JPH01234415A - 紫外線感光性樹脂の製造法 - Google Patents
紫外線感光性樹脂の製造法Info
- Publication number
- JPH01234415A JPH01234415A JP63061232A JP6123288A JPH01234415A JP H01234415 A JPH01234415 A JP H01234415A JP 63061232 A JP63061232 A JP 63061232A JP 6123288 A JP6123288 A JP 6123288A JP H01234415 A JPH01234415 A JP H01234415A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acrylate
- meth
- ultraviolet
- sensitive resin
- amino group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 28
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 15
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 5
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 11
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 abstract description 2
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 125000006222 dimethylaminomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 abstract description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 dimethylaminoethyl Aminoacrylates Chemical class 0.000 description 9
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006264 diethylaminomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- KFYRJJBUHYILSO-YFKPBYRVSA-N (2s)-2-amino-3-dimethylarsanylsulfanyl-3-methylbutanoic acid Chemical compound C[As](C)SC(C)(C)[C@@H](N)C(O)=O KFYRJJBUHYILSO-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- UUGXDEDGRPYWHG-UHFFFAOYSA-N (dimethylamino)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)COC(=O)C(C)=C UUGXDEDGRPYWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMEZXMFPKOMWHR-UHFFFAOYSA-N (dimethylamino)methyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)COC(=O)C=C VMEZXMFPKOMWHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUMRWGYGZHKZKF-UHFFFAOYSA-N 2-aminoprop-2-enamide Chemical class NC(=C)C(N)=O IUMRWGYGZHKZKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAPMFBHEQZLGK-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylamino)-2-methylidenepentanamide Chemical compound CN(C)CCCC(=C)C(N)=O ZWAPMFBHEQZLGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、紫外線感光性樹脂の製造法に関する。さらに
詳しくは、酸現像性、紫外線硬化性、解像度などにすぐ
れたアクリル系紫外線感光性樹脂の製造法に関する。
詳しくは、酸現像性、紫外線硬化性、解像度などにすぐ
れたアクリル系紫外線感光性樹脂の製造法に関する。
[従来の技術]
従来、紫外線感光性樹脂組成物は印刷インキ、塗料、フ
ォトレジスト、製版材料などの各種用途において使用さ
れている。ことにフォトレジスト、製版材料などの用途
では、紫外線感光性樹脂組成物の塗膜上に一定のパター
ンとなるように紫外線を照射することにより、露光部を
光硬化させ、未露光部をa機溶剤もしくは・アルカリ水
溶液を使用して剥離、溶解させることによって目的パタ
ーンの硬化皮膜を形成させる方法が採用されている。
ォトレジスト、製版材料などの各種用途において使用さ
れている。ことにフォトレジスト、製版材料などの用途
では、紫外線感光性樹脂組成物の塗膜上に一定のパター
ンとなるように紫外線を照射することにより、露光部を
光硬化させ、未露光部をa機溶剤もしくは・アルカリ水
溶液を使用して剥離、溶解させることによって目的パタ
