JPH012324A - 遠心乾燥装置 - Google Patents
遠心乾燥装置Info
- Publication number
- JPH012324A JPH012324A JP62-156914A JP15691487A JPH012324A JP H012324 A JPH012324 A JP H012324A JP 15691487 A JP15691487 A JP 15691487A JP H012324 A JPH012324 A JP H012324A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- drying chamber
- cover
- bearing
- drying
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 210000003437 trachea Anatomy 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は半導体デバイスの製造工程のウェット処理され
た後の乾燥に用いられる遠心乾燥装置の構造に関するも
のである。
た後の乾燥に用いられる遠心乾燥装置の構造に関するも
のである。
［従来の技術］
従来の遠心乾燥装置は第２図に示すように半導体基板１
が被乾燥物として収納容器２に収納され、この収納容器
２に接続された駆動軸３が軸受部４を通って乾燥室５よ
り外部にある駆動源６に接続されこの駆動源６により収
納容器２が回転することにより該基板１に遠心力が作用
し該基板１表面に付着していた水分が飛散し、空気取入
ロアより排気管８への空気流１１に従って排気される構
造になっていた。
が被乾燥物として収納容器２に収納され、この収納容器
２に接続された駆動軸３が軸受部４を通って乾燥室５よ
り外部にある駆動源６に接続されこの駆動源６により収
納容器２が回転することにより該基板１に遠心力が作用
し該基板１表面に付着していた水分が飛散し、空気取入
ロアより排気管８への空気流１１に従って排気される構
造になっていた。
［発明が解決しようとする問題点］
上述した従来の遠心乾燥装置では乾燥室内が外気より陰
ｆ１になるため空気取入口からのみ空気が流入するばか
りでなく駆動軸の軸受部からも空気が入る。そのため、
軸受部より発生するパーティクルがすべて乾燥室内に入
り、これが半導体基板回転時に乾燥室内全体に拡散し、
乾燥室内すべての半導体基板に該パーティクルが付着す
るという欠点があった。
ｆ１になるため空気取入口からのみ空気が流入するばか
りでなく駆動軸の軸受部からも空気が入る。そのため、
軸受部より発生するパーティクルがすべて乾燥室内に入
り、これが半導体基板回転時に乾燥室内全体に拡散し、
乾燥室内すべての半導体基板に該パーティクルが付着す
るという欠点があった。
本発明の目的は前記問題点を解決した遠心乾燥装置を提
供することにある。
供することにある。
［発明の従来技術に対する相違点］
上述した従来の遠心乾燥装置では駆動軸の軸受部から空
気が侵入する構造であるのに対し、本発明は軸受部の乾
燥室内側にパーティクルのないカスを導入し軸受部の圧
力を乾燥室外より内部の方を高くすることにより軸受部
の乾燥室外より内部へのパーティクルの侵入を防止する
という相違点を有する。
気が侵入する構造であるのに対し、本発明は軸受部の乾
燥室内側にパーティクルのないカスを導入し軸受部の圧
力を乾燥室外より内部の方を高くすることにより軸受部
の乾燥室外より内部へのパーティクルの侵入を防止する
という相違点を有する。
［問題点を解決するための手段］
本発明は乾燥室内で半導体基板に遠心力を作用ざＵで該
基板を脱水乾燥させる乾燥装置において、該基板を回転
させる駆動軸の軸受部の乾燥室内側に、該軸受部を覆う
カバーを取り付け、該カバー内にガス導入用配管を接続
したことを特徴とする遠心乾燥装置である。
基板を脱水乾燥させる乾燥装置において、該基板を回転
させる駆動軸の軸受部の乾燥室内側に、該軸受部を覆う
カバーを取り付け、該カバー内にガス導入用配管を接続
したことを特徴とする遠心乾燥装置である。
［実施例］
次に本発明の一実施例について図面を参照して説明する
。第１図は本発明の一実施例の断面Ｎ要因である。第１
図に示すように遠心乾燥装置は半導体基板１が被乾燥物
として収納容器２に収納され、この収納容器２に接続さ
れた駆動軸３が軸受部４を通って乾燥室５より外部にあ
る駆動源６に接続され、この駆動源６により収納容器２
が回転することにより該基板１に遠心ガが作用し該基板
１表面に付着していた水分が飛散し、空気取入Ｌ１７よ
りｌＪＩ気管８への空気流１１に従って排気される構造
になっている。この構造は従来と同じである。
。第１図は本発明の一実施例の断面Ｎ要因である。第１
図に示すように遠心乾燥装置は半導体基板１が被乾燥物
として収納容器２に収納され、この収納容器２に接続さ
れた駆動軸３が軸受部４を通って乾燥室５より外部にあ
る駆動源６に接続され、この駆動源６により収納容器２
が回転することにより該基板１に遠心ガが作用し該基板
１表面に付着していた水分が飛散し、空気取入Ｌ１７よ
りｌＪＩ気管８への空気流１１に従って排気される構造
になっている。この構造は従来と同じである。
本発明は軸受部４の乾燥室５内側に、該軸受部４を覆う
カバー９を設け、かつ該カバー９内にガス轡入用ガス配
管１０を乾燥室５外より該カバー９に接続したものであ
る。したがって、ガス配管１０よリバーティクルのない
ガスを該カバー９に供給して乾燥室５外より該カバー９
内のガス圧が高くなるようにガスを流し該カバー９より
軸受部４を通して乾燥室５外へのガス流１２を形成する
ことにより、軸受部４より発生するパーティクルは乾燥
室５内に流入せずガス配管１０より供給されるカスの一
部とともに乾燥室５からす１気管８を通して外部にｉＪ
ｌ出される。
カバー９を設け、かつ該カバー９内にガス轡入用ガス配
管１０を乾燥室５外より該カバー９に接続したものであ
る。したがって、ガス配管１０よリバーティクルのない
ガスを該カバー９に供給して乾燥室５外より該カバー９
内のガス圧が高くなるようにガスを流し該カバー９より
軸受部４を通して乾燥室５外へのガス流１２を形成する
ことにより、軸受部４より発生するパーティクルは乾燥
室５内に流入せずガス配管１０より供給されるカスの一
部とともに乾燥室５からす１気管８を通して外部にｉＪ
ｌ出される。
［発明の効果］
以上説明したように本発明は軸受部の乾燥室内側に該軸
受部を覆うカバーを取り付け、該カバー内にパーティク
ルのないガスを導入し、乾燥室外より高い圧力に軸受の
乾燥室内側をすることにより、軸受部より発生するパー
ティクルが乾燥室内に流入せず、半導体基板を遠心乾燥
させても該基板にパーティクルが付着しないため、半導
体基板の歩留を著しく向上させることができる効果を有
するものである。
受部を覆うカバーを取り付け、該カバー内にパーティク
ルのないガスを導入し、乾燥室外より高い圧力に軸受の
乾燥室内側をすることにより、軸受部より発生するパー
ティクルが乾燥室内に流入せず、半導体基板を遠心乾燥
させても該基板にパーティクルが付着しないため、半導
体基板の歩留を著しく向上させることができる効果を有
するものである。
第１図は本発明の遠心乾燥装置の断面概要図、第２図は
従来の遠心乾燥装置の断面概要図である。
従来の遠心乾燥装置の断面概要図である。
Claims (1)
- （１）乾燥室内で半導体基板に遠心力を作用させて該基
板を脱水乾燥させる乾燥装置において、該基板を回転さ
せる駆動軸の軸受部の乾燥室内側に、該軸受部を覆うカ
バーを取り付け、該カバー内にガス導入用配管を接続し
たことを特徴とする遠心乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15691487A JPS642324A (en) | 1987-06-24 | 1987-06-24 | Centrifugal drying device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15691487A JPS642324A (en) | 1987-06-24 | 1987-06-24 | Centrifugal drying device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH012324A true JPH012324A (ja) | 1989-01-06 |
| JPS642324A JPS642324A (en) | 1989-01-06 |
Family
ID=15638138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15691487A Pending JPS642324A (en) | 1987-06-24 | 1987-06-24 | Centrifugal drying device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS642324A (ja) |
-
1987
- 1987-06-24 JP JP15691487A patent/JPS642324A/ja active Pending
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