JPH01233444A - 感光性組成物 - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感光性組成物に関し、特に光架橋性がよく、
高感度、高耐刷力の平版印刷版が得られる、感光性平版
印刷版に好適に使用される感光性組成物に関する。
高感度、高耐刷力の平版印刷版が得られる、感光性平版
印刷版に好適に使用される感光性組成物に関する。
予め感光性を与えられた印刷材料の感光性物質として使
用されているものの大多数はジアゾニウム化合物であり
、その最も常用されているものにはp−ジアゾジフェニ
ルアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表されるジアゾ
樹脂がある。
用されているものの大多数はジアゾニウム化合物であり
、その最も常用されているものにはp−ジアゾジフェニ
ルアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表されるジアゾ
樹脂がある。
ジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版の感光性層の組成
物は、例えば米国特許第2.714.066号明細書に
記載されているようにジアゾ樹脂単独のもの、つまり結
合剤を使用しないものと、例えば特開昭50−3060
4号公報に記載されているように結合剤とジアゾ樹脂が
混合されているものに分類することができるが、近年ジ
アゾニウム化合物を用いた感光性平版印刷版の多くのも
のは高耐剛力を持たせるためにジアゾニウム化合物と結
合剤となるポリマーよりなっている。
物は、例えば米国特許第2.714.066号明細書に
記載されているようにジアゾ樹脂単独のもの、つまり結
合剤を使用しないものと、例えば特開昭50−3060
4号公報に記載されているように結合剤とジアゾ樹脂が
混合されているものに分類することができるが、近年ジ
アゾニウム化合物を用いた感光性平版印刷版の多くのも
のは高耐剛力を持たせるためにジアゾニウム化合物と結
合剤となるポリマーよりなっている。
従来、これらの結合剤となるポリマー中に、ヒドロキシ
ル基又はニトリル基を含有せしめ、ジアゾニウム化合物
との光架橋性を高めることによって、露光後の感光層を
強固に硬化せしめる試みがなされてきた。このような例
としては、例えば、特開昭60−198742号及び特
開昭62−123453号公報に記載されているような
ポリマーをあげることができる。
ル基又はニトリル基を含有せしめ、ジアゾニウム化合物
との光架橋性を高めることによって、露光後の感光層を
強固に硬化せしめる試みがなされてきた。このような例
としては、例えば、特開昭60−198742号及び特
開昭62−123453号公報に記載されているような
ポリマーをあげることができる。
しかしながら、これらのポリマーにおいても、ジアゾニ
ウム化合物と露光時に架橋する効率が充分でないため、
感度及び耐刷力が必ずしも十分でないという欠点があっ
た。
ウム化合物と露光時に架橋する効率が充分でないため、
感度及び耐刷力が必ずしも十分でないという欠点があっ
た。
本発明は上記欠点を克服し、ジアゾニウム化合物との光
架橋性がすぐれ、高感度、高耐刷力を有する新規な感光
性組成物を提供することを目的とする。
架橋性がすぐれ、高感度、高耐刷力を有する新規な感光
性組成物を提供することを目的とする。
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
新規な感光性組成物を使用することで、これらの目的が
達成されることを見い出し、本発明に到達した。
新規な感光性組成物を使用することで、これらの目的が
達成されることを見い出し、本発明に到達した。
即ち、本発明は、ジアゾニウム化合物と、下記一般式(
1)で表わされる構造を少なくとも1つ有する高分子化
合物とを含有することを特徴とする感光性組成物を提供
するものである。
1)で表わされる構造を少なくとも1つ有する高分子化
合物とを含有することを特徴とする感光性組成物を提供
するものである。
以下、本発明にって詳述する。
本発明に用いられるジアゾニウム化合物としては、米国
特許第3867147号記載のジアゾニウム化合物、米
国特許第2632703号明細書記載のジアゾニウム化
合物などがあげられるが、特に芳香族ジアゾニウム塩と
、例えば活性なカルボニル含有化合物(例えばホルムア
ルデヒド)との縮合物で代表されるジアゾ樹脂が有用で
ある。好ましいジアゾ樹脂には、例えばp−ジアゾジフ
ェニルアミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒド
の縮合物のへキサフルオロりん酸塩、テトラフルオロは
う酸塩、りん酸塩が含まれる。また、米国特許第330
0309号に記載されているようなp−ジアゾジフェニ
ルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物のスルホ”/H
塩(例、tl)’、p −)ルエンスルホン酸塩、ドデ
シルベンゼンスルホン酸塩、2−メトキシ−4−ヒドロ
キシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩など)、ホ
スフィン酸塩(例えば、ベンゼンホスフィン酸塩など)
、ヒドロキシ基含有化合物塩(例えば、2,4−ジヒド
ロキシベンゾフェノン塩なと)、有機カルボン酸塩など
も好ましい。
特許第3867147号記載のジアゾニウム化合物、米
国特許第2632703号明細書記載のジアゾニウム化
合物などがあげられるが、特に芳香族ジアゾニウム塩と
、例えば活性なカルボニル含有化合物(例えばホルムア
ルデヒド)との縮合物で代表されるジアゾ樹脂が有用で
ある。好ましいジアゾ樹脂には、例えばp−ジアゾジフ
ェニルアミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒド
の縮合物のへキサフルオロりん酸塩、テトラフルオロは
う酸塩、りん酸塩が含まれる。また、米国特許第330
0309号に記載されているようなp−ジアゾジフェニ
ルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物のスルホ”/H
塩(例、tl)’、p −)ルエンスルホン酸塩、ドデ
シルベンゼンスルホン酸塩、2−メトキシ−4−ヒドロ
キシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩など)、ホ
スフィン酸塩(例えば、ベンゼンホスフィン酸塩など)
、ヒドロキシ基含有化合物塩(例えば、2,4−ジヒド
ロキシベンゾフェノン塩なと)、有機カルボン酸塩など
も好ましい。
更には、特開昭58−27141号に示されているよう
な3−メトキシ−4−ジアゾ−ジフェニルアミンを4,
4′−ビス−メトキシ−メチル−ジフェニルエーテルで
縮合させメシチレンスルホン酸塩としたものなども適当
である。
な3−メトキシ−4−ジアゾ−ジフェニルアミンを4,
4′−ビス−メトキシ−メチル−ジフェニルエーテルで
縮合させメシチレンスルホン酸塩としたものなども適当
である。
これらジアゾニウム化合物の感光性組成物中の含有量は
、1〜50重量%、好ましくは3〜20重量%である。
、1〜50重量%、好ましくは3〜20重量%である。
また必要に応じ、ジアゾニウム化合物2種以上を併用し
てもよい。
てもよい。
一方、本発明に用いられる高分子化合物としては、下記
一般式(I)で表わされる構造を少なくとも1つ有する
高分子化合物である。
一般式(I)で表わされる構造を少なくとも1つ有する
高分子化合物である。
>N−c−・・・・・・H)
一般式(I)で表わされる構造としては、例えば、
などをあげることができ、好ましくは、チオアミド、チ
オウレタン(チオカルバミン酸−〇−エステル)、ジチ
オウレタン、チオウレイド基があげられる。
オウレタン(チオカルバミン酸−〇−エステル)、ジチ
オウレタン、チオウレイド基があげられる。
式(I)で表わされる構造は、本発明に用いられる高分
子化合物の主鎖に含まれていても、又側錦に含まれてい
てもよく、これらの構造のうち異なった2種以上の構造
が同一の高分子中に含まれていてもよい。本発明に用い
られる高分子化合物には好ましくは、一般式(n)〜(
V)で表わされるものが含まれる。
子化合物の主鎖に含まれていても、又側錦に含まれてい
てもよく、これらの構造のうち異なった2種以上の構造
が同一の高分子中に含まれていてもよい。本発明に用い
られる高分子化合物には好ましくは、一般式(n)〜(
V)で表わされるものが含まれる。
R鴫
−R’を示す。X’lt−〇−1−3−1− N −又
ハ単結合を示す。
ハ単結合を示す。
)11. R2、R4及びR5は、同一でも相異してい
てもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキ
ル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ
、アシル、チオアシル、スルホニル基を示し、好ましく
は、水素原子、炭素数1〜8個のアルキル、炭素数6〜
15個のアリール、炭素数1〜16個のアシル、炭素数
1〜15個のスルホニル基を示す。
てもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキ
ル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ
、アシル、チオアシル、スルホニル基を示し、好ましく
は、水素原子、炭素数1〜8個のアルキル、炭素数6〜
15個のアリール、炭素数1〜16個のアシル、炭素数
1〜15個のスルホニル基を示す。
R3は、置換基を有していてもよいアルキノペアラルキ
ル、アリール基を示し、好ましくは、炭素数1〜8個の
アルキル、炭素数6〜15個のアリール基を示す。
ル、アリール基を示し、好ましくは、炭素数1〜8個の
アルキル、炭素数6〜15個のアリール基を示す。
Rg、 R1は、同一でも相異していてもよく、単結合
、置換基を有していてもよい2価の有機基、カルボニル
基、−302−を示す。
、置換基を有していてもよい2価の有機基、カルボニル
基、−302−を示す。
チオ、R1、R2、R3、R4、R85R6、R’(7
)ウチ数個で環を形成してもよい。
)ウチ数個で環を形成してもよい。
[F]は一般式(I)で表わされる構造を含んでいても
よい高分子化合物の主鎖又は側鎖を示す。
よい高分子化合物の主鎖又は側鎖を示す。
本発明の高分子化合物の主鎖(母体)となる高分子化合
物としては、ジアゾニウム化合物と混合し、感光性組成
物として用いる事ができるものであればよく、例えば、
ポリビニルアセクール、ポリビニルアルコール、アクリ
ル酸系ポリマー、メタクリル酸系ポリマー、ポリスチレ
ン系ポリマー、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリウレア、ポリチオアミド、ポリチオウレタン、
ポリチオウレア、エポキシ樹脂等があげられる。好まし
くは、ポリピニルアセターノペアクリル酸系ポリマー、
メタクリル酸系ポリマー、ポリウレタンがあげられる。
物としては、ジアゾニウム化合物と混合し、感光性組成
物として用いる事ができるものであればよく、例えば、
ポリビニルアセクール、ポリビニルアルコール、アクリ
ル酸系ポリマー、メタクリル酸系ポリマー、ポリスチレ
ン系ポリマー、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリウレア、ポリチオアミド、ポリチオウレタン、
ポリチオウレア、エポキシ樹脂等があげられる。好まし
くは、ポリピニルアセターノペアクリル酸系ポリマー、
メタクリル酸系ポリマー、ポリウレタンがあげられる。
更に好ましくは、耐摩耗性の点からポリウレタンがあげ
られる。
られる。
また、本発明の高分子化合物は、水性アルカリ現像液に
対する溶解性を具備するように、酸性基を有しているこ
とが望ましい。ここで、酸性基としては、例えば、カル
ボキシル基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル
基、フェノール性水酸基、フェノール性メルカプト基、
N−スルホニルアミド基、N−スルホニルウレイド基、
N−アミノスルホニルアミド基、N−アシルアミド基、
N−アシルウレイド基などをあげる事ができる。
対する溶解性を具備するように、酸性基を有しているこ
とが望ましい。ここで、酸性基としては、例えば、カル
ボキシル基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル
基、フェノール性水酸基、フェノール性メルカプト基、
