JPH01239012A - シリコン原料ガス発生装置 - Google Patents
シリコン原料ガス発生装置Info
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- JPH01239012A JPH01239012A JP6532888A JP6532888A JPH01239012A JP H01239012 A JPH01239012 A JP H01239012A JP 6532888 A JP6532888 A JP 6532888A JP 6532888 A JP6532888 A JP 6532888A JP H01239012 A JPH01239012 A JP H01239012A
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- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 87
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Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の目的
［産業上の利用分野］
本発明は、シリコン原料ガス発生装置に関し、特に高速
で気体を流通せしめる高速気体流通管に対しシリコン原
料液体を噴出してシリコン原料液体を気化することによ
りシリコン原料ガスを発生してなるシリコン原料ガス発
生装置に関するものである。
で気体を流通せしめる高速気体流通管に対しシリコン原
料液体を噴出してシリコン原料液体を気化することによ
りシリコン原料ガスを発生してなるシリコン原料ガス発
生装置に関するものである。
［従来の技術］
従来、この種のシリコン原料ガス発生装置としては、シ
リコン原料液体を収容したシリコン原料容器に対して気
体を供給することによりハブリンクを生じせしめそのシ
リコン原料液体を気化してシリコン原料ガスを発生して
いた。
リコン原料液体を収容したシリコン原料容器に対して気
体を供給することによりハブリンクを生じせしめそのシ
リコン原料液体を気化してシリコン原料ガスを発生して
いた。
［解決すべき問題点］
しかしながら従来のシリコン原料ガス発生装置ては、（
ｉ）ハブリンクのための気体の流量制御上の問題からシ
リコン原料ガスをｂ［］ｇ／分以−１−の１１．１合て
発生することかてきない欠点かあり、また（１１）気化
熱によってシリコン原料液体の温ｌバか低下してしまい
１ シリコン原料ガスをｆｆｌ 詩間にわたり安定１ノ
で発生てきない欠点かあり、加えて ′（ｉ ｉ ｉ）
シリコン原料ガスの流量モニタ装置か複雑な構造てあり
、その保持および点検の作業か困難てかつ大流量の場合
に制御不圭となる欠点かあった。
ｉ）ハブリンクのための気体の流量制御上の問題からシ
リコン原料ガスをｂ［］ｇ／分以−１−の１１．１合て
発生することかてきない欠点かあり、また（１１）気化
熱によってシリコン原料液体の温ｌバか低下してしまい
１ シリコン原料ガスをｆｆｌ 詩間にわたり安定１ノ
で発生てきない欠点かあり、加えて ′（ｉ ｉ ｉ）
シリコン原料ガスの流量モニタ装置か複雑な構造てあり
、その保持および点検の作業か困難てかつ大流量の場合
に制御不圭となる欠点かあった。
そこて本９！、用は、これらの欠点を除去すべく、高速
て気体を流通せしめる高速気体流通管に対しシリコン原
料液体を噴出してシリコン原料液体を気化することによ
りシリコン原料ガスを発生するシリコン原料ガス発生装
置を提供せんとするものである。
て気体を流通せしめる高速気体流通管に対しシリコン原
料液体を噴出してシリコン原料液体を気化することによ
りシリコン原料ガスを発生するシリコン原料ガス発生装
置を提供せんとするものである。
（２）発ｆ項のいずれか一項記載の構成［問題点の解決
手段］ 本発明により提供される問題点の解決り段は、「（ａ）
高速で気体を流通せしめる高速気体流通管と１ （ｂ）前記高速気体流通管に対しシリコン原料液体を噴
出せしめて気化することに よりシリコン原料ガスを発生する噴出 １段と を備えてなることを特徴とするシリコン原料ガス発生装
置」 である。
手段］ 本発明により提供される問題点の解決り段は、「（ａ）
高速で気体を流通せしめる高速気体流通管と１ （ｂ）前記高速気体流通管に対しシリコン原料液体を噴
