JPH01255226A

JPH01255226A - 基板洗浄装置

Info

Publication number: JPH01255226A
Application number: JP8328488A
Authority: JP
Inventors: Yoshitaka Dansui; 慶孝暖水
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1988-04-04
Filing date: 1988-04-04
Publication date: 1989-10-12

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この発明は、基板を洗浄するための基板洗浄装置に関す
るものである。

〔従来の技術〕

従来の例えば半導体基板洗浄装置は、超純水の流れおよ
び汚染物等の超純水への拡散を利用して半導体基板を清
浄化するようにしている。

以下、この半導体基板洗浄装置を第４図に基づいて説明
する。

この半導体基板洗浄装置は、第４図に示すように、洗浄
槽２の底部に多孔板４を設けた構成としている。多孔板
４は、多数の孔が板金体に開けられている。

例えば半導体基板（図示せず）を洗浄槽２の中に立てて
入れ、洗浄槽２の底から洗浄槽２の底部の多孔板４の孔
を通して超純水（図示せず）を洗浄槽２内に注水する。

このことにより、超純水は、洗浄槽２の下方から上方に
流れ、水流が発生することになる。

そして、この超純水の水流により、基板に付着している
汚染物等を取り除く、また、この基板から取り除かれた
汚染物等が超純水中に拡散する。

さらに、超純水は、洗浄槽２の下方から上方に流れてい
るため、汚染物が拡散した超純水は、洗浄槽２の上方か
らオーバ・フローする。また、超純水が洗浄槽２の底か
ら多孔板４を介し常時注水されているため、半導体基板
は、常に、超純水により清浄化されることになる。

（発明が解決しようとする課題〕従来の基板洗浄装置においては、超純水中の汚染物質が
減少するにつれて、例えばシリコン基板等からなる半導
体基板が帯電する。そして、超純水の洗浄により半導体
基板から取り除かれたイオン性の汚染物質は、このイオ
ン性の汚染物質の持つ電荷および半導体基板の帯電によ
る引力により、半導体基板に再付着する。この再付着し
たイオン性の汚染物質を超純水の流速のみで取り除くこ
とは難しいという問題があった。

したがって、この発明の目的は、基板からイオン性の汚
染物質を分離するとともに再付着を防止できる基板洗浄
装置を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

この発明の基板洗浄装置は、基板洗浄槽の内部に、対向
する一対の電極を設け、この一対の電極に電圧を加える
Ｔ！１ｉａを設けたことを特徴としている。

【作　用〕

この発明の構成によれば、基板洗浄槽の内部に、一対の
電極を対向して設け、この対向する一対の電極に電圧を
印加し、一対の電極間に電位差を発生させている。そし
て、超純水中の電荷を持ったイオン性の汚染物質を一対
の電極に引きつけるようにし、イオン性の汚染物質を前
記基板から分離するとともに前記基板への再付着を防止
する。

〔実　施　例〕

この発明の一実施例の基板洗浄装置を第１図ないし第３
図に基づいて説明する。

この基板洗浄装置は、第１図に示すように、洗浄槽２の
内部に、対向した一対の電極３．３′を設け、この一対
の電極３，３′に電圧を加える例えば直流電源装置から
なるｔａｌｌを設け、洗浄槽２の底部に多孔板４を設け
た構成としている。

以下、この基板洗浄装置の具体構成および動作を第２図
および第３図に基づいて詳しく説明する。

この基板洗浄装置は、第２図に示すように、洗浄槽２の
底部に多数の孔が開けられた多孔板４を設けている。そ
して、洗浄槽２の底に超純水２０を注入する純水流入口
５を設けている。また、洗浄槽２の内部に、対向した一
対の電極３．３′を設け、この一対の電極３．３′に電
′ｔＡ１を接続している。