N−スルホニルアミド基、N−スルホニルウレイド基、
N−アミノスルホニルアミド基、N−アシルアミド基、
N−アシルウレイド基などをあげる事ができる。
これらの酸性基を有する場合、本発明の高分子化合物の
酸価は、好ましくは、5 meq/ g以下であり、更
に好ましくは0.3〜3meq/gである。又、特に好
ましくは0.7〜2.5 ff1eQ/ gである。
酸価は、好ましくは、5 meq/ g以下であり、更
に好ましくは0.3〜3meq/gである。又、特に好
ましくは0.7〜2.5 ff1eQ/ gである。
本発明に用いられる高分子化合物としては、具体的には
、以下の構造を有する高分子化合物があげられる。
、以下の構造を有する高分子化合物があげられる。
d d
(2z
z
z2
這 γd? Tと 這 r″ 選
迩 Yd+ e=+七 2 シニz
z
z2
zjl
芝 :′1呂 ; 6口 zz 本発明の高分子化合物中の一般式(I)で表わされる構
造の含有量は、元素分析によるイオウ原子の含量で表わ
すと、好ましくは約0.1〜40重量%であり、更に好
ましくは、約0.5〜20重量%である。又、更に好ま
しくは、約1〜IO重量%である。
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z
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z
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芝 :′1呂 ; 6口 zz 本発明の高分子化合物中の一般式(I)で表わされる構
造の含有量は、元素分析によるイオウ原子の含量で表わ
すと、好ましくは約0.1〜40重量%であり、更に好
ましくは、約0.5〜20重量%である。又、更に好ま
しくは、約1〜IO重量%である。
本発明の高分子化合物の分子量は、好ましくは重量平均
で1000以上であり、更に好ましくは5、000〜2
0万の範囲である。又、特に好ましくは2万〜20万の
範囲である。分子量分散(Mw/Mn)は好ましくは、
約1.1以上、更に好ましくは1.5〜50である。又
、特に好ましくは約2〜10である。これらの高分子化
合物は単独で用いても混合して用いてもよい。感光性組
成物中に含まれる、これらの高分子化合物の含有量は約
50〜99.5重量%、好ましくは約55〜95重量%
である。
で1000以上であり、更に好ましくは5、000〜2
0万の範囲である。又、特に好ましくは2万〜20万の
範囲である。分子量分散(Mw/Mn)は好ましくは、
約1.1以上、更に好ましくは1.5〜50である。又
、特に好ましくは約2〜10である。これらの高分子化
合物は単独で用いても混合して用いてもよい。感光性組
成物中に含まれる、これらの高分子化合物の含有量は約
50〜99.5重量%、好ましくは約55〜95重量%
である。
本発明の感光性組成物には前記高分子化合物に対して5
0重量%以下の量で他の樹脂を混入してもよい。混入さ
れる樹脂としては、例えばポリアミド樹脂、エポキシ樹
脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル(
封脂、ポリスチレン系)封脂、ノボラック型フェノール
系)封脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
ウレア(釘脂を挙げることができる。
0重量%以下の量で他の樹脂を混入してもよい。混入さ
れる樹脂としては、例えばポリアミド樹脂、エポキシ樹
脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル(
封脂、ポリスチレン系)封脂、ノボラック型フェノール
系)封脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
ウレア(釘脂を挙げることができる。
本発明の感光性組成物には必要に応じて、染料、顔料、
安定剤、充てん剤、界面活性剤、可塑剤などの添加によ
り性能の改良を図ることもできる。
安定剤、充てん剤、界面活性剤、可塑剤などの添加によ
り性能の改良を図ることもできる。
好適な染料としては油溶性染料、例えばC,I。
26105 (オイルレッドRR) 、C,I。
21260 (オイルブルーレツト#308、C01
,74350(オイルブルー)、C9T。
,74350(オイルブルー)、C9T。
52015 (メチレンブルー)、C,I。
42555 (クリスルバイオレット)、C1I。
42595 (ビクトリアピュアブルー)などが含まれ
る。
る。
安定剤としては、リン酸、亜リン酸、シュウ酸、p−)
ルエンスルホン酸、ジピコリン酸、リンゴ酸、酒石酸、
2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベン
ゼンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、p−ヒ
ドロキシベンゼンスルホン酸、等があげられる。
ルエンスルホン酸、ジピコリン酸、リンゴ酸、酒石酸、
2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベン
ゼンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、p−ヒ
ドロキシベンゼンスルホン酸、等があげられる。
本発明の感光性組成物は通常、溶剤に溶解した後、適当
な支持体に塗布し、乾燥して使用される。
な支持体に塗布し、乾燥して使用される。
その塗布量は乾燥重量で約0.1〜5g/m’、好まし
くは0.3〜3 g / m’である。
くは0.3〜3 g / m’である。
かかる溶剤としては、例えばメタノーノペエタノール、
インプロパツール、n−ブタノール、t−ブタノーノペ
2−メトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパ
ツール、2−エトキシエタノール、2−メトキシエチル
アセテート、エチレングリコール、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、アセ
トン、メチルエチルケトンなど、及びこれらの混合物が
使用される。
インプロパツール、n−ブタノール、t−ブタノーノペ
