JPH01250960A - 投影光学装置及びこの投影光学装置を用いた投影露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は例えば投影光学装置及びこの装置を用いて、例
えばレチクルパターン等を鮮明に結像させる投影露光装
置に関するものである。

［従来の技術］ カメラ、映写機、計算機等で用いられるフレキシブルプ
リンテッドサーキット（以下ＦＰＣという）、プリンテ
ッドサーキットボード（以下ＰＣＢという）、液晶表示
板（以下ＬＣＤという）等の需要が近年高まっている。

そして、これらＦＰＣ。

ＰＣＢ、ＬＣＤの製造、には投影露光装置が必要であり
、その製造工桿の自動化、高速化のための合理化と共に
大面積露光やレチクルパターンの微細化が要求されてき
ているが、その成否は投影レンズの性能に左右される点
か大である。

［発明か解決しようとする課題］ 高級なレンズにおいては、設計段階て、また異質なガラ
スの組合せ手段や加工手段等によってレンズの収差を最
小限に抑えてその性能を高めているが、特にこの種の投
影光学装置では像面の湾曲の収差を小さくすることか重
要である。レチクルパターンを投影する際に、露光面の
中心部にレンズの焦点を合わせると周辺部かぼけたり、
周辺部に焦点を合わせると中央部かぼける、いわゆる像
面湾曲の収差かあるが、それについては、複数のレンズ
を互いに像面湾曲の収差を補正し合うように組み合わせ
て像面湾曲の収差を小さくすることは可能である。しか
し、この手法も完全に像面湾曲の収差をなくすことは困
難であり、しかもレンズを多数組み合わせるために高価
なものになってしまうという問題かある。

また、像面湾曲の収差は、露光するレチクルパターンの
微細化の障害となることは勿論だか、露光面か大面積化
した場合より深刻な問題となる。

本発明は上記収差による欠点を解決すべくなされたもの
て、像面湾曲の収差の影響を受けない鮮明な像を得るこ
とのてきる投影光学装置及びこの装置を用いた投影露光
装置を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するために、この発明の投影光学装置
は投影レンズの像面湾曲の収差に起因する湾曲した像面
と一致するように前記被投影物体の投影面を湾曲して保
持する保持手段を設けた構成にする。また、この投影光
学装置を用いた本発明の投影露光装置は、この投影光学
装置によって投影すべき物体かレチクルパターンであり
、かつ投影レンズの像面湾曲の収差に起因する湾曲した
像面と一致するように露光面を湾曲する手段を設けた投
影露光装置を構成するものである。

［作用］ かかる構成によれば、投影光学装置は像面湾曲の収差の
影響を受けず鮮明な像か得られ、この投影光学装置を用
いた投影露光装置は、高精度の露光かてきる。

［実施例］ 以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。第１図
は本発明の一実施例である投影光学装置を利用したＦＰ
Ｃ露光装置の主要部の概略を示す説明図てあり、第２図
は本発明の一実施例である第１図のＦＰＣ露光装置に用
いられた投影光学装置の主要部の概略を示す断面図であ
る。

第１図において、１は光源部、２はこの光源部１からの
光を集光させる照明光学系、３はレチクルパターン、４
はレチクルパターン３からの光を投影し結像させるため
の投影光学系、５は保持手段としてのフィルム保持台て
あり、本実施例の投影光学装置は投影光学系４及びフィ
ルム保持台５より成る。また、６は被露光物であるＦＰ
Ｃ用のフィルム、７はこのフィルム６を逐次露光位置に
送るためのフィルム移送機構を示す。

第１図の装置において、光源部１からの光は照明光学系
２を経てレチクルパターン３を照射する。そして、レチ
クルパターン３から出射した光は投影光学系４を経てフ
ィルム６を照射し、レチクルパターン３か投影露光され
フィルムパターンとなる。尚、光源部に楕円集光鏡を用
い、この集光鏡による集光位置にインチクレータを設け
て、照度の均一化を図っても良い。

本実施例におけるＦＰＣは、例えはフィルムキャリア方
式によるＩＣチップの実装などに用いられるものてあり
、−度の露光て露光する領域６０□×８０１程度である
。そして、フィルム移送機構７て逐次露光位置にフィル
ム６を移送して露光する。

第２図は前述の如く第１図に示ずＦＰＣ露光装置に利用
される投影光学装置の主要部の概略を示す断面図であり
、３１はレチクルステージ、４１はコラム、４２は投影
レンズホルダ、４３は投影レンズ、９はこれらコラム４
１．フィルム保持台５等を支える支持体を示す。

また、第３図は第２図におけるフィルム保持台５の詳細
を示す断面図てあり、５１はフィルム保持台５上のフィ
ルム６を吸着する吸着面、８１は真空吸着口、８２は不
図示の真空ポンプと真空吸着口８１を連通ずる連通孔て
、真空ポンプ（不図示）、連通孔８２．真空吸着口８１
て真空吸着機構を構成しており、さらに第１図、第２図
と同一符号は同一または相当部分を示す。

第１図、第２図、第３図において、フィルム６かフィル
ム移送機構７により移送されて所定位置て停止すると、
真空吸着口８１の真空吸着機構か作動し、フィルム保持
台５上に吸着される。その際、フィルム保持台５の吸着
面５１は、投影レンズ４３の像面湾曲の収差に起因する
湾曲した像面と一致した湾曲形状に加工されており、従
って、該吸着面５１により湾曲状に吸着保持されたフィ
ルム６に投影レンズ４３を介してレチクルパターン３の
像を投影させると、該フィルム６上ては結果的に像面湾
曲の収差の影響のないフィルムパターンか形成される。

従って、中央部や周辺部で焦点のぼけがなくなり、高精
度のレチクルパターン３の露光転写が可能となる。

尚、本実施例ではフィルム６を湾曲状に保持する手段と
して、真空吸着による場合を述べたが、その他、静電吸
着により湾曲に吸着保持しても良い。

また、第２図において、フィルムパターンの倍率合わせ
とピント合わせを行うには、コラム４１て一体保持され
たレチクルパターン３及び投影レンズ４３を一緒に、ま
たは投影レンズ４３を単独に動かすことを交互に行う。

尚、本実施例の投影光学装置を利用した装置として、Ｆ
ＰＣ露光装置を挙げたか、必ずしもこれに限らず、通常
のカメラや引伸機や投影装置、ざらにＦＰＣ以外のＰＣ
ＢやＬＣＤ製造に使用される露光装置などても利用可能
である。要するに、被投影物体か投影レンズの作る像面
湾曲の収差と一致した湾曲形状て保持され得るものであ
れば何ても良い。

［発明の効果］ 以上説明した通り、本発明は投影レンズの像面湾曲の収
差に起因する湾曲した像面と一致するように前記被投影
物体の投影面を湾曲して保持する保持手段を設けたので
、被投影物体の投影面て、像面湾曲の収差による焦点の
ぼけの影響かなく高精度の投影か可能となり、特にレチ
クルパターンの微細露光が要求されるＦＰＣ，ＰＣＢ、
ＬＣＤ等の露光装置に利用されると効果か高い。さらに
付言するに、像面湾曲の収差は、投影面積か大になれば
なるほど問題となるから、これらＦＰＣ等の露光装置に
おいても大面積の拡大投影露光の場合、特に有効である
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例である投影光学装置を利用し
たＦＰＣ露光装置の主要部の概略を示す説明図、第２図
は本発明の一実施例である第１図のＦＰＣ露光装置に用
いられた投影光学装置の主要部の概略を示す断面図、第
３図は第２図におけるフィルム保持台の詳細を示す断面
図である。 図中。 ｌ：光源部　　　　　　２：照明光学系３・レチクルパ
ターン　４：投影光学系５：フィルム保持台　　６：フ
イルム ７：フィルム移送機構 ３１ニレチクルステージ ４１：コラム ４２：投影レンズホルタ　４３：投影リンス９：支持体
　　　　　　８１：真空吸着ロ８２二連通孔 代理人　弁理士　１）北　嵩　晴 ｈデー　　　　ｌ）　　　　−１１ 竿　１　＝ 弔　　ｌ　　凶 第３図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）被投影物体に対して投影レンズにより物体を投影
   する投影光学装置において、投影レンズの像面湾曲の収
   差に起因する湾曲した像面と一致するように前記被投影
   物体の投影面を湾曲して保持する保持手段を設けたこと
   を特徴とする投影光学装置。
2. （２）被投影物体の投影面を湾曲して保持する保持手段
   として真空吸着機構を具備したことを特徴とする請求項
   （１）に記載の投影光学装置。
3. （３）請求項（１）または請求項（２）の投影光学装置
   を用い、投影すべき物体がレチクルパターンであること
   を特徴とする投影露光装置。