電源１は、一対の電極３．３′間に任意の電位差を与え
ることができるものとしている。

また、電源ｌの出力端子の両端に電位差計７を接続し、
電２！ｉＩｌと電極３′との間に電流計８を接続してい
る。

さらに、洗浄槽２の中央に、洗浄する例えば半導体基板
からなる基板６を入れた状態としている。

超純水２０は、洗浄槽２の底の純水流入口５から注水さ
れる。そして、超純水２０は、多孔板４の多数の孔を通
り、洗浄槽２内に注入される。このことにより、超純水
２０は、第２図に示す矢印Ａ、Ｂのように、洗浄槽２の
下方から上方に流れる。そして、この水流により、基板
６を清浄化し、基板６に付着していた汚染物が取り除か
れ超純水２０中に拡散することになる。

また、洗浄ｐ！２の内壁に対向した一対の電極３゜３′
に例えば直流電源装置からなる電＃ｌから直流電圧が印
加されることにより、ｔｉ３．３’間に電位差が発生す
る。この電位差により、第３図に示すように、基板６に
付着しているイオン性の汚染物質９を基板６から分離す
る。そして、超純水２０中に拡散したイオン性の汚染物
質９を電極３．３′の一方の電極側に引きつけ、イオン
性の汚染物質９の基板６への再付着を防止する。

また、汚染物質が拡散した超純水２０中には、酸化物コ
ロイド粒子１０が含まれている。そして、この酸化物コ
ロイド粒子１０も例えば水素イオン（Ｈ”）、ナトリウ
ムイオン（Ｎａ’）、カリウムイオン（Ｋ゛）や水酸化
イオン（ＯＨ−）が吸着しており、電荷を持つことにな
る。したがって、この酸化物コロイド粒子１０に対して
も前記イオン性の汚染物質９に対する作用と同様に作用
する。

そして、超純水２０は、第２図の矢印Ａ、Ｂに示すよう
に洗浄槽２の下方から上方に常時流れているため、基板
６から分離されて一対の電極３゜３′側に引きつけられ
たイオン性の汚染物質９おおび酸化物コロイド粒子１０
とその他の汚染物質が拡散している超純水２０は、洗浄
槽２の上方からオーバ・フローする。

このように、前述の洗浄を行うことにより、基板６が清
浄化される。

この実施例の基板洗浄装置は、洗浄槽２の内部に、対向
する一対の電ｉ３．３’を設け、この電極３．３′に電
圧を加える電ａｌを設けた構成としているので、基板６
が超純水２０の流速により帯電しても、イオン性の汚染
物質９および酸化物コロイド粒子１０を基板６から分離
するとともに基板６への再付着することを防止でき、基
板６を完全に清浄化することができる。

また、電源１の出力端の両側に接続した電位差計７およ
び電源１と一対の電極３．３′との間に接続した電流計
８により、洗浄槽２内の超純水２０の比抵抗をモニタす
ることができる。そして、超純水２０中の汚染物が減少
するにつれて超純水２０の比抵抗が上がるため、この比
抵抗のモニタにより基板６の清浄化の度合いを判定する
ことができる。

さらに、基板６の帯電の値が変化しても、電源１の出力
電圧を基板６の帯電の値に対応させて変えることにより
、常にイオン性の汚染物質９および酸化物コロイド粒子
１０を基板６から分離するとともに再付着を防止できる
。

なお、この実施例の基板洗浄装置では、電源１を直流電
源装置としたが、電源１を交流電源装置とし、その周波
数を適当な値に設定することにより、イオン性の汚染物
質を除去することが可能である。

〔発明の効果〕

この発明の基板洗浄装置は、洗浄槽の内部に、対向した
一対の電極を設け、この一対の電極に電位差を与えるよ
うにしているので、イオン性の汚染物質を基板から分離
するとともに再付着を防止することができる。

この結果、基板の洗浄効率が向上し、基板の表面の清浄
化を促進することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例の基板洗浄装置の全体斜視
図、第２図は第１図の断面図、第３図はこの実施例の洗
浄の状態を説明するための断面図、第４図は従来の基板
洗浄装置の全体斜視図である。。　ｌ・・・電源、２・・・洗浄槽、３．３′・・・電
極第１図第２図第３図第４図

Claims

【特許請求の範囲】

　基板洗浄槽の内部に、対向する一対の電極を設け、こ
の一対の電極に電圧を加える電源を設けたことを特徴と
する基板洗浄装置。