ーンの硬化皮膜を形成させる方法が採用されている。
ところで、前記パターン形成方法として溶剤現像法を採
用したばあいには、溶剤が用いられていることから省資
源、環境衛生面で好ましくない。
用したばあいには、溶剤が用いられていることから省資
源、環境衛生面で好ましくない。
また、アルカリ現像性を有する紫外線感光性樹脂の硬化
フィルムを刷版として使用したばあいにもつぎのような
問題がある。すなわち、硬化フィルムといえども親水性
官能基が残存しているため刷版面にアルカリ性の水溶性
フレキソインキが供給されたばあいには、インキに対す
る耐性が不充分であるため仕上り感の良好な印刷物を収
得しがたいという不利がある。
フィルムを刷版として使用したばあいにもつぎのような
問題がある。すなわち、硬化フィルムといえども親水性
官能基が残存しているため刷版面にアルカリ性の水溶性
フレキソインキが供給されたばあいには、インキに対す
る耐性が不充分であるため仕上り感の良好な印刷物を収
得しがたいという不利がある。
そのためかかる問題点を解消せんとして近時、酢酸など
による現像が可能な紫外線感光性樹脂の開発が要望され
ている。
による現像が可能な紫外線感光性樹脂の開発が要望され
ている。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、従来の紫外線感光性樹脂組成物によっては到
底解決しえなかった技術的課題、すなわち、酸現像性、
紫外線硬化性、解像度などにすぐれたアクリル系紫外線
感光性樹脂の製造法を提供せんとするものである。
底解決しえなかった技術的課題、すなわち、酸現像性、
紫外線硬化性、解像度などにすぐれたアクリル系紫外線
感光性樹脂の製造法を提供せんとするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、上記目的を達成するべく検討を行なった
。すなわち、アクリル系共重合体の分子内に3級アミノ
基およびアクリロイル基を導入して目的物を収得せんと
した。しかして、これら官能基の導入方法につき試行錯
誤を行tっだ結果、意外にも後述する3級アミノ基を含
有する特定のアクリル系プレポリマーとアクリロイル基
を含有する特定のウレタンアクリレートとを所定条件下
に反応せしめることによりはじめて前記問題点をことご
とく解決しうる目的生成物を容易に製造することができ
ることを見出し、本発明を完成するにいたった。
。すなわち、アクリル系共重合体の分子内に3級アミノ
基およびアクリロイル基を導入して目的物を収得せんと
した。しかして、これら官能基の導入方法につき試行錯
誤を行tっだ結果、意外にも後述する3級アミノ基を含
有する特定のアクリル系プレポリマーとアクリロイル基
を含有する特定のウレタンアクリレートとを所定条件下
に反応せしめることによりはじめて前記問題点をことご
とく解決しうる目的生成物を容易に製造することができ
ることを見出し、本発明を完成するにいたった。
すなわち、本発明は(a)3級アミノ基含有アクリレー
トもしくはメタクリレート、(b)水酸基なをアクリレ
ートもしくはメタクリレートならびに(c)前記(a)
成分および前記(b)成分と共重合しうるα、β−不飽
和モノマーからなる共重合物(1)と、2.4−トリレ
ンジイソシアナート類と前記(b)成分との付加反応物
(2)とを反応させることを特徴とする紫外線感光性樹
脂の製造法に関する。
トもしくはメタクリレート、(b)水酸基なをアクリレ
ートもしくはメタクリレートならびに(c)前記(a)
成分および前記(b)成分と共重合しうるα、β−不飽
和モノマーからなる共重合物(1)と、2.4−トリレ
ンジイソシアナート類と前記(b)成分との付加反応物
(2)とを反応させることを特徴とする紫外線感光性樹
脂の製造法に関する。
[作用および実施例〕
本発明の方法によって製造される目的反応物はすぐれた
酸現像性、紫外線硬化性、解像度などを存するものでな
ければならない。
酸現像性、紫外線硬化性、解像度などを存するものでな
ければならない。
したがって本発明の目的とする紫外線感光性樹脂には、
所望の紫外線感光性を付与するために樹脂分子内にアク
リロイル基および酸現像性を付与するために3級アミノ
基を宵することが必須である。
所望の紫外線感光性を付与するために樹脂分子内にアク
リロイル基および酸現像性を付与するために3級アミノ
基を宵することが必須である。
しかしながら、樹脂分子内にアクリロイル基と3級アミ
ノ基とを共存させることは容易ではない。たとえば、0
3級アミノ基含有アクリレートとアクリル酸などとを共
重合させてなるアクリル系プレポリマーにグリシジルメ
タクリレートを反応させる方法、■3級アミノ基含有ア
クリレートとグリシジルメタクリレートとを共重合させ
てなるアクリル系プレポリマーにアクリル酸を反応させ
る方法、■メチルメタクリレートなどのアクリル酸エス
テルとグリシジルメタクリレートとを共重合させてなる
エポキシアクリレートにアクリル酸およびモルホリンな
どの有機アミンを開環付加反応させるなどの各種方法を
採用することによって前記目的生成物を容易に収得しう
るちのと考えられるが、これらいずれの方法を採用して
も反応中にゲル化が生じたり、たとえ生成物かえられた
としても該生成物の感光性が不充分なため、側底本発明
の目的とする生成物をうろことはできない。
ノ基とを共存させることは容易ではない。たとえば、0
3級アミノ基含有アクリレートとアクリル酸などとを共
重合させてなるアクリル系プレポリマーにグリシジルメ
タクリレートを反応させる方法、■3級アミノ基含有ア
クリレートとグリシジルメタクリレートとを共重合させ
てなるアクリル系プレポリマーにアクリル酸を反応させ
る方法、■メチルメタクリレートなどのアクリル酸エス
テルとグリシジルメタクリレートとを共重合させてなる