2−メトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパ
ツール、2−エトキシエタノール、2−メトキシエチル
アセテート、エチレングリコール、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、アセ
トン、メチルエチルケトンなど、及びこれらの混合物が
使用される。
また、本発明の感光性組成物が塗布される支持体として
は、例えば、紙、プラスチックス(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネート
された紙、例えば、アルミニウム(アルミニウム合金も
含む)、亜鉛、銅などのような金属の板、例えば二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ホリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアゼタールなどのようなプラスチックのフィルム
、上記の如き金属がラミネート、もしくは蒸着された紙
もしくはプラスチックフィルムなどが含まれる。これら
の支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定
であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、特
公昭48−18327号公報に記されているようなポリ
エチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシー
トが結合された複合体シートも好ましい。
は、例えば、紙、プラスチックス(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネート
された紙、例えば、アルミニウム(アルミニウム合金も
含む)、亜鉛、銅などのような金属の板、例えば二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ホリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアゼタールなどのようなプラスチックのフィルム
、上記の如き金属がラミネート、もしくは蒸着された紙
もしくはプラスチックフィルムなどが含まれる。これら
の支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定
であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、特
公昭48−18327号公報に記されているようなポリ
エチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシー
トが結合された複合体シートも好ましい。
また、金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の
場合には、機械的又は電気化学的粗面化処理、珪酸ソー
ダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液
への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理が
なされていることが好ましい。また、米国特許第2.7
14.066号明細書に記載されている如く、珪酸ナト
リウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板、特公昭
47−5125号公報に記載されているようにアルミニ
ウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩
の水溶液に浸漬処理したもの、米国特許第4□476、
006号に記載されているような機械的粗面化と電解粗
面化を組合せて処理されたアルミニウム支持体も好適に
使用される。上記機械的粗面化処理の方法としては、例
えばボール研暦法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによ
る研磨法、パフ研磨法等が挙げられる。また、電気化学
的に粗面化する方法としては、塩酸、硝酸またはこれら
の混合物を含む溶液を用いてエツチングする方法が挙げ
られる。
場合には、機械的又は電気化学的粗面化処理、珪酸ソー
ダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液
への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理が
なされていることが好ましい。また、米国特許第2.7
14.066号明細書に記載されている如く、珪酸ナト
リウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板、特公昭
47−5125号公報に記載されているようにアルミニ
ウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩
の水溶液に浸漬処理したもの、米国特許第4□476、
006号に記載されているような機械的粗面化と電解粗
面化を組合せて処理されたアルミニウム支持体も好適に
使用される。上記機械的粗面化処理の方法としては、例
えばボール研暦法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによ
る研磨法、パフ研磨法等が挙げられる。また、電気化学
的に粗面化する方法としては、塩酸、硝酸またはこれら
の混合物を含む溶液を用いてエツチングする方法が挙げ
られる。
また、上記陽極酸化処理は、例えば、リン酸、クロム酸
、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは、蓚酸、スルファミ
ン酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液
の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニ
ウム板を陽極とじて電流を流すことにより実施される。
、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは、蓚酸、スルファミ
