JPH01252332A - 保持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は１例えば半導体ウェーへの裏面研削に用いられ
る保持装置に関する。

（従来の技術） 一般に、半導体装置用のシリコンウェーハの製造工程に
おいては、不純物のゲッタリング効果をもたせるために
、故意にウェーノ・裏面にひずみを導入する裏面ひずみ
加工工程を設けている。この工程においては１通常、専
用のチャックに保持されたウェーハの裏面を研削加工に
よシ粗面化している。この場合のウェーへのチャッキン
グ方法としては、粘着シートをウェーハの表面に貼着し
たのち、ウェーハ表面をチャックによシ真空吸着する方
法あるいは、真空チャック面に吸着用の穴をあけた粘着
シートを貼Ｑ付け、そのシートの上にウェーハを取付け
る方法が採用されている。

しかしながら、前者の方法は、各ウェーハごとにシート
を貼る必要があシ、なおかつウェーハ表面の洗浄も必要
で、コスト高となる不具合をもっている。他方、後者の
方法は、研削中に研削屑がウェーハとシートとの間に入
り込み、ウェーハ表面を汚染するという問題を惹起して
いた。

（発明が解決しようとする課題） 本発明は、上記事情に着目してなされたもので、研削屑
のまわシ込みによるウェーハの表面の汚染を防止できる
保持装置を提供することを目的とする。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段と作用） ウェーハの外縁部に弾性部材からなるシート材から真空
吸着力と相俟って弾性力が発生するようにシート材に溝
を形成し、かつ、５￥の外部の厚さを内部よシ厚くした
ものである。

、（実施例） 以下１本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。

第１図は、この実施例の保持装置を示している。

この装置は０円柱状のチャック部（１）と、このチャッ
ク部（１）の上面に例えば接着剤を介して接着され円板
状のウェーハ（２）を直接保持する例えばシリコーンゴ
ム製の保持部（３）とからなっている。しかして、チャ
ック部（１）は、第２図に示すように、複数の吸着孔（
４）・・・が等配して穿設されている。これら吸着孔（
４）・・・の下端は、チャック部（１）内部で、案内孔
（５）に接続され、この案内孔（５）を介して外部に設
けられた真空ポンプなどの吸着源（図示せず。）に接続
されている。しかして、吸着孔（４）・・・が配設され
ている仮想円の直径は、ウェーハ（２）の直径よシ小さ
く設けられている。さらに、吸着孔（４）の外側には、
複数のエア逃げ穴（６）・・・が穿設され、これらエア
逃げ穴（６）・・・は、チャック部（１）の外壁面に開
口している。一方、保持部（３）は、第３図に示すよう
に全体として円形をなすシート状のものでありて、上記
吸着孔（４）・・・に対応して通孔（力・・・が設けら
れているとともに、エア逃げ穴（６）・・・に対応して
円環状＠　（８）が下面側に設けられている。そして、
吸着孔（４）・・・と通孔（力・・・は、同軸位置とな
るように設けられている。また１円環状溝（８）の中心
部直径は。

ウェーハ（２）の直径と＃１ぼ等しく設けられている。

さらに、保持部（３）の厚さは１円環状溝（８）の外側
部（９）の方が、内側部ａ１よシΔＴだけ厚くなってい
る。

したがって１円環状溝（８）の膜部αυは、厚さの差Δ
Ｔに対応してθだけ傾斜している。

しかして、上記構成の保持装量において、ｉず。

ウェーハ（２）を保持部（３）上に裏面αａを上にして
載置する。このとき、環状溝（８）の膜部Ｑｌ）は、角
度θだけ傾斜したままである。つまり、ウェーハ（２）
は。

その外周縁部が膜部０υに支持された状態となっている
。つぎに、吸着源を作動させ、案内孔（５）、吸着孔（
４）・・・及び通孔（７）・・・を介して排気する。す
ると。

ウェーハ（２）は、真空吸着により膜部ａ１）の弾性力
に抗して、保持部（３）の上面に密着する。ついで、ウ
ェーハ（２）の裏面αのをひずみを導入するために研削
する。このとき研削屑０階・・・が発光し、その一部は
。

ウェーハ（２）の外周縁部から、ウェーハ（２）と保持
部（３）との間に侵入しようとする。しかし、ウェーハ
（２）の外周縁部には、真空吸着力と膜部（１１）の弾
性力とが相剰的に作用しておシ、研削屑（′１３・・・
の内部へのまわシ込みは防止できる。

なお、上記実施例においては、保持部（３）の外側部（
９）と内側部ａ〔の厚さを同一とし、厚さ調整のために
、外側部（９）下面に円環状のシートを接着してもよい
し、あらかじめ、チャック部（１）上面外周部にリング
を接着するようにしてもよい。また、エア逃げ穴（６）
・・・については、省略してもよい。さらに、溝の形状
は円環状に限ることなく、ウェーノ１の形状に照応して
適宜変更してよい。さらに、吸着孔（４）・・・の代シ
に、同心円状溝あるいは放射状溝を採用してもよい。た
だ、この場合も保持部には。

これらに対応した溝を形成する必要がある。

〔発明の効果〕

本発明は、被保持部のウェーハの外縁部に弾性部材から
なるシート材が真空吸着とともに弾性的に当接するよう
にしているので、ウェーハの加工にともなう加工屑がウ
ェーハとシート材との間に侵入してウェーハを損傷・汚
染する虞がなくなり、ウェーハの加工の信頼性が高まる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の保持装置の断面図。 第２図は第１図の一部をなすチャック部の平面図。 第３図は第１図の一部をなす保持部の平面図である。 （ｇ：：＋チャック部（本体部）。 （２Ｌ：、ウェーハ（被保持体）。 （３）：保持部（シート部）。 （７）：通　孔。 （８）：円環状溝。 住Ｉ）：膜　部。 代理人　弁理士　　則　近　憲　佑 同　　　松山光速 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　通孔を有し且つ被保持体が保持される弾性部材からな
   るシート部と、このシート部が固着されこのシート部の
   通孔を介して上記被保持体を真空吸着する本体部とを具
   備し、上記シート部の上記本体部側には上記被保持体の
   上記シート部への被保持面の外縁形状に対応して溝部が
   設けられ、且つ、上記シート部の厚さは、上記溝の外側
   の方が内側よりも厚く設けられていることを特徴とする
   保持装置。