エポキシアクリレートにアクリル酸およびモルホリンな
どの有機アミンを開環付加反応させるなどの各種方法を
採用することによって前記目的生成物を容易に収得しう
るちのと考えられるが、これらいずれの方法を採用して
も反応中にゲル化が生じたり、たとえ生成物かえられた
としても該生成物の感光性が不充分なため、側底本発明
の目的とする生成物をうろことはできない。
かかる観点から、反応方法につき試行錯誤し、ようやく
本発明の方法に到達した。本発明の方法によってえられ
た紫外線感光性樹脂は具体的には以下のものが適当であ
る。
本発明の方法に到達した。本発明の方法によってえられ
た紫外線感光性樹脂は具体的には以下のものが適当であ
る。
すなわち、(a)成分および(b)成分ならびに要すれ
ば(c)成分を構成成分とするアクリルプレポリマーで
ある共重合物(1)と2.4−トリレンジ゛イソシアナ
ート類と前記市成分との付加反応物(2)とからなる反
応生成物である。
ば(c)成分を構成成分とするアクリルプレポリマーで
ある共重合物(1)と2.4−トリレンジ゛イソシアナ
ート類と前記市成分との付加反応物(2)とからなる反
応生成物である。
このように特定のモノイソシアナートたる付加反応物(
2)を共重合物(1)中に存在する(b)成分に由来す
る水酸基と反応させることにより、前記各種方法を採用
したときに生じるような反応上の問題点が生じることな
く容易に目的生成物をうろことができるのである。
2)を共重合物(1)中に存在する(b)成分に由来す
る水酸基と反応させることにより、前記各種方法を採用
したときに生じるような反応上の問題点が生じることな
く容易に目的生成物をうろことができるのである。
ここで、共重合物(1)中の3級アミノ基含有率および
アクリロイル基含有率についてはとくに制限はないが、
えられる紫外線感光性樹脂の酸現像性および感光性を考
慮して適宜決定される。
アクリロイル基含有率についてはとくに制限はないが、
えられる紫外線感光性樹脂の酸現像性および感光性を考
慮して適宜決定される。
通常、共重合物(1)における3級アミノ基含有率(共
重合物1g中に含まれる3級アミノ基当量)は0.3〜
3.0ミリ当量/g(以下、meq/gという)程度、
好ましくは0.5〜2.5a+eQ/gとされる。該3
級アミノ基の含有率は0.3111eq/g未満である
ばあいには感光性が低下する傾向にあり、また3、Om
eq/gをこえるばあいには酸現像性が低下する傾向が
ある。また共重合物(1)における水酸基含有率は、0
.5〜2.5meq/g 1好ましくはl、0〜2.0
ffleq/gとされる。該水酸基含有率は、0.5m
eq/g未満であるばあい、必要量のアクリロイル基が
導入しえなくなり、また2、5rAeq/gをこえるば
あい、共重合物(1)の製造時に生成する共重合物(1
)が前記反応溶媒に対する溶解性が低いため析出する傾
向があるため好ましくない。
重合物1g中に含まれる3級アミノ基当量)は0.3〜
3.0ミリ当量/g(以下、meq/gという)程度、
好ましくは0.5〜2.5a+eQ/gとされる。該3
級アミノ基の含有率は0.3111eq/g未満である
ばあいには感光性が低下する傾向にあり、また3、Om
eq/gをこえるばあいには酸現像性が低下する傾向が
ある。また共重合物(1)における水酸基含有率は、0
.5〜2.5meq/g 1好ましくはl、0〜2.0
ffleq/gとされる。該水酸基含有率は、0.5m
eq/g未満であるばあい、必要量のアクリロイル基が
導入しえなくなり、また2、5rAeq/gをこえるば
あい、共重合物(1)の製造時に生成する共重合物(1
)が前記反応溶媒に対する溶解性が低いため析出する傾
向があるため好ましくない。
前記」(重合物(1)の必須成分である(a)成分の具
体例としては、たとえばジメチルアミノメチルアクリレ
ートもしくはジメチルアミノメチルメタクリレート(以
下、アクリレートもしくはメタクリレートを(メタ)ア
クリレートという)、ジメチルアミノエチル(メタ)ア
クリレート、ジエチルアミノメチル(メタ)アクリレー
ト、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメ
チルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジエチルア
ミノプロピル(メタ)アクリレートなどのアミノアクリ
レート類ならびにジメチルアミノメチル(メタ)アクリ
ルアミド1.ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルア
ミド、ジエチルアミノメチル(メタ)アクリルアミド、
ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチ
ルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ジエチルア
ミノプロピル(メタ)アクリルアミドなどのアミノアク
リルアミド類をあげることができる。
体例としては、たとえばジメチルアミノメチルアクリレ
ートもしくはジメチルアミノメチルメタクリレート(以
下、アクリレートもしくはメタクリレートを(メタ)ア
クリレートという)、ジメチルアミノエチル(メタ)ア
クリレート、ジエチルアミノメチル(メタ)アクリレー
ト、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメ
チルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジエチルア
ミノプロピル(メタ)アクリレートなどのアミノアクリ
レート類ならびにジメチルアミノメチル(メタ)アクリ
ルアミド1.ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルア
ミド、ジエチルアミノメチル(メタ)アクリルアミド、
ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチ
ルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ジエチルア
ミノプロピル(メタ)アクリルアミドなどのアミノアク
リルアミド類をあげることができる。
前記(b)成分の具体例としては、たとえば2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシイソプロピ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ
)アクリレート、プロピレングリコールモノ(メタ)ア
クリレート、エチレングリコールモノ(メタ)アクリレ
ートなどをあげることができる。
キシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシイソプロピ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ
)アクリレート、プロピレングリコールモノ(メタ)ア
クリレート、エチレングリコールモノ(メタ)アクリレ
ートなどをあげることができる。
前記(c)成分は、前記(a)成分および(b)成分と
共重合しうる各種モノマーをいう。かかる(c)成分の
具体例としては、たとえば(メタ)アクリル酸メチル、
(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピ
ル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2
−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メ
タ)アクリル酸アミド、スチレン、酢酸ビニルなどをあ
げることができる。
共重合しうる各種モノマーをいう。かかる(c)成分の
具体例としては、たとえば(メタ)アクリル酸メチル、
(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピ
ル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2
−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メ
タ)アクリル酸アミド、スチレン、酢酸ビニルなどをあ
げることができる。
なお、前記(a)〜(c)成分の使用量は、とくに制限
はされず、通常、えられる共重合物(1)および紫外線
感光性樹脂の3級アミノ基含有率およびアクリロイル基
含有率などを考慮して適宜決定される。通常(a)成分
は15〜50%(重量%、以下同様)、好ましくは20
〜45%、+b)成分は5〜35%、好ましくは10〜
30%、また(c)成分は20〜70%、好ましくは3
0〜60%とされる。
はされず、通常、えられる共重合物(1)および紫外線
感光性樹脂の3級アミノ基含有率およびアクリロイル基
含有率などを考慮して適宜決定される。通常(a)成分
は15〜50%(重量%、以下同様)、好ましくは20
〜45%、+b)成分は5〜35%、好ましくは10〜
30%、また(c)成分は20〜70%、好ましくは3
0〜60%とされる。
共重合物(1)の製造にあたっては、溶媒の存在下また
は不存在下に前記所定の使用量の(a)〜(c)成分お
よび重合°開始剤を加えて40〜120℃程度、好まし
くは60〜100℃でラジカル共重合すればよい。
は不存在下に前記所定の使用量の(a)〜(c)成分お
よび重合°開始剤を加えて40〜120℃程度、好まし
くは60〜100℃でラジカル共重合すればよい。
使用溶媒としては後述する付加反応物(2)に含有され
るイソシアナート基に対して不活性なもののなかから適
宜選択することができる;かかる溶媒の具体例としては
、たとえばベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン
、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが例示され
、これらの溶媒は単独でまたは混合して使用される。
るイソシアナート基に対して不活性なもののなかから適
宜選択することができる;かかる溶媒の具体例としては
、たとえばベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン
、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが例示され
、これらの溶媒は単独でまたは混合して使用される。
なお、重合反応の際には、たとえばラジカル重合開始剤
が用いられる。かかるラジカル重合開始剤としては、た
とえば過酸化ベンゾイルなどの過酸化物系、アゾイソブ
チロニトリルなどのアゾ系の各種公知のラジカル重合開
始剤を使用しうる。なお、えられる共重合物(1)の分
子量を調節するためにメルカプタン、α −メチルスチ
レンダイマーなどの公知の連鎖移動剤を使用しうること
はもとよりである。
が用いられる。かかるラジカル重合開始剤としては、た
とえば過酸化ベンゾイルなどの過酸化物系、アゾイソブ
チロニトリルなどのアゾ系の各種公知のラジカル重合開
始剤を使用しうる。なお、えられる共重合物(1)の分
子量を調節するためにメルカプタン、α −メチルスチ
レンダイマーなどの公知の連鎖移動剤を使用しうること
はもとよりである。
かくしてえられる共重合物(1)の平均分子量は、15
000〜25000であることが好ましい。
000〜25000であることが好ましい。
本発明の紫外線感光性樹脂は、前記のように共重合物(