ン酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液
の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニ
ウム板を陽極とじて電流を流すことにより実施される。
また、砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したも
のも好ましい。かかる封孔処理は珪酸ナトリウム水溶液
、熱水及び無機塩又は有機塩を含む熱水溶液への浸漬並
びに水蒸気浴などによって行われる。
のも好ましい。かかる封孔処理は珪酸ナトリウム水溶液
、熱水及び無機塩又は有機塩を含む熱水溶液への浸漬並
びに水蒸気浴などによって行われる。
また、米国特許第3.658.662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
れているようなシリケート電着も有効である。
支持体上に塗布された本発明の感光性組成物は線画像、
網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次いで水
性現像液又は、有機溶剤系現像液で現像することにより
、原画に対してネガのレリーフ像を与える。
網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次いで水
性現像液又は、有機溶剤系現像液で現像することにより
、原画に対してネガのレリーフ像を与える。
露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプなどがある。
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプなどがある。
本発明の感光性組成物は支持体上に塗布する際の有機塗
布溶剤への溶解性に優れ、また塗布、乾燥、画像露光後
、未露光部をアルカリ性現像液又は、有機溶剤系現像液
で現像する際の現像性に優れ、かつ高感度である。得ら
れたレリーフ像は耐摩耗性、感脂性及び支持体への接着
性が良く、印刷版として使用した場合、良好な印刷物が
多数枚得られる。
布溶剤への溶解性に優れ、また塗布、乾燥、画像露光後
、未露光部をアルカリ性現像液又は、有機溶剤系現像液
で現像する際の現像性に優れ、かつ高感度である。得ら
れたレリーフ像は耐摩耗性、感脂性及び支持体への接着
性が良く、印刷版として使用した場合、良好な印刷物が
多数枚得られる。
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
合成例1
コンデンサー、撹拌機を備えた300I7Llの3つ日
丸底フラスコに、4.4’−ジフェニルメタンジイソシ
アネー) 18.4g(0,0735mole)、ヘ
キサメチレンジイソシアネート 5.30 g(0,0
315mo fe)及び2,2−ビス(ヒドロキシメチ
ル)プロピオン酸、 13.4g(0,100mof
e)、を加え、N、 N−ジメチルアセトアミド100
gに溶解した。撹拌下、100℃、5時間加熱した後、
メタノール5gを加え、さらに30分間撹拌をつづけた
。
丸底フラスコに、4.4’−ジフェニルメタンジイソシ
アネー) 18.4g(0,0735mole)、ヘ
キサメチレンジイソシアネート 5.30 g(0,0
315mo fe)及び2,2−ビス(ヒドロキシメチ
ル)プロピオン酸、 13.4g(0,100mof
e)、を加え、N、 N−ジメチルアセトアミド100
gに溶解した。撹拌下、100℃、5時間加熱した後、
メタノール5gを加え、さらに30分間撹拌をつづけた
。
液温を80℃とした後に、トリエチルアミン5、06
g (0,0500mofe)及び3−ブロモプロピル
アミン臭素酸塩 10.9 g(0,0500moJe
)を加え、80℃、2時間撹拌した。さらに液温を40
℃とし、トリエチルアミン 5.57 g(0,055
0moIle)及びフェニルインチオシアネート 7.
44 g (0,0550mole)を加え、2時間撹
拌した。これに、酢酸100m1!を加えた後、水41
中に撹拌し・よがら投入し、白色のポリマーを析出させ
た。このポリマーを、濾過し、水にて洗浄後、減圧下乾
燥させることにより、45gのポリマー(本発明の例示
高分子化合物Nα30)を得た。ゲルパーミェーション
クロマトグラフィー(GPC)にて分子量を測定したと
ころ、重量平均(ポリスチレン標準)で32000であ
った。
g (0,0500mofe)及び3−ブロモプロピル
アミン臭素酸塩 10.9 g(0,0500moJe
)を加え、80℃、2時間撹拌した。さらに液温を40
℃とし、トリエチルアミン 5.57 g(0,055
0moIle)及びフェニルインチオシアネート 7.
44 g (0,0550mole)を加え、2時間撹
拌した。これに、酢酸100m1!を加えた後、水41
中に撹拌し・よがら投入し、白色のポリマーを析出させ
た。このポリマーを、濾過し、水にて洗浄後、減圧下乾
燥させることにより、45gのポリマー(本発明の例示
高分子化合物Nα30)を得た。ゲルパーミェーション
クロマトグラフィー(GPC)にて分子量を測定したと
ころ、重量平均(ポリスチレン標準)で32000であ
った。
又、滴定;こより、残存のカルボキシル基含有量を測定
したところ1.37m1q/gであった。元素分析によ
ってイオウ含有量を測定したところ、2.90重量%で
あった。なお、ポリマーの構造および組成は、元素分析
、NMR,IR及び酸価により決定した。
したところ1.37m1q/gであった。元素分析によ
ってイオウ含有量を測定したところ、2.90重量%で
あった。なお、ポリマーの構造および組成は、元素分析
、NMR,IR及び酸価により決定した。
合成例2
コンデンサー、撹拌機を備えた300m1の3つロフラ
スコに、m−キシリレンジイソシアネート18.8g
(0,100mole)、2.2−ビス(ヒドロキシ
メチル)プロピオン酸、8.05g(0,0600mo
f!e)及びN−フェニル−N’ −l。
スコに、m−キシリレンジイソシアネート18.8g
(0,100mole)、2.2−ビス(ヒドロキシ
メチル)プロピオン酸、8.05g(0,0600mo
f!e)及びN−フェニル−N’ −l。
1−ビス(ヒドロキシメチル)プロピルチオウレア
CH3
■
CH2
110−C)12 −C−CH,−OH10,2gH
?