出せしめて気化することに よりシリコン原料ガスを発生する噴出 １段と を備えてなることを特徴とするシリコン原料ガス発生装
置」 である。
［作用］
未発ＩＪＩにかかるシリコン原料ガス発生装置は。
高速で気体を流通せしめる高速気体流通管に対しシリコ
ン原料液体を噴出手段により噴出してなるので、（ｉ）
気化熱の影響を回避しておりシリコン原料ガスを長時間
にわたり安定して発生せしめる作用をなし、また（１ｉ
）ハブリンクのための気体な供給する必要かなくシリコ
ン原料ガスの供給絨を増大せしめる作用をなし、ひいて
は（ｉｉｉ）シリコン原料ガスの法談モニタ装置の構造
を簡潔化し大Ｉｉ量の場合てもその制御を可能とする作
用なす。
ン原料液体を噴出手段により噴出してなるので、（ｉ）
気化熱の影響を回避しておりシリコン原料ガスを長時間
にわたり安定して発生せしめる作用をなし、また（１ｉ
）ハブリンクのための気体な供給する必要かなくシリコ
ン原料ガスの供給絨を増大せしめる作用をなし、ひいて
は（ｉｉｉ）シリコン原料ガスの法談モニタ装置の構造
を簡潔化し大Ｉｉ量の場合てもその制御を可能とする作
用なす。
［実施例］
次に本発明について、添付図面を参照しつつ具体的に説
Ｉｌｌする。
Ｉｌｌする。
第１１”３は、未発す１にかかるシリコン原料ガス発生
装置の一実施例を示す部分断面図である。
装置の一実施例を示す部分断面図である。
まず本発明にかかるシリコン原料ガス発生装置の一実施
例について、その構成を詳細に説１！１する。
例について、その構成を詳細に説１！１する。
すは本発明にかかるシリコン原料ガス発生４・１：置て
あって、シリコン原料液体（たとえば１へりクロロシラ
ンＳ ｉ ｌｉｃ ｌ ：ｌあるいはテトラクロロシラ
ン５ＩＣ１４） ｌｌａを収容するシリコンＥＣ料容器
１１と、シリコン原料容々１１に対し加圧されたガス（
たとえば窒素ガス）を供給するためのガス供給管１２と
、ガス供給管１２に対して配設されておりガスの圧力を
調節する圧力調節装置１３と、気体（たとえば水素ガス
）を高速（たとえば２５０１／分以七）で流通せしめる
ための高速気体流通管１４と、シリコン原料容器１１か
ら高速気体流通管１４に対してシリコン原料液体１１ａ
を供給するためのシリコン原料液体供給管１５と、シリ
コン原料液体供給Ｉｉ？１５に対して配設されておりシ
リコン原料液体１１ａの供給量を調節する流＋４：Ａ節
装置１６とを包有している。
あって、シリコン原料液体（たとえば１へりクロロシラ
ンＳ ｉ ｌｉｃ ｌ ：ｌあるいはテトラクロロシラ
ン５ＩＣ１４） ｌｌａを収容するシリコンＥＣ料容器
１１と、シリコン原料容々１１に対し加圧されたガス（
たとえば窒素ガス）を供給するためのガス供給管１２と
、ガス供給管１２に対して配設されておりガスの圧力を
調節する圧力調節装置１３と、気体（たとえば水素ガス
）を高速（たとえば２５０１／分以七）で流通せしめる
ための高速気体流通管１４と、シリコン原料容器１１か
ら高速気体流通管１４に対してシリコン原料液体１１ａ
を供給するためのシリコン原料液体供給管１５と、シリ
コン原料液体供給Ｉｉ？１５に対して配設されておりシ
リコン原料液体１１ａの供給量を調節する流＋４：Ａ節
装置１６とを包有している。
ここて高速気体流通管１４を流通せしめられる気体は、
加熱手段（図示せず）により予め加熱されておれば、シ
リコン原料液体の気化を促進できるのて好ましいが、未
発１１は、これに限定されるものではない。
加熱手段（図示せず）により予め加熱されておれば、シ
リコン原料液体の気化を促進できるのて好ましいが、未
発１１は、これに限定されるものではない。
同様にシリコン原料容器１１に対して加熱ｒ段（ｌＡ示
せず）を配置賢しシリコン原ネ１液体１１ａを加熱して
おけば、シリコン原本１液体の気化を促進３Ｃきるので
好ましいが、未発ＩＪ＋は、これに限定されるものては
ない。
せず）を配置賢しシリコン原ネ１液体１１ａを加熱して
おけば、シリコン原本１液体の気化を促進３Ｃきるので
好ましいが、未発ＩＪ＋は、これに限定されるものては
ない。
更に本ｆｆ１ｌＪＩにかかるシリコン原料ガス発生装置
の一実施例について、その作用を詳細に説明する。
の一実施例について、その作用を詳細に説明する。
高速気体流通管１４を介して気体（たとえば水素ガス）
を、矢印へ方向に高速（たとえば２５０１／分以上）て
持続的に流通せしめる。
を、矢印へ方向に高速（たとえば２５０１／分以上）て
持続的に流通せしめる。
この状ｙＥて、圧力調１酊装置１３を３Ｊ節することに