1)と後述する付加反応物(2)から構成されるもので
ある。
1)と後述する付加反応物(2)から構成されるもので
ある。
ここに付加反応物(2)は、特定のジイソシアナートで
ある2、4−1リレンジイソシアナートと前記曲成分を
付加反応せしめてえられる反応生成物であり、モノイソ
シアナートとして収得される。該付加反応物(2)をう
るには公知のジイソシアナートから選択される2、4−
)リレンジイソシアナートを使用することが必須とされ
る。
ある2、4−1リレンジイソシアナートと前記曲成分を
付加反応せしめてえられる反応生成物であり、モノイソ
シアナートとして収得される。該付加反応物(2)をう
るには公知のジイソシアナートから選択される2、4−
)リレンジイソシアナートを使用することが必須とされ
る。
2.4−トリレンジイソシアナートと(b)成分との仕
込比率は、該2.4一トリレンジイソシアナート1モル
に対して〈b)成分が約1〜1.5モル、好ましくは
1.1〜1.2モルとするものがよい。(b)成分が1
モル未満のばあいには未反応ジイソシアナートが多量に
存在するため該反応中にゲル化が生じるおそれがあり、
また 1.5モルをこえるばあいには目的とする付加物
の収率が低下するためいずれも好ましくない。該反応温
度は通常20〜80℃程度、好ましくは4O−BO”C
である。また反応時間は通常3〜10時間程度、好まし
くは5〜8時間とされる。
込比率は、該2.4一トリレンジイソシアナート1モル
に対して〈b)成分が約1〜1.5モル、好ましくは
1.1〜1.2モルとするものがよい。(b)成分が1
モル未満のばあいには未反応ジイソシアナートが多量に
存在するため該反応中にゲル化が生じるおそれがあり、
また 1.5モルをこえるばあいには目的とする付加物
の収率が低下するためいずれも好ましくない。該反応温
度は通常20〜80℃程度、好ましくは4O−BO”C
である。また反応時間は通常3〜10時間程度、好まし
くは5〜8時間とされる。
前記共重合物(1)と付加反応物(2)の仕込゛比率は
、えられる紫外線感光性樹脂のアミノ基含有率およびア
クリロイル基含有率が前記一定範囲になるように適宜決
定され、通常は共重合物(1)に存在する水酸基1当量
に対して付加反応物(2)に存在する遊離イソシアナー
ト基が0.15〜06g当量程度となるように両者を仕
込むのがよい。該反応温度は通常30〜120℃程度、
好ましくは40〜80℃である。また反応時間は通常1
〜5時間程度、好ましくは2〜4時間とされる。
、えられる紫外線感光性樹脂のアミノ基含有率およびア
クリロイル基含有率が前記一定範囲になるように適宜決
定され、通常は共重合物(1)に存在する水酸基1当量
に対して付加反応物(2)に存在する遊離イソシアナー
ト基が0.15〜06g当量程度となるように両者を仕
込むのがよい。該反応温度は通常30〜120℃程度、
好ましくは40〜80℃である。また反応時間は通常1
〜5時間程度、好ましくは2〜4時間とされる。
上記の方法により、通常、3級アミノ基金q率が0.3
〜3.Oo+eQ/g程度、好ましくは0.5〜2.5
aeq/gであり、かつアクリロイル基含有率が0.3
〜2.5aeQ/g程度、好ましくは0,5〜2、On
+eq/gの紫外線感光性樹脂を容易に収得することが
できる。
〜3.Oo+eQ/g程度、好ましくは0.5〜2.5
aeq/gであり、かつアクリロイル基含有率が0.3
〜2.5aeQ/g程度、好ましくは0,5〜2、On
+eq/gの紫外線感光性樹脂を容易に収得することが
できる。
本発明の方法でえられる紫外線感光性樹脂は、酸現像性
、紫外線硬化性、解像度などにすぐれたアクリル系紫外
線感光性樹脂であり、かかる特徴を有効に発揮しうる種
々の用途に好適に利用しうる。具体的には紫外線硬化型
インキ、紫外線硬化型塗料はもちろんのこと、その他フ
ォトレジストインキ、製版材料などに使用することがで
きる。また本発明の方法でえられる紫外線感光性樹脂は
、いわゆるカチオン電着塗装方法を採用することにより
導電性基材に紫外線感光性樹脂皮膜を骨管させることが
できる。
、紫外線硬化性、解像度などにすぐれたアクリル系紫外
線感光性樹脂であり、かかる特徴を有効に発揮しうる種
々の用途に好適に利用しうる。具体的には紫外線硬化型
インキ、紫外線硬化型塗料はもちろんのこと、その他フ
ォトレジストインキ、製版材料などに使用することがで
きる。また本発明の方法でえられる紫外線感光性樹脂は
、いわゆるカチオン電着塗装方法を採用することにより
導電性基材に紫外線感光性樹脂皮膜を骨管させることが
できる。
以下、実施例および比較例をあげて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれら各側に限定されるものではな
い。なお、各例中、部および%は特記しないかぎりすべ
て重量基準である。
明するが、本発明はこれら各側に限定されるものではな
い。なお、各例中、部および%は特記しないかぎりすべ
て重量基準である。
参考例1 (付加反応物(2)の製造)撹拌機、温度計
、チッ素導入管、500 ml容の滴下ロートおよび還
流器を備えた2g容の50フラスコに、2.4−トリレ
ンジイソシアネート(以下、2 、4−TD Iという
) 555.5g (3,19モル)と共沸脱水処
理した乾燥トルエン1000.0 gおよび重合禁止剤
としてフェノチアジン0.5g(500PP+n)を仕
込み、チッ素気流下で50℃に昇温した。撹拌上滴下ロ
ートよりアクリル酸2−とドロキシエチル(以下、2H
EAという) ′444.5g (3,83モル)を5
0℃に反応温度を保ちながら2時間かけて滴下し、その
後さらに5時間反応を続けた。反応液はゲルバーミエイ
ションクロマトグラフィ(以下、GPCという)により
2.4−TD+/2HEA −1/ 1付加物が74.