(0,0400mo I!e)を加え、ジオキサン60
m1に溶解した。触媒として、N、N−ジェチルアニI
Jン0.1 gを添加し、撹拌下、5時間加熱還流させ
た。この反応溶液にジオキサン100m1!及びメタノ
ール100m1を加え、撹拌した後にこれを水4β中に
撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。こ
のポリマーを濾別し、水にて洗浄後、減圧下乾燥させる
ことにより32gのポリマー(本発明の高分子化合物N
α32)を得た。
m1に溶解した。触媒として、N、N−ジェチルアニI
Jン0.1 gを添加し、撹拌下、5時間加熱還流させ
た。この反応溶液にジオキサン100m1!及びメタノ
ール100m1を加え、撹拌した後にこれを水4β中に
撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。こ
のポリマーを濾別し、水にて洗浄後、減圧下乾燥させる
ことにより32gのポリマー(本発明の高分子化合物N
α32)を得た。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー(GPC)に
て分子量を測定したところ、重量平均(ポリスチレン標
準)で28000であった。又、滴定により、カルボキ
シル基含量を測定したところ1.58mq/gであった
。元素分析によってイオウ含有量を測定したところ、3
.44重量%であった。なお、ポリマーの構造および組
成は、元素分析、NMRS IR及び酸価により確認し
た。
て分子量を測定したところ、重量平均(ポリスチレン標
準)で28000であった。又、滴定により、カルボキ
シル基含量を測定したところ1.58mq/gであった
。元素分析によってイオウ含有量を測定したところ、3
.44重量%であった。なお、ポリマーの構造および組
成は、元素分析、NMRS IR及び酸価により確認し
た。
合成例3
コンデンサー、撹拌機を備えた300rd!の3つロフ
ラスコに、ジフェニルメタンジインチオシアネー)
28.2g(0,100mofe)、L−リシン7、3
1 g (0,0500moI!e)及びビス(2−
−rミノエチル)エーテル 5.21 g(0,050
0moJe)を加え、N、N−ジメチルアセトアミド
50mj!に溶解し、撹拌下、60℃、5時間加熱した
。この反応溶液に、N、N−ジメチルホルムアミド10
0m1及び酢酸100m1を加え、撹拌した後に、これ
を水41中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析
出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄後、減圧
下乾燥させることにより36gのポリマー(本発明の化
合物Nα41)を得た。
ラスコに、ジフェニルメタンジインチオシアネー)
28.2g(0,100mofe)、L−リシン7、3
1 g (0,0500moI!e)及びビス(2−
−rミノエチル)エーテル 5.21 g(0,050
0moJe)を加え、N、N−ジメチルアセトアミド
50mj!に溶解し、撹拌下、60℃、5時間加熱した
。この反応溶液に、N、N−ジメチルホルムアミド10
0m1及び酢酸100m1を加え、撹拌した後に、これ
を水41中に撹拌しながら投入し、白色のポリマーを析
出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗浄後、減圧
下乾燥させることにより36gのポリマー(本発明の化
合物Nα41)を得た。
GPCによる重量平均分子量は、26000であった。
滴定によるカルボキシル基含量は、1.20mj’Q/
gであった。元素分析によるイオウ含量は、7.91重
量%であった。なお、ポリマーの構造及び組成は、元素
分析、NMR,IR及び酸価により1認した。
gであった。元素分析によるイオウ含量は、7.91重
量%であった。なお、ポリマーの構造及び組成は、元素
分析、NMR,IR及び酸価により1認した。
合成例4
コンデンサー、撹拌機を備えた500m1の3つロフラ
スコに、デンカブチラール#4000−2(7ji気化
学工業(1231ポリビニルブチラール)20g加え、
N、N−ジメチルホルムアミド 20〇−に溶解した。
スコに、デンカブチラール#4000−2(7ji気化
学工業(1231ポリビニルブチラール)20g加え、
N、N−ジメチルホルムアミド 20〇−に溶解した。
これに、トリエチルアミン7、69 g (0,07
60mor!e)、4−N、N−ジメチルアミノピリジ
ン 1.04g (0,QO850rno l e)、
及び無水フタル酸 12.5 g(0,0845mo
j! e)を加え、撹拌下、60℃、3時間加熱した。
60mor!e)、4−N、N−ジメチルアミノピリジ
ン 1.04g (0,QO850rno l e)、
及び無水フタル酸 12.5 g(0,0845mo
j! e)を加え、撹拌下、60℃、3時間加熱した。
液温を80℃とした後に、3−ブロモプロピルアミン臭
素酸塩 6.13 g (0,0280moj2e)を
加え、2時間撹拌した。さらに液温を40℃とし、フェ
ニルイソチオシアネート 4.16 g(0,0308
mo j7e)を加え、2時間撹拌した。これに、酢酸
100I7117及びメタノール100mj!を加えた
後、これを水4I!中に撹拌しながら投入し、白色のポ
リマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗
浄後、減圧下乾燥させることにより、28gのポリマー
(本発明の高分子化合物Nα5)を得た。
素酸塩 6.13 g (0,0280moj2e)を
加え、2時間撹拌した。さらに液温を40℃とし、フェ
ニルイソチオシアネート 4.16 g(0,0308
mo j7e)を加え、2時間撹拌した。これに、酢酸
100I7117及びメタノール100mj!を加えた
後、これを水4I!中に撹拌しながら投入し、白色のポ
リマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗
浄後、減圧下乾燥させることにより、28gのポリマー
(本発明の高分子化合物Nα5)を得た。
GPCによる重量平均分子量は、190000であった
。滴定によるカルボキシル基含量は、1.64rnlq
/gであった。元素分析によるイオウ含量は、1.86
重量%であった。なお、ポリマーの構造及び組成は、元
