面である。
明する。第1図は本実施例の記録ヘッドの図面である。
第1図(a)は全体を表わす平面図、第1図(b)は側
面図、第1図(C)はヘッド基板10の先端部(第1図
(b)に於て2点鎖線の円内)の拡大図である。20は
ICドライバー実装用のテープである。30はICドラ
イバーであり1個で60電極分のドライバーが設けられ
ている。40はデータライン、電源ラインを配したガラ
エボ基板である。50はデータライン、電源ラインを外
部接続するためのコネクタである。
面図、第1図(C)はヘッド基板10の先端部(第1図
(b)に於て2点鎖線の円内)の拡大図である。20は
ICドライバー実装用のテープである。30はICドラ
イバーであり1個で60電極分のドライバーが設けられ
ている。40はデータライン、電源ラインを配したガラ
エボ基板である。50はデータライン、電源ラインを外
部接続するためのコネクタである。
ICドライバー30はテープ20上にフェイスダウン方
式で実装されている。このICドライバーを実装したテ
ープはヘッド基板10とガラエボ基板40を繋いで実装
されている。又、50のコネクタはガラエボ基板40上
に接続されている。このようにして結合されたヘッド基
板10、ガラエボ基板40等はヘッド取り付は板60に
取り付けられ補強される。
式で実装されている。このICドライバーを実装したテ
ープはヘッド基板10とガラエボ基板40を繋いで実装
されている。又、50のコネクタはガラエボ基板40上
に接続されている。このようにして結合されたヘッド基
板10、ガラエボ基板40等はヘッド取り付は板60に
取り付けられ補強される。
ヘッド基板10は第1図の(C)に示すように、ベース
基板12と、その上に形成された記録電極11とからな
る。ベース基板12はマイカセラミック等の削れ易い無
機材質より構成されている厚い層12−2上にスパッタ
リング等の薄膜工程あるいは厚膜印刷等によりSiO2
を主成分とした薄い層12−1を形成しである。又、記
録電極11はベース基板12上にW、Cr等をスパッタ
リング等の薄膜工程を用いて形成しである。
基板12と、その上に形成された記録電極11とからな
る。ベース基板12はマイカセラミック等の削れ易い無
機材質より構成されている厚い層12−2上にスパッタ
リング等の薄膜工程あるいは厚膜印刷等によりSiO2
を主成分とした薄い層12−1を形成しである。又、記
録電極11はベース基板12上にW、Cr等をスパッタ
リング等の薄膜工程を用いて形成しである。
本実施例では薄く硬い層12−1は5〜10μmの厚み
がある。厚く柔らかい層12−2は約1mmの厚みがあ
る。また、記録電極はCrを主成分にしており、3〜5
μmの厚がある。
がある。厚く柔らかい層12−2は約1mmの厚みがあ
る。また、記録電極はCrを主成分にしており、3〜5
μmの厚がある。
この(l I C実装用のテープとの接続を行なうこと
により第1図に示すヘッドユニットが形成できる。
により第1図に示すヘッドユニットが形成できる。
また今回の第1図に示した記録ヘッドは480本の記録
電極を有し、その記録密度は6 do t/mmである
。
電極を有し、その記録密度は6 do t/mmである
。
次にこの記録ヘッドを用いた記録装置に付いて第2図を
用いて説明する。図中200はプラテンであり、ゴム硬
度30−40度である。300はインクフィルムであり
、301は抵抗層、302はペース層、303はインク
層である。400は記録電圧である。また500はリフ
レッシュシートであり、25μmのPET上に1μm径
のアルミナをコーティングしである。
用いて説明する。図中200はプラテンであり、ゴム硬
度30−40度である。300はインクフィルムであり
、301は抵抗層、302はペース層、303はインク
層である。400は記録電圧である。また500はリフ
レッシュシートであり、25μmのPET上に1μm径
のアルミナをコーティングしである。
第2図(a)は記録時の状態を示したものである。イン
クフィルム300と記録紙400をプラテン200上で
重ね、記録電極を抵抗層に接触させ、インクフィルムを
図中矢印Cの方向へ、記録紙を図中矢印りの方向へ搬送
しつつ、選択的に抵抗層に通電することにより、所望の
記録を得ることができる。
クフィルム300と記録紙400をプラテン200上で
重ね、記録電極を抵抗層に接触させ、インクフィルムを