より適度の圧力のガス（たとえば窒素ガス）を、ガス供
給管１２を介してシリコン原料容器１１に対し供給する
。
より適度の圧力のガス（たとえば窒素ガス）を、ガス供
給管１２を介してシリコン原料容器１１に対し供給する
。
シリコン原料容器１１では、ガスの圧力によってシリコ
ン原料液体（たとえばトリクロロシランＳ ｉ ＩＩｃ
Ｉ ｖあるいはテトラクロロシラン５ｉＣ１１） ｌ
ｌａかシリコンｂ；（料液体供給管１５へ供給される。
ン原料液体（たとえばトリクロロシランＳ ｉ ＩＩｃ
Ｉ ｖあるいはテトラクロロシラン５ｉＣ１１） ｌ
ｌａかシリコンｂ；（料液体供給管１５へ供給される。
シリコンＢ；〔料液体供給管１５ては、流星調節装置１
６を調節することにより適度の流量とされたシリコン原
料液体１１ａが、高速気体流通管１４へ供給されている
。
６を調節することにより適度の流量とされたシリコン原
料液体１１ａが、高速気体流通管１４へ供給されている
。
高速気体流通管１４に供給されたシリコン原料液体１１
ａは、気化されてシリコン原料ガスとされたのち、高速
の気体によって後続の装置たとえば化７的蒸看装置へ供
給される。
ａは、気化されてシリコン原料ガスとされたのち、高速
の気体によって後続の装置たとえば化７的蒸看装置へ供
給される。
加えて本発明にかかるシリコン原料ガス発生装置′４の
一実施例について、その理解を一層深めるために具体的
な数値などを挙げて説ＩＪＩＪする。
一実施例について、その理解を一層深めるために具体的
な数値などを挙げて説ＩＪＩＪする。
（実施例）
シリコン原料液体１１ａとしてトリクロロシラン５ｉｌ
ｔＣ１３を収容したシリコン原料容器＋１に対し、圧力
、２１箇装置１３を調節することにより２．ＩＩＫｇ／
ｃｍ２の窒素カスを供給しつつ、流３．１−調節装置Ｉ
６を、調節してシリコン原ネ］液体供給Ｉｉ′ｉ′１５
を介し３ｏｔ＋ ｇ／分の；１．１合てｌ−リクロロシ
ランＳ ｉ ＩＩｃ Ｉ：ｌを高速気体流通管１４に１
■出せしめた。
ｔＣ１３を収容したシリコン原料容器＋１に対し、圧力
、２１箇装置１３を調節することにより２．ＩＩＫｇ／
ｃｍ２の窒素カスを供給しつつ、流３．１−調節装置Ｉ
６を、調節してシリコン原ネ］液体供給Ｉｉ′ｉ′１５
を介し３ｏｔ＋ ｇ／分の；１．１合てｌ−リクロロシ
ランＳ ｉ ＩＩｃ Ｉ：ｌを高速気体流通管１４に１
■出せしめた。
高速気体流通管１４には、水素ガスか２５（）〜３【１
０文７分の速度て供給されており、シリコン原料ガスす
なわちトリクロロシラン５ｉｔｌＣｈガスか：ｌｌ１０
ｇ／分まて発生てきた。
０文７分の速度て供給されており、シリコン原料ガスす
なわちトリクロロシラン５ｉｔｌＣｈガスか：ｌｌ１０
ｇ／分まて発生てきた。
安定にシリコン原料ガスすなわちトリクロロシランＳ
ｉ ＩＩｃ Ｉ ３ガスを連続して発生できる時間は、
シリコン原料容器ＩＩの容（、シひいてはシリコン原料
容器１１に収容されたシリコン原ネ゛１液体１１ａすな
わちトリクロロシラン５ｉｌｌＣ１：ｌの（，１によっ
て決定された。
ｉ ＩＩｃ Ｉ ３ガスを連続して発生できる時間は、
シリコン原料容器ＩＩの容（、シひいてはシリコン原料
容器１１に収容されたシリコン原ネ゛１液体１１ａすな
わちトリクロロシラン５ｉｌｌＣ１：ｌの（，１によっ
て決定された。
以」二の結果は、第１表に示されている。
第 １ 表
（比較例）
シリコン原料容器中のシリコン原料液体（ここてはトリ
クロロシランＳ ｉ ＩＩｃ ｌ ３ ）に対して窒素
ガスを供給し、ハブリンクによりトリクロロシランＳ
ｉ ＩＩｃ １．を気化せしめてシリコン原料ガスすな
わちトリクロロシラン５ｉｌｌＣｈガスを発生した。
クロロシランＳ ｉ ＩＩｃ ｌ ３ ）に対して窒素
ガスを供給し、ハブリンクによりトリクロロシランＳ
ｉ ＩＩｃ １．を気化せしめてシリコン原料ガスすな
わちトリクロロシラン５ｉｌｌＣｈガスを発生した。
トリクロロシラン５ｉｌｌＣ１ｉガスは、６０ｇ／分ま
て発生てきた。
て発生てきた。
安定にシリコン原料ガスすなわちトリクロロシラン５ｉ
ｌｌＣｈガスを連続して発生てきる時間は、シリコン原
料液体（ここではトリクロロシラン５ｉｌｌＣ１ｚ）の
気化熱によってその液温が低下してしまい、約１．０時
間に過ぎなかった。
ｌｌＣｈガスを連続して発生てきる時間は、シリコン原
料液体（ここではトリクロロシラン５ｉｌｌＣ１ｚ）の
気化熱によってその液温が低下してしまい、約１．０時
間に過ぎなかった。
以−Ｌの結果は、第１表に併せて示されている。