素分析、NMR,IR及び酸価により決定した。
。滴定によるカルボキシル基含量は、1.64rnlq
/gであった。元素分析によるイオウ含量は、1.86
重量%であった。なお、ポリマーの構造及び組成は、元
素分析、NMR,IR及び酸価により決定した。
合成例5
コンデンサー、ガス導入管、撹拌機を備えた5 00i
l!の3つロフラスコに、メタクリル酸−アクリロニト
リル共重合体く共重合比=7=3、重量平均分子量72
000 ) 20.0 gを加え、N、 N −ジメチ
ルホルムアミド 400−に溶解した後、撹拌下、塩化
水素ガスを吹き込んだ。これに、チオアセトアミド 1
1.8 g (0,158moIle)を加え、撹拌下
、塩化水素ガスをはげしく吹き込みながら、100℃、
1時間加熱した。
l!の3つロフラスコに、メタクリル酸−アクリロニト
リル共重合体く共重合比=7=3、重量平均分子量72
000 ) 20.0 gを加え、N、 N −ジメチ
ルホルムアミド 400−に溶解した後、撹拌下、塩化
水素ガスを吹き込んだ。これに、チオアセトアミド 1
1.8 g (0,158moIle)を加え、撹拌下
、塩化水素ガスをはげしく吹き込みながら、100℃、
1時間加熱した。
反応溶液を水4I!中に撹拌しながら投入し、白色のポ
リマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗
浄後、減圧下乾燥させることにより、20gのポリマー
(本発明の高分子化合物Nα23)を得た。
リマーを析出させた。このポリマーを濾別し、水にて洗
浄後、減圧下乾燥させることにより、20gのポリマー
(本発明の高分子化合物Nα23)を得た。
GPCによる重量平均分子量は、79000であった。
滴定によるカルボキシル基含量は、8.10m1q/g
であった。元素分析によるイオウ含量は、11.Of重
量%であった。なお、ポリマーの構造及び組成は、元素
分析、NMR,IR及び酸価により確認した。
であった。元素分析によるイオウ含量は、11.Of重
量%であった。なお、ポリマーの構造及び組成は、元素
分析、NMR,IR及び酸価により確認した。
合成例6
コンデンサー、撹拌機を備えた300mj!の3つ口丸
底フラスコにイソホロンジイソシアネート22、2 g
(0,100+moi)e)及び2,2−ビス(ヒド
ロキシメチル) N−トルエンスルホニルチオプロピ
オンアミド C)+3 27、1 g (0,100moI!e)を加え、ジオ
キサン60m1に溶解した、触媒として、N、 N−ジ
エチルアニリン0.1gを添加し、撹拌下、5時間加熱
還流させた。その後、反応溶液を水41中に撹拌しなが
ら投入し、白色のポリマーを析出させた。
底フラスコにイソホロンジイソシアネート22、2 g
(0,100+moi)e)及び2,2−ビス(ヒド
ロキシメチル) N−トルエンスルホニルチオプロピ
オンアミド C)+3 27、1 g (0,100moI!e)を加え、ジオ
キサン60m1に溶解した、触媒として、N、 N−ジ
エチルアニリン0.1gを添加し、撹拌下、5時間加熱
還流させた。その後、反応溶液を水41中に撹拌しなが
ら投入し、白色のポリマーを析出させた。
このポリマーを濾別し1、水で洗浄後、減圧下乾燥させ
ることにより45gのポリマー(本発明の高分子化合物
Nα33)を得た。
ることにより45gのポリマー(本発明の高分子化合物
Nα33)を得た。
GPCによる重量平均分子量は、21000であった。
元素分析によるイオウ含量は、12.82重量%(一般
式(I)の構造として6.41重量パーセント)であっ
た。なお、ポリマーの構造及び組成は、元素分析、N
MR及びIRによって確認した。
式(I)の構造として6.41重量パーセント)であっ
た。なお、ポリマーの構造及び組成は、元素分析、N
MR及びIRによって確認した。
実施例
厚さ0.24111[Dのアルミニウム板をナイロンブ
ラシと400メツシユのバミストンの水性懸濁液を用い
てその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これ
を10%水酸化す) IJウム水溶液に70℃で60秒
間浸漬してエツチングした後、流水で水洗後20%硝酸
で中和洗浄後、特開昭53−67507号公報記載の電
気化学的粗面化法、即ち、Va= 12.7 VSVc
= 9. I Vの正弦波交番波形電流を用い、1%硝
酸水溶液中で160ク一ロン/dm″の陽極特電気量で
電解粗面化処理を行った。引き続き30%の硫酸水溶液
中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、7%硫
酸水溶液中で酸化アルミニウムの被覆量が2.0g/m
″になるように陽極酸化処理を行った。その後70℃の
ケイ酸ナトリウムの3%水溶液に1分間浸漬処理し、水
洗乾燥した。以上のようにして得られたアルミニウム板
に、次に示す感光液(I)〜(V)をホイラーを用いて
塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は2.0g
/m″であった。
ラシと400メツシユのバミストンの水性懸濁液を用い
てその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これ
を10%水酸化す) IJウム水溶液に70℃で60秒
間浸漬してエツチングした後、流水で水洗後20%硝酸
で中和洗浄後、特開昭53−67507号公報記載の電
気化学的粗面化法、即ち、Va= 12.7 VSVc
= 9. I Vの正弦波交番波形電流を用い、1%硝
酸水溶液中で160ク一ロン/dm″の陽極特電気量で
電解粗面化処理を行った。引き続き30%の硫酸水溶液
中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、7%硫
酸水溶液中で酸化アルミニウムの被覆量が2.0g/m
″になるように陽極酸化処理を行った。その後70℃の
ケイ酸ナトリウムの3%水溶液に1分間浸漬処理し、水
洗乾燥した。以上のようにして得られたアルミニウム板
に、次に示す感光液(I)〜(V)をホイラーを用いて
塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は2.0g
/m″であった。
なお、感光液(I)〜(V)に用いた本発明の高分子化
合物は第1表に示す。
合物は第1表に示す。
(感光液)
次に比較例として、上記感光液中の本発明の高分子化合
物の代わりに次の高分子化合物A及びBを用いた感光液
(VI)及び(■)を同様に塗布、乾燥した。乾燥重量
は2.0g/m’であった。
物の代わりに次の高分子化合物A及びBを用いた感光液
(VI)及び(■)を同様に塗布、乾燥した。乾燥重量
は2.0g/m’であった。
(比較例に用いた高分子化合物A)
H3
00H
pHs
の構成を持つ高分子化合物であり、a / b / c
はモル比で30150/20であった。
はモル比で30150/20であった。
また、分子量は重量平均(ポリスチレン標準)で65.
000であった。
000であった。
(比較例に用いた高分子化合物B)
の構成を持つ高分子化合物であり、a / bはモル比
で60/40であった。
で60/40であった。
また、分子量は重量平均(ポリスチレン標準)で45.
000であった。
000であった。
感光液(I)〜(■)を用いて得られた各感光性平版印
刷版(I)〜(■)のそれぞれに富士写真フィルム■製
PSライトで1mの距離から一分間画像露光し、次に示
す現像液にて室温で1分間浸漬した後、脱脂部で表面を
軽くこすり、未露光部を除去し、明るい青色の画像の平
版印刷版(I)〜(■)を得た。また、この際に富士写
真フィルム■製PSステップガイドPを用いて、版上の
ベタ段数を調々た。
刷版(I)〜(■)のそれぞれに富士写真フィルム■製
PSライトで1mの距離から一分間画像露光し、次に示
す現像液にて室温で1分間浸漬した後、脱脂部で表面を
軽くこすり、未露光部を除去し、明るい青色の画像の平
版印刷版(I)〜(■)を得た。また、この際に富士写
真フィルム■製PSステップガイドPを用いて、版上の
ベタ段数を調々た。
(現像液)
各印刷版を用いてハイデルベルグ社製KOR型印刷機で
市販のインキにて、上質紙に印刷した。
市販のインキにて、上質紙に印刷した。
平版印刷版(1)〜(■)の最終印刷枚数を調べたとこ
ろ、第1表に示すとおりであった。
ろ、第1表に示すとおりであった。
第1表かられかるように、本発明のポリウレタン樹脂を
用いた平版印刷版(I)〜(V)は、比較例の(VI)
及び(■)と比べて高感度であり、かつ印刷枚数が多く
、耐刷性が非常に優れたものである。
用いた平版印刷版(I)〜(V)は、比較例の(VI)
及び(■)と比べて高感度であり、かつ印刷枚数が多く
、耐刷性が非常に優れたものである。
手続補正書
63.4.20
昭和 年 月 日
1、事件の表示 昭和63年特許願第60094号2
、発明の名称 感光性組成物 3、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
■、 明細書第20頁Nα35の化合物の式を以下の通
り訂正する。
、発明の名称 感光性組成物 3、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
■、 明細書第20頁Nα35の化合物の式を以下の通
り訂正する。
2、 同第23頁第9行の“〜20万”を「以上」と訂
正する。
正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ジアゾニウム化合物及び下記一般式( I ):▲数式、
化学式、表等があります▼・・・・・・( I ) で表わされる構造を少なくとも1つ有する高分子化合物
を含有することを特徴とする感光性組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63060094A JPH0830891B2 (ja) | 1988-03-14 | 1988-03-14 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63060094A JPH0830891B2 (ja) | 1988-03-14 | 1988-03-14 | 感光性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01233444A true JPH01233444A (ja) | 1989-09-19 |
JPH0830891B2 JPH0830891B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=13132159
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63060094A Expired - Fee Related JPH0830891B2 (ja) | 1988-03-14 | 1988-03-14 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0830891B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52110104A (en) * | 1976-03-11 | 1977-09-16 | Toray Industries | Photoosensitive resin composition |
JPS62289834A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-12-16 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 感光性混合物及び感光性記録材料 |
-
1988
- 1988-03-14 JP JP63060094A patent/JPH0830891B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52110104A (en) * | 1976-03-11 | 1977-09-16 | Toray Industries | Photoosensitive resin composition |
JPS62289834A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-12-16 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 感光性混合物及び感光性記録材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0830891B2 (ja) | 1996-03-27 |
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