9%、残りは1/2付加物が生成していた。
、チッ素導入管、500 ml容の滴下ロートおよび還
流器を備えた2g容の50フラスコに、2.4−トリレ
ンジイソシアネート(以下、2 、4−TD Iという
) 555.5g (3,19モル)と共沸脱水処
理した乾燥トルエン1000.0 gおよび重合禁止剤
としてフェノチアジン0.5g(500PP+n)を仕
込み、チッ素気流下で50℃に昇温した。撹拌上滴下ロ
ートよりアクリル酸2−とドロキシエチル(以下、2H
EAという) ′444.5g (3,83モル)を5
0℃に反応温度を保ちながら2時間かけて滴下し、その
後さらに5時間反応を続けた。反応液はゲルバーミエイ
ションクロマトグラフィ(以下、GPCという)により
2.4−TD+/2HEA −1/ 1付加物が74.
9%、残りは1/2付加物が生成していた。
参考例2(共重合物(1)の製造)
3g容のビーカーにメチルメタクリレート(以下、HM
Aという) 144.9 g、ブチルアクリレート(以
下、BAという) 382.0g 、ジエチルアミノ
エチルメタクリレート(以下、DBという)277.9
g、 2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下、2
+1HMAという) 195.2 gおよびラジカル重
合開始剤アゾイソブチロニトリル(以下、AIBNとい
う) 2.Og、分子量調節剤(三井東圧化学■製、
商品名: MSD−100) 2.25gおよびトルエ
ン818.2gを仕込み均一に混合した。
Aという) 144.9 g、ブチルアクリレート(以
下、BAという) 382.0g 、ジエチルアミノ
エチルメタクリレート(以下、DBという)277.9
g、 2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下、2
+1HMAという) 195.2 gおよびラジカル重
合開始剤アゾイソブチロニトリル(以下、AIBNとい
う) 2.Og、分子量調節剤(三井東圧化学■製、
商品名: MSD−100) 2.25gおよびトルエ
ン818.2gを仕込み均一に混合した。
撹拌機、温度計、チッ素導入管、500 ml容の滴下
ロートおよび還流器を備えた311容の5日フラスコに
モノマー溶液の1/4を仕込み、チッ素気流下で80°
Cで1時間重合後、さらに残り3/4を同温度で2時間
かけて滴下した。その後80℃で2時間重合し、AIB
N LOgとトルエンtat、agを仕込み、80℃で
1時間さらに100℃で1時間重合して反応を完結させ
た。
ロートおよび還流器を備えた311容の5日フラスコに
モノマー溶液の1/4を仕込み、チッ素気流下で80°
Cで1時間重合後、さらに残り3/4を同温度で2時間
かけて滴下した。その後80℃で2時間重合し、AIB
N LOgとトルエンtat、agを仕込み、80℃で
1時間さらに100℃で1時間重合して反応を完結させ
た。
そののち、冷却器の下に分水器を付け、130℃に昇温
しトルエン還流、系内の水を共沸脱水させた。えられた
アクリルポリマーの重量平均分子量はGPCより23,
500であった。仕込から計算してO11基73級アミ
ノ基−1,5(meq/g) /1 、5 (ieq/
g)であった。
しトルエン還流、系内の水を共沸脱水させた。えられた
アクリルポリマーの重量平均分子量はGPCより23,
500であった。仕込から計算してO11基73級アミ
ノ基−1,5(meq/g) /1 、5 (ieq/
g)であった。
実施例1(感光性樹脂の製造)
アクリルポリマーのトルエン溶液を50℃まで冷却した
のち、チッ素シールを止め、参考例1で合成した付加物
溶液418.6g−を仕込み、50℃で2時間反応させ
た。つぎにこれにオクチル酸スズ0.6g−を添加し、
さらに50℃で1時間保温して反応を完結させた。
のち、チッ素シールを止め、参考例1で合成した付加物
溶液418.6g−を仕込み、50℃で2時間反応させ
た。つぎにこれにオクチル酸スズ0.6g−を添加し、
さらに50℃で1時間保温して反応を完結させた。
えられた感光性樹脂は計算値からアクリロイル基金宵率
0.6G+++eQ/gおよびアミノ基含有率1.24
meQ/gを有するものであった。
0.6G+++eQ/gおよびアミノ基含有率1.24
meQ/gを有するものであった。
実施例2および3ならびに比較例1
共重合物(1)と付加反応物(2)の比率を変化させた
ほかは実施例1と同様にして感光性樹脂を合成した。え
られたポリマーおよび感光性樹脂の物性を第1表に示す
。
ほかは実施例1と同様にして感光性樹脂を合成した。え
られたポリマーおよび感光性樹脂の物性を第1表に示す
。
[以下余白]
実施例4
HMAをスチレンに、DEをジメチルアミノプロピルア
クリルアミド(以下、DMAPAという)にかえたほか
は実施例1と同様に反応を行ない、共重合物(1)をえ
た。えられたポリマーの分子量(Rw )は18000
、水酸基含有率はり、50meq/g1またアミノ基含
有率は1.78 meq/gであった。
クリルアミド(以下、DMAPAという)にかえたほか
は実施例1と同様に反応を行ない、共重合物(1)をえ
た。えられたポリマーの分子量(Rw )は18000
、水酸基含有率はり、50meq/g1またアミノ基含
有率は1.78 meq/gであった。
またえられた感光性樹脂のアクリロイル基含有率は0.