図中矢印Cの方向へ、記録紙を図中矢印りの方向へ搬送
しつつ、選択的に抵抗層に通電することにより、所望の
記録を得ることができる。
第2図(b)は記録ヘッドのリフレッシュ時の状態を示
したものである。記録紙400とリフレッシュシート5
00とをプラテン200上で重ね、ヘッド基板10をリ
フレッシュシート500のアルミナ塗布面に押しつける
。この時図中矢印Eの方向にヘッド基板10は回転され
た状態で押圧されている。2点鎖線は記録時のヘッド基
板10の位置である。この状態でリフレッシュシート5
00と記録紙400とをそれぞれ矢印C,Dの方向へ搬
送することにより、ヘッド基板10は研磨されリフレッ
シュが完了する。
したものである。記録紙400とリフレッシュシート5
00とをプラテン200上で重ね、ヘッド基板10をリ
フレッシュシート500のアルミナ塗布面に押しつける
。この時図中矢印Eの方向にヘッド基板10は回転され
た状態で押圧されている。2点鎖線は記録時のヘッド基
板10の位置である。この状態でリフレッシュシート5
00と記録紙400とをそれぞれ矢印C,Dの方向へ搬
送することにより、ヘッド基板10は研磨されリフレッ
シュが完了する。
第3図は印画枚数とそのとき記録電極を初期状態に戻す
ための必要リフレッシュ量を示したグラフである。
が本実施例の場合、 が従来例の場合であり、約11
5のリフレッシュ量で同等の効果が得られることがわか
る。
ための必要リフレッシュ量を示したグラフである。
が本実施例の場合、 が従来例の場合であり、約11
5のリフレッシュ量で同等の効果が得られることがわか
る。
(発明の効果)
通電熱転写方式では記録電極と抵抗層が絶えず摺動する
為、記録電極の摩耗が起こる。この摩耗により画質劣下
が発生する為、記録電極及びその近傍のベース基板を研
磨することによりヘッド基板を初期状態に戻すことが必
要であった。この操作は定期的に行なわれる必要がある
が、この時使用するリフレッシュシートが非常に高価で
ある為に、【ノフレッシュ量が多くなればなる程、1枚
の印画に要するランニングコストの上昇を招くことにな
る。従来これに要していた費用は1枚40円のランニン
グコストの内8円を占めていた。本発明によれば約11
5のリフレッシュ量で同等の効果が得られる為、1枚あ
たり6円程度のランニングコストの低減が図れることに
なる。
為、記録電極の摩耗が起こる。この摩耗により画質劣下
が発生する為、記録電極及びその近傍のベース基板を研
磨することによりヘッド基板を初期状態に戻すことが必
要であった。この操作は定期的に行なわれる必要がある
が、この時使用するリフレッシュシートが非常に高価で
ある為に、【ノフレッシュ量が多くなればなる程、1枚
の印画に要するランニングコストの上昇を招くことにな
る。従来これに要していた費用は1枚40円のランニン
グコストの内8円を占めていた。本発明によれば約11
5のリフレッシュ量で同等の効果が得られる為、1枚あ
たり6円程度のランニングコストの低減が図れることに
なる。
また、同等の長さのリフレッシュシートを使用すれば、
より細かい研削材を使用することができる為、記録電極
の研磨面がきれいになり、ランニングコストの上昇を招
かずに画質の向上が図れる。
より細かい研削材を使用することができる為、記録電極
の研磨面がきれいになり、ランニングコストの上昇を招
かずに画質の向上が図れる。
さらに5102を主成分とする薄く硬い層を設けること
により、ベース基板の平滑性が向上し、フォトリソ工程
で記録電極を形成する際に、記録電極の形状精度も向上
し、ムラの無い高品質の印画が得られる。
により、ベース基板の平滑性が向上し、フォトリソ工程
で記録電極を形成する際に、記録電極の形状精度も向上
し、ムラの無い高品質の印画が得られる。
以上述べた通り本発明は通電熱転写記録方式の記録ヘッ
ドと、抵抗層との摺動による機械摩耗、あるいは放電摩
耗から生じる印画品質の劣下を防ぐ為のリフレッシュ量
を少なくできる為、ランニングコストの低減が図れるも
のである。また、同等のランニングコストであれば、よ
り高品質の印画を実現できるものである。さらに記録電
極の形状精度の良い記録ヘッドができる為、ムラの無い
高品質の印画を実現できるものである。
ドと、抵抗層との摺動による機械摩耗、あるいは放電摩
耗から生じる印画品質の劣下を防ぐ為のリフレッシュ量
を少なくできる為、ランニングコストの低減が図れるも
のである。また、同等のランニングコストであれば、よ
り高品質の印画を実現できるものである。さらに記録電
極の形状精度の良い記録ヘッドができる為、ムラの無い
高品質の印画を実現できるものである。
第1図(a)〜(clは、本発明の記録ヘッドの1実施
例を示す図である。 第2図(a l (b lは、本発明の記録及びリフレ
ッシュプロセスの1実施例を示す図である。 第3図は、印画枚数と必要リフレッシュ長さとの関係を
示したグラフである。 第4図は、従来の記録電極近傍のヘッド基板の変形状態
を示す図である。 10・・・・・ヘッド基板 11・・・・・記録電極 12・・・・・ベース基板 12−1・・・薄く硬い層 12−2・・・厚く柔らかい層 30・・・・・ICドライバー 200・・・・・プラテン 300・・・・・インクフィルム 301・・・・・抵抗層 400・・・・・記録紙 500・・・・・リフレッシュシート 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人弁理土鈴木喜三部(他1名) (C) 第1図 (bン 第2図 第3図
例を示す図である。 第2図(a l (b lは、本発明の記録及びリフレ
ッシュプロセスの1実施例を示す図である。 第3図は、印画枚数と必要リフレッシュ長さとの関係を
示したグラフである。 第4図は、従来の記録電極近傍のヘッド基板の変形状態
を示す図である。 10・・・・・ヘッド基板 11・・・・・記録電極 12・・・・・ベース基板 12−1・・・薄く硬い層 12−2・・・厚く柔らかい層 30・・・・・ICドライバー 200・・・・・プラテン 300・・・・・インクフィルム 301・・・・・抵抗層 400・・・・・記録紙 500・・・・・リフレッシュシート 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人弁理土鈴木喜三部(他1名) (C) 第1図 (bン 第2図 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)抵抗層と融解インク層を有するインクフィルムと、
複数の記録電極と前記記録電極を支持するベース基板を
有する記録ヘッドと、前記抵抗層に前記記録電極を接触
かつ相対走査させる機構と、前記抵抗層に前記記録電極
を介して電圧を印加し、前記抵抗層を発熱せしめる回路
とを設けた印写装置に於て、前記記録ヘッドの前記ベー
ス基板が前期記録電極とほぼ同じ硬度の薄い第1層と前
記第1層の1/2以下の硬度でかつ前記第1層より厚い
第2層とからなることを特徴とする印写装置。 2)前記記録ヘッドの前記記録電極がクロム、タングス
テン、モリブデンなどで構成されていることを特徴とす
る請求項1記載の印写装置。 3)前記記録ヘッドの前記抵抗層と接触する端部を研磨
する機構を設けたことを特徴とする請求項1記載の印写
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8372688A JPH01255563A (ja) | 1988-04-05 | 1988-04-05 | 印字装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8372688A JPH01255563A (ja) | 1988-04-05 | 1988-04-05 | 印字装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01255563A true JPH01255563A (ja) | 1989-10-12 |
Family
ID=13810523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8372688A Pending JPH01255563A (ja) | 1988-04-05 | 1988-04-05 | 印字装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01255563A (ja) |
-
1988
- 1988-04-05 JP JP8372688A patent/JPH01255563A/ja active Pending
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