（３）発明の効果
上述より明らかなように本発明にかかるシリコン原料ガ
ス発生装置は、 （ａ）高速て気体を流通せしめる高速気体流通管と、 （ｂ）前記高速気体流通管に対しシリコン原料液体を噴
出せしめて気化することによ りシリコン原料ガスを発生する噴出手 段と を罰えてなるのて、 （ｉ）シリコン原料液体の気化熱の影 ツを回避でき、ひいてはシリコ ン原料ガスを長時間にわたり安 定して供給できる効果 を有し、また （ｉｉ）ハフリングのための気体を供給する必要かなく
、シリコン原料 ガスの供給敬を増大せしめるこ とかてきる効果 を有し、ひいては （ｉｉｉ）シリコン原料ガスの原着モニタ装置の構造を
＠深化し大流量の 場合てもその制御を０１能とてき る効果 を有する。
ス発生装置は、 （ａ）高速て気体を流通せしめる高速気体流通管と、 （ｂ）前記高速気体流通管に対しシリコン原料液体を噴
出せしめて気化することによ りシリコン原料ガスを発生する噴出手 段と を罰えてなるのて、 （ｉ）シリコン原料液体の気化熱の影 ツを回避でき、ひいてはシリコ ン原料ガスを長時間にわたり安 定して供給できる効果 を有し、また （ｉｉ）ハフリングのための気体を供給する必要かなく
、シリコン原料 ガスの供給敬を増大せしめるこ とかてきる効果 を有し、ひいては （ｉｉｉ）シリコン原料ガスの原着モニタ装置の構造を
＠深化し大流量の 場合てもその制御を０１能とてき る効果 を有する。
第１図は、本発明にかかるシリコン原料ガス発生装置の
一実施例を示す部分断面図である。
一実施例を示す部分断面図である。
Claims (4)
- （１）（ａ）高速で気体を流通せしめる高速気体流通管
と、 （ｂ）前記高速気体流通管に対しシリコン原料液体を噴
出せしめて気化することによりシリコン原料ガスを発生
する噴出手段と を備えてなることを特徴とするシリコン原料ガス発生装
置。 - （２）シリコン原料液体が、加熱手段により加熱されて
なることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の
シリコン原料ガス発生装置。 - （３）噴出手段が、 （ａ）シリコン原料液体を収容するシリコン原料容器と
、 （ｂ）前記シリコン原料容器に対して加圧されたガスを
供給するガス供給管と、 （ｃ）前記シリコン原料液体を高速気体流通管に対して
供給するために、前記シリコン原料容器を前記高速気体
流通管に対し連通せしめるシリコン原料液体供給管と を包有してなることを特徴とする特許請求の範囲第（１
）項もしくは第（２）項記載のシリコン原料ガス発生装
置。 - （４）高速気体流通管によって供給される気体が、加熱
手段により予め加熱されてなることを特徴とする特許請
求の範囲第（１）項ないし第（３）項のいずれか一項記
載のシリコン原料ガス発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6532888A JPH01239012A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | シリコン原料ガス発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6532888A JPH01239012A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | シリコン原料ガス発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01239012A true JPH01239012A (ja) | 1989-09-25 |
Family
ID=13283741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6532888A Pending JPH01239012A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | シリコン原料ガス発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01239012A (ja) |
-
1988
- 1988-03-18 JP JP6532888A patent/JPH01239012A/ja active Pending
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