68meq/g−アミノ基含有率は1.47meq/g
であった。
68meq/g−アミノ基含有率は1.47meq/g
であった。
比較例2
DBを全u MMAにかえたほかは実施例1と同様にし
て反応を行なった。えられた共重合物(1)の分子fi
1(Ftw)は25100、水酸基含有率は1.501
!leq/g、アミノ基含有率はOmeq/gであった
。
て反応を行なった。えられた共重合物(1)の分子fi
1(Ftw)は25100、水酸基含有率は1.501
!leq/g、アミノ基含有率はOmeq/gであった
。
また感光性樹脂のアクリロイル基含有率は0.66me
q/g、アミノ基含有率はOmeq/gであった。
q/g、アミノ基含有率はOmeq/gであった。
製造例1〜12
実施例1〜4ならびに比較例1および2で合成された感
光性樹脂のU■照射による解像性を以下の方法にしたが
って評価した。
光性樹脂のU■照射による解像性を以下の方法にしたが
って評価した。
(感光板の作製)
第2表に示す組成物をアルミ板上に乾燥後の膜厚が10
0項となるように塗布し、100°Cで20分間循風乾
燥器で乾燥した。
0項となるように塗布し、100°Cで20分間循風乾
燥器で乾燥した。
(1%酢酸溶解性)
1%酢酸水溶液中に実施例1〜5ならびに比較例1およ
び2でえられた感光性樹脂溶液を数滴加え、その溶解性
をみた。均一に溶解するものを易溶と判断した。
び2でえられた感光性樹脂溶液を数滴加え、その溶解性
をみた。均一に溶解するものを易溶と判断した。
(解像性)
感光板上にネガフィルムをのせ、紫外線がそれぞれ20
0mjおよび40hjの照射量になるように露光したの
ち、5分間196酢酸水溶液中に浸漬して未露光部樹脂
を除去した。つぎに充分に水洗したのち、形成された2
00側線幅のパターンを観察し、凸部のエツジが残存し
ているものを◎、若干欠けているものを○、明確な線が
再現されていないものを×と判断した。
0mjおよび40hjの照射量になるように露光したの
ち、5分間196酢酸水溶液中に浸漬して未露光部樹脂
を除去した。つぎに充分に水洗したのち、形成された2
00側線幅のパターンを観察し、凸部のエツジが残存し
ているものを◎、若干欠けているものを○、明確な線が
再現されていないものを×と判断した。
[以下余白]
[発明の効果]
本発明の方法によれば、酸現像性、紫外線硬化性、解像
度などにすぐれたアクリル系紫外線感光性樹脂を容易に
提供することができ、該感光性樹脂はつぎのような効果
を発揮する。たとえば、■フォトレジストインキに使用
したばあいには、有機溶剤を用いることなく酸により現
像しうるため、省資源、環境衛生面で好ましい。
度などにすぐれたアクリル系紫外線感光性樹脂を容易に
提供することができ、該感光性樹脂はつぎのような効果
を発揮する。たとえば、■フォトレジストインキに使用
したばあいには、有機溶剤を用いることなく酸により現
像しうるため、省資源、環境衛生面で好ましい。
また樹脂中にもともとカルボキシル基などのアニオン性
官能基を宵さないため、えられる露光部の硬化皮膜のア
ルカリエツチング液耐性が充分となり精密な配線パター
ンを形成することが可能となる。■刷版として使用した
ばあいにも、刷版面にアルカリ性の水溶性フレキソイン
キが供給されたとしても該インキに対する耐性が充分で
あるため仕上り感が良好な印刷物を収得しうる。■さら
には、該感光性樹脂が希酸水溶液に溶解または分散する
ためカチオン電着塗装が可能である。したがって、従来
のアニオン電着によるばあいのような陽極部の金属基材
からの金属の溶出現象が生じず、そのため電着浴の維持
管理が容易であるほか、えられる電着皮膜中にも金属の
混入がないため硬化後の皮膜性能がすぐれるという効果
が奏される。
官能基を宵さないため、えられる露光部の硬化皮膜のア
ルカリエツチング液耐性が充分となり精密な配線パター
ンを形成することが可能となる。■刷版として使用した
ばあいにも、刷版面にアルカリ性の水溶性フレキソイン
キが供給されたとしても該インキに対する耐性が充分で
あるため仕上り感が良好な印刷物を収得しうる。■さら
には、該感光性樹脂が希酸水溶液に溶解または分散する
ためカチオン電着塗装が可能である。したがって、従来
のアニオン電着によるばあいのような陽極部の金属基材
からの金属の溶出現象が生じず、そのため電着浴の維持
管理が容易であるほか、えられる電着皮膜中にも金属の
混入がないため硬化後の皮膜性能がすぐれるという効果
が奏される。
特許出願人 荒川化学工業株式会社”::j”;
”−一゛
”−一゛
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a)3級アミノ基含有アクリレートもしくはメタ
クリレート、(b)水酸基含有アクリレートもしくはメ
タクリレートならびに(c)前記(a)成分および前記
(b)成分と共重合しうるα、β−不飽和モノマーから
なる共重合物(1)と、2、4−トリレンジイソシアナ
ート類と前記(b)成分との付加反応物(2)とを反応
させることを特徴とする紫外線感光性樹脂の製造法。 2 紫外線感光性樹脂の3級アミノ基含有率が0.3〜
3.0ミリ当量/gである請求項1記載の紫外線感光性
樹脂の製造法。 3 紫外線感光性樹脂のアクリロイル基含有率が0.3
〜2.5ミリ当量/gである請求項1または2記載の紫
外線感光性樹脂の製造法。 4 前記共重合物(1)の3級アミノ基含有率が1.0
〜3.0ミリ当量/gである請求項1記載の紫外線感光
性樹脂の製造法。 5 前記共重合物(1)の水酸基含有率が0.5〜2.
5ミリ当量/gである請求項1または4記載の紫外線感
光性樹脂の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63061232A JPH0721037B2 (ja) | 1988-03-15 | 1988-03-15 | 紫外線感光性樹脂の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63061232A JPH0721037B2 (ja) | 1988-03-15 | 1988-03-15 | 紫外線感光性樹脂の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01234415A true JPH01234415A (ja) | 1989-09-19 |
JPH0721037B2 JPH0721037B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=13165270
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63061232A Expired - Fee Related JPH0721037B2 (ja) | 1988-03-15 | 1988-03-15 | 紫外線感光性樹脂の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0721037B2 (ja) |
-
1988
- 1988-03-15 JP JP63061232A patent/JPH0721037B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0721037B2 (ja) | 1995-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4304705A (en) | Radiation-curable polymers containing pendant unsaturated peptide groups derived from azlactone polymers | |
US4378411A (en) | Radiation-curable polymers | |
US8460852B2 (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern and method for manufacturing printed wiring board | |
US20090317746A1 (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive element comprising the same, method of forming resist pattern, and process for producing printed wiring board | |
JPH0350549A (ja) | フォトレジスト組成物 | |
US5556924A (en) | Synthesis of photoreactive polymeric binders | |
JP2593305B2 (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
JP2003507758A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
TW200304449A (en) | Functionalized polymer, method of preparing the same, and photoimageable composition | |
JPH0117141B2 (ja) | ||
EP0678201B1 (en) | Lithographic printing plates with photoreactive polymeric binders | |
JPH01234415A (ja) | 紫外線感光性樹脂の製造法 | |
JPH01203424A (ja) | 硬化性組成物 | |
JPH02311847A (ja) | 水現像性感光性樹脂組成物 | |
JPH03119014A (ja) | ネガ型ドライフィルムフォトレジスト組成物 | |
JPH08339085A (ja) | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 | |
JP2873705B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
JPH0139569B2 (ja) | ||
EP0421388A2 (en) | Positive-acting photoresist composition | |
JPH08339084A (ja) | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 | |
JPS59179677A (ja) | 感圧性接着テ−プの製造方法 | |
JPH1172914A (ja) | 光重合性樹脂組成物 | |
JP2758039B2 (ja) | 可視光感光性電着塗料用組成物及びそれを用いた画像形成方法 | |
JP2002338626A (ja) | ポリマーおよびこれを用いたネガ型感光性樹脂組成物 | |
JPS6210642A (ja) | 感光性樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |