JPH01226856A - 光学活性なエーテル類およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分骨〉 本発明は、−殺伐ｔ１） Ａ（ （式中、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基またはアルコ
キシアルキル基を示し、Ｒ′は炭素を− 基を示す。ここでＡは水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシル基またはハロゲン原子である。ｔは！また
は２であり、＊印は不斉炭素である。） で示される光学活性なエーテル類およびその製造法に関
する。

〈従来の技術〉 前記−殺伐（１）で示される光学活性なエーテル類は、
文献未記載の新規化合物であり、従来よりその製造法に
ついては勿論のこと、化合物としての有用性についても
全く知られていない。

〈発明が解決すべき課題〉 前記−殺伐（１）で示される光学活性なエーテル類は医
薬、農薬等の中間体としても有用であるが、特に有機電
子材料とりわけ新規な液晶性物導くことができ、該物質
は強誘電性液晶とじて非常に優れた性質を有している。

ＣＨｓ （ここで、Ａｒはフェニレン基、ビフェニレン基あるい
は複素環基などを示し、Ｙはアル４ＪＬ４あるいはアル
コキシル基などを示す。

Ｒ，Ｒ’、ｚ及び＊印は前記と同じ意味であも）また、
式（１）の光学活性なエーテル類のなかには、それ自体
液晶性物質として利用することもできる。

〈課題を解決するための手段〉 本発明は、このような新規にしてかつ有用な前記−殺伐
（１）で示される光学活性なエーテル類を提供するもの
である。

かかる−殺伐（１）で示される光学活性なエーテル類は
一般式（Ｉ） （式中、Ｒ′は炭素数１〜１５のアルキル基ま原子、低
級アルキル基、低級アルコキシル基またはハロゲン原子
であるっｔは１または２であり、未口は不斉炭素である
う　） で示される光学活性なアルコール類を、−殺伐％式％（
） （式中、Ｉには炭素数１〜２０のアルキル基またはアル
コキシアルキル基を示し、Ｘは／’％ロゲン原子または
一０３ＯｚＲ”’を示す。ここでば′は低級アルキル基
または置換されていてもよいフェニル基を示す） で示されるアルキル化剤と反応させて製造することがで
きる。

この反応は、通常塩基性物質の存在下に行われ、塩基性
物質としては、たとえば水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのごときアルカリ金属水素化物、リチウム、ナトリ
ウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウムエチラー
ト、ナトリウムメチラート等のアルカリ金属アルコラー
ド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金
属、ブチルリチウム等が例示される。

かかる塩基性物質は光学活性なアルコール類（１）に対
して１当量倍以上必要であり、上限については特に制限
されないが、好ましくは５当量倍である。

この反応で使用されるアルキル化剤とは、以下に例示さ
れるような炭素数１〜２０のアルキル基またはアルコキ
シアルキル基を有するクロリド、プロミド、ヨード等の
ハロゲン化物あるいは硫酸エステル類（メタンスルホン
酸エステル、エタンスルホン酸エステル、ベンゼンスル
ホン酸エステル、トルエンスルホン酸エステル等）であ
る。

メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル
、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデ
シル、エイコシル、メトキシメチル、メトキシエチル、
メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペンチル
、メトキシヘキシル、メトキシヘプチル、メトキシオク
チル、メトキシノニル、メトキシデシル、エトキシメチ
ル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチ
ル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エトキシヘ
プチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エトキシ
デシル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポ
キシプロピル、プロポキシブチル、プロポキシペンチル
、プロポキシヘキシル、プロポキシオクチル、プロポキ
シデシル、ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブトキシ
プロピル、ブトキシブチル、ブトキシペンチル、ブトキ
シヘキシル、ブトキシヘプチル、ブトキシノニル、ペン
チルオキシメチル、ペンチルオキシエチル、ペンチルオ
キシプロピル、ペンチルオキシブチル、ペンチルオキシ
ペンチル、ペンチルオキシオクチル、ペンチルオキシデ
シＪＫへキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチル、
ヘキシルオキシプロピル、ヘキシルオキシブチル、ヘキ
シルオキシペンチル、ヘキシルオキシヘキシル、ヘキシ
ルオキシオクチル、ヘキシルオキシノニル、ヘキシルオ
キシデシル、ヘプチルオキシメル チ７、ヘプチルオキシエチル、ヘプチルオキシプロピル
、ヘプチルオキシペンチル、オクチルオキシメチル、オ
クチルオキシエチル、デシルオキシメチル、デシルオキ
シエチル、デシルオキシプロビル。

このようなアルキル化剤の使用量は、光学活性なアルコ
ール類■に対して１当量倍以上任意であるが、通常は１
〜５当量倍の範囲である。

反応溶媒としては、たとえばテトラヒドロフラン、エチ
ルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン
、ベンゼン、クロロホルム、クロルベンゼン、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルム
アミド、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、
エーテル、ハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒
の単独または混合物が使用され、その使用量については
特に制限されない。

また、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリル
アミド、Ｎ−メチルピロリドン等の極性溶媒を使用する
こともできる。

反応温度は、通常−５０°Ｃ〜１２０″Ｃ１好ましくは
一８０°Ｃ〜１００’Ｃの範囲である。

反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、濃
縮等の操作により光学活性なエーテル類（１）を収率よ
く得ることができ、これは必要に応じてカラムクロマト
グラフィー、再結晶等により精製することができる。

光学活性なアルコール類［Ｆ］は、−殺伐α）Ｒは低級
アルキル基を示す。） で示されるエステル類を、該エステル類の光学活性体の
うちのいずれか一方を加水分解する能力を有するエステ
ラーゼを用いて不斉加水分解して製造することができる
。

この反応で用いられるエステラーゼを生産する微生物と
しては、エステル類（Ｙ）を不斉加水分解する能力を有
するエステラーゼを生産する微生物であればよく、特に
限定されるものではない。

尚、本発明におけるエステラーゼとはリパーゼを含む広
義のエステラーゼを意味する。

このような微生物の具体例としては、たとえばエンテロ
バクタ−属、アルスロバクタ−属、ブレビバクテリウム
属、シュードモナス属、アルカリ土類金属、ミクロコツ
カス属、クロモバクテリウム属、ミクロバクテリウム属
、コリネバクテリウム属、バシルス属、ラクトバシル金
属、トリコデルマ属、キャンディダ属、サツカロミセス
属、ロドトルラ属、クリプトコツカス属、トルロプシス
属、ビヒア属、ペニシリウム属、アスペルギルス属、リ
ゾプス属、ムコール属、オーレオパシデイウム属、アク
チノムコール属、ノカルデイア属、ストレプトミセス属
、ハンゼヌラ属、アクロモバクタ−属に属する微生物が
例示される◇ 上記微生物の培養は、通常、常法に従って行われ、たと
えば液体培養を行うことにより培養液を得ることができ
る。

たとえば、滅菌した液体培地〔かび類、酵母頻用には麦
芽エキス・酵母エキス培地（水１ｔにペプトン５ｇ、グ
ルコース１０ｇ、麦芽エキス８ｇ、酵母エキス８１を溶
解し、ｐＨ６，５とする）、細菌用には加糖ブイヨン培
地（水１ｔにペプトン５ｆ、グルコース１０ｇ、肉エキ
ス５ｇ、ＮａＣｌ８Ｎを溶解し、ｐＨ７−２とする）〕
に微生物を接種し、通常３０〜４０’Ｃで１〜８日間往
復震盪培養をすることにより行なわれ、また必要に応じ
て固体培養を行ってもよい。

また、これらの微生物起源のエステラーゼのなかには市
販されているものがあり、容易に入手することができる
。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下の
色のが挙げられる。

シュードモナス属のリパーゼ〔リパーゼＰ（天野製ａ製
）’）、アスペルギルス属のリパーゼ〔リパーゼＡＰ（
犬骨製薬製〕〕、ムコール鴇のリパーゼ〔リパーゼＭＡ
Ｐ（天舒製薬製）１キヤンデイグ・シリンドラッセのリ
パーゼ〔す／ｆ　−セＭ　Ｙ　（６糖産業製）〕、アル
カリ土類金属のリパーゼ〔リパーゼＰＬ（名糖産業ｆｓ
）〕、〕アクロモバクターのリパーゼ〔リパーゼＡＬ（
６糖産業製）〕、〕アルスロバクターのリパーゼ〔リパ
ーゼ合同ＢＳＬ（合同酒精製）〕、クロモバクテリウム
属のリパーゼ（東洋醸造！Ｉり、リゾプス・デレマー属
のリパーゼ〔タリパーゼ（田辺製薬製）〕、リゾプス属
のリパーゼ〔リパーゼサイケン（大阪細菌研究所）〕っ
また、動物・植物エステラーゼを用いることもでき、こ
れらの具体的なエステラーゼとじては、以下のものを挙
げることができる。

ステアプシン、パンクレアチン、ブタ肝臓エステラーゼ
、Ｗｈｅａｔ　Ｇｅｒｍエステラーゼっこの反応で用い
られるエステラーゼとしては動物、植物、微生物から得
られた酵素が用いられ、その使用形態としては精製酵素
、粗酵素、酵素含有物、微生物培養液、培養物、菌体、
培養口演およびそれらを処理した物などｌ々の形態で必
要に応じて用いることができ、酵素と微生物を組み合わ
せて用いることもできる。あるいはまた、樹脂等に固定
化した固定化酵素、固定化菌体として用いることもでき
る。

不斉加水分解反応は、原料エステル類（Ｖ）と上記酵素
もしくは微生物の混合物を、通常緩衝液中で激しく攪拌
することによって行われる。

緩衝液としては、通常用いられるリン酸ナトリウム、リ
ン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリウ
ム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の緩衝液等が用
いられ、そのｐＨは、好アルカリ性菌の培養液やアルカ
リ性エステラーゼではｐＨ３〜１１、好アルカリ性でな
い微生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエステラー
ゼではｐＨ５〜８が好ましい。濃度は通常０．０５〜２
Ｍ、好ましくは０４０５〜０．５Ｍの範囲であろう 反応温度は通常１０〜６０°Ｃであり、反応時間は一般
的には１０〜７０時間であるが、これに限定されること
はない。

このような不斉加水分解反応終了後、不斉加水分解反応
液をたとえばメチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エ
チルエーテル等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶
媒を留去したのち濃縮残渣をカラムクロマトグラフィー
で処理する等の方法により不斉加水分解生成物である光
学活性なアルコール類（Ｖ）と不斉加水分解残である光
学活性なエステル類〔原料エステル頬面中の光学活性体
のうち不斉加水分解されなかったもの〕を分離すること
ができる。

ここで得られた光学活性なエステル類は必要に応じて更
に加水分解し、先に得た光学活性なアルコール類（［）
とは対掌体の光学活性なアルコール類とすることもでき
る。

なお、この不斉加水分解反応でリパーゼとしてシュード
モナス属あるいはアルスロバクタ−属に属するリパーゼ
を用いる場合には比較的高い光学純度で光学活性なアル
コール類を得ることができろう また、この不斉加水分解の際、緩衝液に加えてトルエン
、クロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジクロルメ
タン等の反応に不活性な有機溶媒を使用することもでき
、これらを使用することによって不斉加水分解を有利に
行うことができる。

エステル類（Ｖ′）は、−殺伐（ＶＤ （式中、Ｒ′は炭素数１〜１６のアルキル基ま原子、低
級アルキル基、低級アルコキシル基またはハロゲン原子
である。Ｌは１または２である。） で示されるアルコール類を低級アルキルカルボン酸類と
反応させてアシル化することにより行われる。

このアシル化において、低級アルキルカルボン酸類とし
ては酢酸、プロピオン酸、酪酸、−吉草酸、ヘキサン酸
などの低級アルキルカルボン酸、それらの酸無水物また
は酸ハライド（たとえば酸クロライド、酸ブロマイド）
があげられる。

この反応において、低級アルキルカルボン酸類の使用量
はアルコール類（Ｖｌ）に対して１当量イ婁 この反応は、溶媒の存在下もしくは非存在下に、触媒を
用いて反応させることにより行われるが、アシル化剤と
して低級アルキルカルボン酸を用いる場合には、適切な
脱水剤が併用される。

この反応において溶媒を使用する場合、その溶媒として
は、たとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロ
ルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ヘキサ
ン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハロ
ゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または混
合物が使用され、その使用量については特に制限されな
い。

触媒としては、たとえばジメチルアミノピリジン、トリ
エチルアミン、トリーｎ−ブチルアミン、ピリジン、ピ
コリン、イミダゾール、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム等の有機あるいは無機塩基性物質が挙げられ、また
、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの
有機酸または無機酸を触媒として用いることもできる。

触媒の使用量は、使用する低級アルキルカルボン酸類の
種類、使用する触媒の組合わせ等によっても異なり、必
ずしも特定されないが、たとえば低級アルキルカルボン
酸類として酸ハライドを使用する場合には、該酸ハライ
ドに対して１当量倍以上である。

また低級脂肪族カルボン酸類として低級アルキルカルボ
ン酸を用いる場合に、併用する脱水剤としてはジシクロ
へキシルカルボジイミド等のカルボジイミド誘導体が特
に好ましく使用され、その使用量は、一般には低級アル
キルカルに対して０．０１当量倍以上使用されるが、特
に好ましくは０．０１〜１当量倍である。

反応温度は、通常−３０″Ｃ〜１００°Ｃであるが、好
ましくは一２０°Ｃ〜９０°Ｃである。

反応時間は特に制限されず、原料のアルコ−■ ル類■が反応系から消失した時点を反応終点とすること
ができる。

反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、濃
縮、再結晶等によりエステル類（Ｖ）が収率よく得られ
、これは必要により更にカラムクロマトグラフィー等で
精製することができるが、次工程へは反応混合物のまま
使用することができる。

アルコール類（Ｖｌ）は、−殺伐（■）（式中、Ｒ′お
よびＬは前記と同じ意味であも）で示されるケトン類に
、ケトンを還元してアルコールとすることのできる還元
剤を用いて還元することにより製造することができる。

かかる還元剤として、好適には水素化ホウ素ナトリウム
、水素化ホウ素亜鉛、アルミニウムイソプロポキシド、
リチウム−トリー１−クトキシアルミニウム水素化物、
リチウム−トリーＳ−ブチルホウ素水素化物、ボラン、
リチウムアルミニウム水素化物−シリカゲル、アルカリ
金属−アンモニア、ラネーニッケル−水素などが使用さ
れ、その使用量は原料ケトン類に対して少くとも１当量
倍以上必要であり、通常１〜１０当量倍の範囲である。

この反応は通常溶媒中で行われ、かかる溶媒としては、
たとえばテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエー
テル、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、ジクロルメタン等のエーテル、ハロゲン化
炭化水素、アルコール等の反応に不活性な溶媒の単独ま
たは混合物が使用される。

反応温度は通常、−８０°Ｃ〜１００″Ｃの範囲である
が、好ましくは一２０″Ｃ〜９０″Ｃの範囲である。

このようにして得られた反応混合物から、分液、濃縮、
蒸留、結晶化等の操作により、アルコール類（■１）を
収率よく得ることができるが、次工程のエステル類（Ｖ
）を得るためには必ずしもアルコール類（ｖｌ）を単離
する必要はなく、反応混合物のまま次工程へ進んでもよ
いっ 〈発明の効果〉 かくして、本発明の方法によれば、新規化合物である一
般式（１）で示される光学活性なエーテル類を工業的有
利に製造することができ、しかも本発明化合物は液晶用
材料として有用であるのみならず、農薬、医薬等の中間
体としても利用することができる。

〈実施例〉 以下、実施例により本発明を説明する。

実施例１ 攪拌装置、温度計を装着した４ツロフラスコに４−アセ
チル安息香酸メチル７１．２Ｆ（０，４モル）、テトラ
ヒドロフラン８０〇−およびエタノール１００−を仕込
み、１５〜２６°Ｃにて水素化ホウ素ナトリウム７６６
ｇ（０，２モル）を８時間を要して加える。同温度にて
５時間保温後、反応液を氷水中にあけ、酢酸エチル４０
０−にて２回抽出するっ有機層を減圧下に濃縮して４−
（１−ヒドロキシエチル）安息香酸メチル（１−１）７
１．０ｇ（収率９８．６％）を得た。

ここで得た（１−１　）７０．０ｆ（０，８８８モル）
をトルエン８００−およびピリジン１００ｄ中に溶解し
、これにアセチルクロリド３６．６１　（０，４６６モ
ル）を１６〜２０°Ｃにて２時間を要して加えるっその
後、同温度で１時間、４０〜５０″Ｃで２時間保温する
。

反応終了後、１０°Ｃ以下に冷却したのち水６００−を
加え、有機層を分液ののち２Ｎ−塩酸水、水、５％炭酸
ナトリウム、水にて順次洗浄するっ有機層を減圧下に濃
縮し、残渣をさらにカラムクロマトにて精製して４−（
１−アセトキシエチル）安息香酸メチル（ＩＶ−１）８
５．２Ｎ（収率９９％）を得た。

ここで得た（ｆｆ−１）７２．０ｆ（０，８２４モル）
を０．８Ｍリン酸バッフｙ（ｐＨ７，５）４００−およ
びアマノリパーゼ「ＰＪ４．８１と混合し、４０〜４５
°Ｃで４０時間激しく攪拌する。反応終了後、反応混合
物をメチルイソブチルケトン６００−にて抽出するっ有
機層を減圧下に濃縮し、残渣をヘキサン：酢酸エチル（
１２：１）混合液を展開溶媒としてカラムクロマト精製
して（±−４−（１−ヒドロキシエチル）安息香酸メチ
ル（マー１　＞２５．５２１１（（ａ）、＋４１８＠　
（Ｃ＝１゜Ｃ）ＩＣＩＭ）、９９．４％ｅｅ、融点５２
〜５８°Ｃ〕、および未反応エステル３９．８１を得た
つここで得た〔マー１〕８．６ｆ（０，０２モル）をジ
メチルホルムアミド８０−に溶解し、ｌ。

イと °Ｃに冷却する。これに水素績ナトリウム０．６２＃（
０，０２６モル）を加え、８０〜８５°Ｃで１時間保温
する。次にｎ−プロビルトシレー）Ｌｏｔ（０，０２８
モル）を２０〜２５°Ｃにて加え、４０″Ｃにて５時間
反応させる。反応終了後、反応混合物を水中にあけ、酢
酸エチル５０−にて抽出する。有機層を水にて洗浄後、
減圧下に濃縮する、濃縮残渣をカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し、（→−４−（１−プロポキシエチル）安
息香酸メチル（１−１）　４．０１　（収ＥＫ９０Ｊ／
ｐ　）　ヲ得り、　ｒ　ｒα’：］２゜＋６８．４°　
（ｃ　＝　１　、　ＣＨＣｌ、）、ｎ、　１．４９２８
〕実施例２ 実施例１で得た〔Ｖ−１〕８．６Ｎ　（０，０２モル）
とＮ−メチルピロリドン８０−からなる溶液を５°Ｃに
冷却し、これに水素化ナトリウム０．９５ｇ（０，０４
モル）を加える。後、８０〜８５°Ｃにて１時間保温す
る。次にヨウ化メチル７、１９　（０，０５モル）を１
５〜２０°Ｃにて加える。後、２０〜８０　’Ｃで２時
間、さらに４０〜５０’Ｃにて２時間反応させる。

反応終了後、反応混合物を水中にあけ、酢酸エチル６０
−にて抽出する。以下、実施例１に準じて後処理して（
ト）−４−（１−メトキシエチル）安息香酸メチル（１
−２）８．５９Ｆ（収率９２．５％）を得た。

〔〔α〕Ｄイ５．９’　　（ｃ　＝　１　、　ＣＨＣｂ
　）、実施例８ 実施例１で得た（’Ｖ−１”３８．６ｇ（０，０２モル
）とジメチルホルムアミド８０−からなる溶液を１０°
Ｃに冷却し、これに水素化ナトリウム０．６２１　（０
，０２６モル）を加え、８０〜３５°Ｃにて１時間保温
する。次にｎ−へキシルトシレート７、６９１　（０，
０８モル）を２０〜２５°ＣＩＣで加え、４０〜５０”
Ｃにて５時間反応させる。反応終了後、実施例１に準じ
て後処理して（４−１−４−（１−へキシルオキシエチ
ル）安息香酸メチルｒｌ−８）４−６（ｉｆ（収率９２
％）を得たつ 〔〔αＩＤ＋６０．６・　（ｃ　＝　１　、　ＣＨＣ１
ｓ　）、ｎｏ　１．４９２２ 実施例４ 実施例１で得た〔Ｙ−１〕８．ｆ３Ｆ（０，０２モル）
をジメチルホルムアミド２０１ｍＡｌおよびテトラヒド
ロフラン１０−からなる溶液に溶解し、１０″Ｃに冷却
する。これに水素化ナトリウム０．６２１１　（０，０
２６モル）を加え、８０〜８５°Ｃにて１時間保温する
。

次にω−エトキシプロピルトシレート８．２６ｆ（０，
０８２モル）を２０〜２５°Ｃにて加え、５０〜６０’
Ｃにて５時間反応させる。反応終了後、実施例１に準じ
て後処理して（ト）−４−（１−エトキシプロポキシエ
チル）安息香酸メチル（１−４’１４．７９ｇ（収率９
０％）を得たつ 〔〔α〕Ｄ　÷４６．５°（ｃ　＝　１　、　ＣＨＣｌ
ｇ）、ｎ　ｎ　　１−４９８８〕 実施例５ 攪拌装置、温度計を装着した４ツロフラスコに４′−ア
セチル−４−ビフェニルカルボン酸エチル８２．２ｇ（
０，１２モル）、クロロホルム１５０−およびエタノー
ル５０−全仕込み、１５〜２５°Ｃにて水素化ホウ素ナ
トリウム、２．８９（０，０６モル）を１０分間を要し
て加える。同温度にて２時間保温後、反応液を氷水中に
あけ、酢酸エチル２００−にて２回抽出するっ有機層を
水洗後、減圧下に濃縮して４’−（１−とドロキシエチ
ル）−４−ビフェニルカルボン酸エチル（１−５）８０
．８ｇ（収率９５％）を得たつ ここで得た（鳳−５）２９．７ｇ（０，１１モル）をト
ルエン１５０−およびピリジン５〇−中に溶解し、これ
にアセチルクロリド９．４２’ｌ　（０，１２モル）を
１５〜２０°Ｃにて２時間を要して加える。その後、同
温度で１時間、４０〜５０’Ｃで２時間保温する。反応
終了後、１０″Ｃ以下に冷却したのち８Ｎ塩酸８００ｍ
を加え、有機層を分液ののち水、５％炭酸水素ナトリウ
ム、水にて順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮し、残
渣をさらにカラムクロマトにて精製して４″−（１−ア
セトキシエチル）−４−ビフェニルカルボン酸エチル（
■−５）８８．７ｇ（収率９８％）を得た。

ここで得た（ｆｆ−５）２０．０ｇ（６４ミリモル）を
０．１Ｍリン酸バッフｙ　（ｐ　Ｈ７，５）４００−お
よびアマノリパーゼ「ＰＪ４ｆと混合し、４０〜４５゛
Ｃで２０時間激しく攪拌する。反応終了後、反応混合物
をメチルイソブチルケトン６００．ｄｉごて抽出するっ
有機層を減圧下に濃縮し、残渣をヘキサン：酢酸エチル
（１２：１）混合液を展開溶媒としてカラムクロマト精
製して（旧−４’−（１−ヒドロキシエチル）−４−ビ
フェニルカルホン酸ｘチル（Ｖ−５）７．０１　（（ａ
）Ｓｏ−ｉ−８５，５°　（Ｃ＝０．５４４　、　ＣＨ
Ｃｌｘ　）、９８．１％ｅｅ、融点７４．６°Ｃ〕およ
び未反応エステル１０、８９を得た。

にでｆｆだ（Ｖ−５１１，０Ｆ（８，７ミリモル）をジ
メチルホルムアミドＳｏｄに溶解し、１０゛Ｃに冷却す
るうこれに水素化ナトリウム０、１９１　（４，８ミリ
モル）を加え、８０〜８５０Ｃで１時間保温するっ次に
ｎ−プロピルトシレート１．０ｆ（４，８ミリモル）を
２０〜２５°Ｃにて加え、４０”Ｃにて５時間反応させ
るっ反応終了後、反応混合物を水中にあけ、酢酸エチル
５０−にて抽出するっ有機層を水にて洗浄後、減圧下に
濃縮する。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーにて精
製し、（ト）−４′−（１−プロポキシエチル）−４−
ビフェニルカルボン酸エチル（１−５）０．８７ｆ（収
率７５％）を得た。〔〔α’）、＋７８．１”　（ｃ＝
０、９８　、　ＣＨＣｌｇ）　　、　ｎ　　＝１．５５
４２　’）実施例６ 実施例５で得た〔Ｖ−５〕１．０ｇ（８，７ミリモル）
とＮ−メチルピロリドン８０−からなる溶液を５　’Ｃ
に冷却し、これに水素化ナトリウム０．１９ｇ（４，８
ミリモル）を加えるっ後、８０〜８５゛Ｃにて１時間保
温する１次にヘキシルトシレート１，２８Ｎ（４，８ミ
リモル）を１５〜２０℃にて加えるっ後、２０〜８゜°
Ｃで２時間、さらに４０〜５０°Ｃにて２時間反応させ
る。反応終了後、反応混合物を水中にあけ、酢酸エチル
６０−にて抽出する。以下、実施例５に準じて後処理し
て（→−４’−（１−へキシルオキシエチル）−４−ビ
フェニルカルボン酸エチル（１−６）１．０９Ｎ（収率
８８％）を得たつ 〔〔αＩＤ−１＝６４．５・　（ｃ　＝　１．０１　、
　ＣＨＣＩＭ　）、ｎ、　　１．５４６２’１ 実施例７ 実施例５で得た〔１−５１１．０ｇ（８，７ミリモル）
とジメチルホルムアミド８０−からなる溶液を１０℃に
冷却し、これに水素化ナトリウム０．１９１　（４，８
ミリモル）を加え、８０〜３５°Ｃにて１時間保温する
。次にｎ−ドデシルトシレート１．６８Ｎ（４，８ミリ
モル）を２０〜２５°Ｃにて加え、４０〜５０″Ｃにて
５時間反応させろう反応終了後、実施例６に準じて後処
理して（＋）−４’−（１−ドデシルオキシエチル）−
４−ビフェニルカルボン酸エチル（１−７）１．８１Ｎ
（収率８１％）を得た。

〔〔α〕Ｄ　半４６．０°　（Ｃ＝　０．９９　、　Ｃ
ＨＣｔｘ　）。

ｎＤｌ−５２９１〕 実施例８ 実施例５で得た〔Ｖ−５１１，（ｉｆ（８，７ミリモル
）をジメチルホルムアミド２０−およびテトラζドロフ
ラン１０−からなる溶液に溶解し、１０″Ｃ１ζ冷却す
る。これに水素化ナトリウム０．１９１　（４，８ミリ
モル）を加え、３０〜３５°Ｃにて１時間保温するっ 次にω−エトキシプロピルトシレート１゜２４ｇ（４，
８ミリモル）を２０〜２５゛Ｃにて加え、５０〜６０°
Ｃにて５時間反応させる。反応終了後、実施例５に準じ
て後処理して（ト）−４′−（１−エトキシプロポキシ
エチル）−４−ビフェニルカルボン酸エチル（１−８）
０．９５ｇ（収率７２％）を得たう （Ｃａ〕Ｄ＋６６．５＠（Ｃ＝０．９７８　、ＣＨＣｔ
ｘ　）　’］実施例９ ４−アセチル安息香酸メチルに代えて、４−アセチル安
息香酸ドデシル６６．４ｇ（０，２モル）を用いる以外
は実施例１に準じて反応、後処理等をおこない、（ホ）
−４−（１−ヒドロキシエチル）安息香酸ドデシル（Ｖ
−９）２６、　Ｂ　９　ＣＣａ〕Ｄ”　＋２１−７°　
（（：＝１゜ＣＨＣｚ、　）１を得たつ ここで得た（Ｖ−９）８．ｆ３４Ｎ（１０ミリモル）を
ジメチルホルムアミド８０−に溶解し、１０゛Ｃに冷却
するっこれに水素化ナトリウム０．４８Ｎ（１２ミリモ
ル）を加え、８０〜４０”Ｃで１時間保温する。次にｎ
−へキシルトシレート８．１ｇ（１２ミリモル）を２０
〜２５°Ｃにて加え、４０°Ｃにて５時間反応させるう
反応終了後、反応混合物を氷水中にあけ、トルエン１０
０−で抽出処理する。有機層を水で洗浄後、減圧下に濃
縮する。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーＩζで精
製し、円−４〜（１−へキシルオキシエチル）安息香酸
ドデシル（Ｉ−９）８．４’Ｍ（収率８８ＣＨＣＡｘ）
　、ｎｎ　＝＝　１．４９７０１実施例１０ ４′−アセチル−４−ビフェニルカルボン酸エチルに代
えて４′−アセチル−４−ビフェニルカルボン酸オクチ
ル１７．６ｇ（０，０５モル）を用いる以外は実施例５
に準じて反応、後処理等をおこない、（ト）−４’−（
１−ヒドロキシエチル）−４−ビフェニルカルボン酸オ
クチル（Ｖ−１０）７．６ｇ（収率４３％）〔〔α〕＋
ｌ　７．８’　（ｃ＝１　、　ＣＨＣｚｘ）　、融り 点７０〜７１°Ｃ〕を得た。

ココテ得ｔ＝（Ｖ−１０）８．５４ｆ（ＩＯミリモル）
をジメチルホルムアミド３０−に溶解し、１０℃に冷却
するっこれに水素化ナトリウム０．４８ｇ（１２ミリモ
ル）を加え、８０〜４０°Ｃで１時間保温するっ次にｎ
−へキシルトシレー）３．１４（１２ミリモル）を２０
〜２５°Ｃにて加え、４０°Ｃにて５時間反応させる。

反応終了後、反応混合物を氷水中にあけ、トルエン１０
０−にて抽出する。有機層を水にて洗浄後、減圧下に濃
縮する。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製
して、（→−４’−（１−へキシルオキシエチル）−４
−ビフェニルカルボン酸オクチル８．５５Ｎ実施例１１ 攪拌装置、温度計を装着した４ツロフラスコに４−アセ
チル安息香酸ベンジル８０．４９Ｎ　（０，１２モル）
、クロロホルム１５０−およびエタノール５０−を仕込
み、１５〜２５°Ｃにて水素化ホウ素ナトリウム２．８
ｇ（０，０６モル）を１０分間を要して加えるっ同温度
にて２時間保温後、反応液を氷水中にあけ、酢酸エチル
２００ｍにて２回抽出する。有機層を水洗したのち、減
圧下に濃縮して４−（１−とドロキシエチル）安息香酸
ベンジル（厘−１１）２９．２Ｆ（収率９５％）を得た
。

ここで得た（１−１１　）２７．９５Ｎ（０，１１モル
）をトルエン１５０−およびピリジン５〇−中に溶解し
、これにアセチルクロリド９．４２Ｎ（０，１２モル）
を１５〜２０’Ｃにて２時間を要して加える。その後、
同温度で１時間、８０〜８５°Ｃで２時間保温する。反
応終了後、１０°Ｃ以下に冷却したのち８Ｎ塩酸水８０
０ｄを加え、有機層を分液ののち水、５％炭酸水素ナト
リウム、水にて順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮し
、残渣をさらにカラムクロマトにて精製して４−（１−
アセトキシエチル）安息香酸ベンジル（ＩＶ−１１）　
８２．１４ｇ（収率９８％）を得たつ ここで得た（■−１１’）　１９．０８１（０，０６４
モル）を０．１Ｍリン酸バッファ（ｐＨ７，０）４００
ｍＡ、クロロホルム１０−およびアマノリパーゼ（−Ｐ
」４ｇと混合し、４０〜４５°Ｃで２０時間激しく攪拌
する。反応終了後、反応混合物をメチルイソブチルケト
ン６０〇−にて抽出する。

有機層を減圧下に濃縮し、残渣をヘキサン：酢酸エチル
（１２：１）混合液を展開溶媒としてカラムクロマト精
製して（→−４−（１−ヒドロキシエチル）安息香酸ベ
ンジル（Ｙ−１１）７．２１ｇ〔ｒα１　ｎ　”　３５
−４　’　　（ｃ　＝１　、ＣＨＣｂ　）　、ｎＤ＝：
　１．５６９１１、および未反応エステル９．８ｇを得
たう にｔ’ＳたｒＶ−１１〕１．２８ｊ’（５Ｅ’Ｊモル）
をＮ−メチルピロリドン１５ｍ！！に溶解し、１０″Ｃ
に冷却する。これに水素化ナトリラム０．１５　Ｑ　（
６ミリモル）を加え、８０〜８５°Ｃで１時間保温する
っ次にｎ−ドデシルトシレート２．１　ＩＩ　（６ミリ
モル）を２０〜２５°Ｃにて加九、４０°Ｃにて５時間
反応させるう反応終了後、反応混合物を水中にあけ、酢
酸エチル５０−にて抽出する。有機層を水にて洗浄後、
減圧下に濃縮する。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し、（ホ）−４−（１−ドデシルオキシエチ
ル）安息香酸ベンジルを１．７４Ｎ（収率８２％）得た
。

ｎ　　＝１．５０１６　　　　Ｃａ〕Ｄ＝＋８２．４−
（Ｃ＝１゜ＣＨＣｔ、　） 実施例１２ 攪拌装置、温度計を装着した４つロワラス中 コ４−アセチル安息香酸メチルベンジルエステル８２．
１７１　（０，１２モル）、エタノール５０−、ジクロ
ルメタン１００．ｄおよびＴＨＦ５０−を仕込み、これ
に１５〜２５°Ｃにて水素化ホウ素ナトリウム２．８　
ＩＩ　（０，０６モル）を１０分間を要して加えるっ同
温度にて２時間保温後、反応混合物を氷水中にあけ、実
施例１１と同様に後処理を行−で４−（１−ヒドロキシ
エチル）安息香酸メチルベンジルエステル（１！ｌ−１
２）８１．４８ｇ（収率９７％）を得た。

次にここで得た（１−１２）２９．７１ｇ（０，１１モ
ル）をジクロルメタン２００ｄおよびピリジン５０−か
らなる混合液に溶解し、これに塩化アセチル９．４２１
　（０，１２モル）を含むジクロルメタン溶液５０−を
室温にて滴下するう約２時間後、反応液を８Ｎ塩酸８０
０−に注ぎ出し、抽出操作を行うっ有機層を水、７％重
曹水、水にて順次洗浄をしたのち無水硫酸マグネシウム
で乾蟻する。溶媒を留去して薄黄色油状の４−（１−ア
セトキシエチル）　安息香酸メチルベンジルエステル（
Ｎ−１２）８Ｂ、８１（収率９７％）を得た。

上で漫た（ＪＴ−１２）１５．６ｇ（５０ミリモル）を
０．８　Ｍリン駿バッファ（ｐＨ７，（１２００ｔｄ、
クロロホルムｌＯ−およびアマノリパーゼｌ’−ＰＪ８
Ｎと混合し、８８〜４０″Ｃで２４時間激しく攪拌する
。

反応終了後、反応混合物を酢酸エチル６０ｊ）−にて抽
出処理する。有機層を減圧下に濃縮し、その残渣をヘキ
サン：酢酸エチル＝１２：１の混合液を展開溶媒として
カラムクロマト分離舎精製して（→−４−（１−ヒドロ
キシエチル）安息香酸メチルベンジルエステル（Ｖ−１
２）５．９５１［”（”α１．＋８６．８＠（ｃ　＝１
　、ＣＨＣＡＭ　）　　、ｎＤｌ−５６８８１を得たつ ｌｔ’得？＝（Ｖ−１２）１．８５ｆ（５ミリモル）を
ジメチルホルムアミド１５−に溶解し、１０″Ｃに冷却
する。これに水素化ナトリウム０、１５１　（６ミリモ
ル）を加え、８０〜８５°Ｃで１時間保温する。次暑ζ
ω−エトキシプロピルトシレート１．５５ｇ（６ミリモ
ル）を２０〜２５°Ｃにて加え、８５〜４０°Ｃにて５
時間反応させる。反応終了後、実施例１１に準じて後処
理・精製し、（−１−）−４−（１−ω−エトキシプロ
ポキシエチル）安息香酸メチルベンジルエステル（Ｉ−
１２）１．８７ｇ（収率７７％）を得た。

〔〔α）Ｄ＝＋５２．ｉｏ　（ｃ＝１　、　ＣＨＣＡ、
）　。

ｎＤ＝１．５１８０〕 実施例１８ ４−アセチル安息香酸メチルベンジルエステルに代えて
、４−アセチル安息香酸メトキシベンジルエステル８４
．０９１　（０，１２モル）を使用する以外は実施例１
１に準じて反応、後処理ヲ行い、（＋３−４−（１−ヒ
ドロキシエ％　７１／　）　安息香ａｔメトキシベンジ
ルエステル（マー１８）得ｉ１２．８４１を得た。

〔α〕、−１−８７．２・　（ｃ　＝　１　、　ＣＨＣ
ｚ、）Ｓ ｎＤ　１．５７２１ 尚、各中間体の収率は以下のとおりである。

４−（１−ヒドロキシエチル）安息香酸メトキシベンジ
ルエステル（１−１８）　　収率９６．５％ ４−（１−アセトキシエチル）安息香酸メトキシベンジ
ルエステル（■−１８）　　収率９８．５％ 上で得た（Ｖ−１３）１．４８ｇ（５ミリモル）をジメ
チルホルムアミド１５−に溶解し、１０°Ｃに冷却する
。これに水素化ナトリウム０、１５９　（６ミリモル）
を加え、８０〜８５°Ｃで１時間保温するっ次に、ヨウ
化メチル２、１１　（１５ミリモル）を２０〜２５°Ｃ
にて加え、同温度にて８時間、さらに４０℃にて８時間
反応させる。反応終了後、実施例１に準じて後処理・精
製する。

（＋３−４−（１−メトキシエチル）安息香酸メトキシ
ベンジルエステル（１−１８）　１．８６ｆ　（収率９
１％）を得た。

〔〔α〕っ　＝＋５８．２°　（ｃ　＝　１　、　ＣＨ
Ｃｚ＆）、ｎＤ＝１．５０４８〕 実施例１４ 攪拌装置、温度計を装着した４ツロフラスコに４′−ア
セチル−４−ビフェニルカルボン酸ｐ−クロルベンジル
８６．５ｇ（０，１モル）、クロロホルム１５０−およ
びエタノール５０−を仕込み、１５〜２５°Ｃにて水素
化ホウ素ナトリウム８．８ｇ（Ｑ、１モル）を１０分間
を要して加えるっ同温度にて２時間保温後、反応液を氷
水中にあけ、酢酸エチル２００−にて２回抽出する。有
機層を水洗後、減圧下に濃縮して４−（１−とドロキシ
エチル）−４−ビフエニルカルポン酸ｐ−クロルベンジ
ル（厘−１４）８８．５Ｆ　　（収率９９．５％）をこ
こで得た（１−１４）８：３．０ｆ（０，０９モル）を
トルエン１５０−およびピリジン５０−中に溶解し、こ
れにアセチルクロリド９、４２１　（０，１２モル）を
１５〜２０°Ｃにて２時間を要して加える。その後、同
温度で１時間、４０〜５０″Ｃで２時間保温する。反応
終了後、１０’Ｃ以下に冷却したのち８Ｎ塩酸８００−
を加え、有機層を分液ののち水、５％炭酸水素ナトリウ
ム、水にて順次洗浄する。

有機層を減圧下に濃縮し、残渣をさらにカラムクロマト
にて精製して４’−（１−アセトキシエチル）−４−ビ
フェニルカルボン酸ｐ−クロロベンジル（ＩＶ−１４”
１８６．４Ｆ（収率９９．０％）を得た。

ここで得た（ｆｆ−１４）８２．７Ｎ（０，０８モル）
を０．１　Ｍリン酸バッファ（ｐＨ７，５）°Ｃで２０
時間激しく攪拌する。反応終了後、反応混合物をメチル
イソブチルケトン６０〇−にて抽出するっ 有機層を減圧下に濃縮し、残渣をヘキサン：酢酸エチル
（１２：１）混合液を展開溶媒としてカラムクロマト精
製して（ハ）−４’−（１−ヒドロキシエチル）−４−
ビフェニルカルボン酸ｐ−クロロベンジル（Ｖ−１４）
１８．８１〔〔ａ〕９　＋２１．７°　（Ｃ＝０．５４
４゜ＣＨＣｔｈ　）、　融点１０８〜１１０，５°Ｃ〕
および未反応エステル１６．５９を得た。

にで’４ｔ：ＣＶ−１４〕ｆ３．６５Ｎ（１０℃リモル
）をジメチルホルムアミド３０−に溶解し、１０°Ｃに
冷却する。これに水素化ナトリウム０．４８Ｎ（１２ミ
リモル）を加え、８０〜８５°Ｃで１時間保温する。次
にｎ−オフタデシルトシレー）５．１＃（１２ｉ：リモ
ル）を２０〜２５°Ｃにて加え、４０゛Ｃにて５時間反
応させる。

反応終了後、反応混合物を水中にあけ、酢酸エチル５０
−にて抽出する。有機層を水にて洗浄後、減圧下に濃縮
するっ濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し
、（ト）−４′−（１−オクタデシルオキシエチル）−
４−ビフェニルカルボン酸ｐ−クロロベンジル５．０７
ｇ（収率８２％）を得た。〔〔α〕、＋２１．１・（ｃ
＝０．９８　、　ＣＨＣＬ　）、　ｎｎ　　＝１−５８
１　”）実施例１５ 実施例１で得たｒＶ−１１１，８ｇ（１０ミリモル）を
ジメチルホルムアミド３０−に溶解し、１０゛Ｃに冷却
する。これに水素化ナトリウムＱ、ａｇ（１８主リモル
）を加え、８０〜８６°Ｃで１時間保温する。次にｎ−
ノニルトシレート４．２ｇ（１４ミリモル）を２０〜２
５°Ｃ腎茄え、４０°Ｃにて８時間反応させる。

反応終了後、反応混合物を水中にあけエーテル１００−
にて抽出する。有機層を水にて洗浄後、減圧下に濃縮す
る。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、
（ト）−４−（１−ノニルオキシエチル）安息香酸メチ
ル（１−１５）２．５４１（収率８３％）を得たつ〔〔
α〕っ＋３５．１・　（ｃ＝１　、ＣＨＣｔｓ　）、ｎ
Ｄｌ、４８５６１ 実施例１６〜１８ ｎ−ノニルトシレートを第１表に示すアルキル化剤に代
える以外は実施例１５に準じて反応、後処理し、第１表
に示す結果を得なう実施例１９ 攪拌装置、温度計を装着した４ツロフラスコに４−アセ
チル−４−ビフェニルカルボン酸ベンジルエステル８３
．０ｇ（０，１モル）、テトラヒドロフラン２００ｄお
よびエタノール５０−を仕込み、１５〜２５°Ｃにて水
素化ホウ素ナトリウム３．８ｇ（０，１モル）を１０分
間を要して加える。同温度にて２時間保温後、反応液を
氷水中にあけ、クロロホルム３００．１７！にて２回抽
出するっ有機層を水洗後、減圧下に濃縮して４−（１−
ヒドロキシニチＪＬ／　）−４−ビフェニルカルボン酸
ベンジルエステル（ｌ−１９）８２．９ｇ（収率９９％
）を得た。

ここで得た（１−１９　”１２９．９Ｎ（０，０９モル
）をトルエン１５０ｍおよびピリジン５０−中に溶解し
、これにアセチルクロリド９．４２９　（０，１２モル
）を１５〜２０℃にて２時間を要して加える。その後、
同温度で２時間、４０〜４５°Ｃで２時間保温する。反
応終了後、１０°Ｃ以下に冷却したのち３Ｎ塩酸３００
ｍｇを加え、有機層を分液ののち水、５％炭酸水素ナト
リウム、水にて順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮し
、残渣をさらにカラムクロマトにて精製して４’−（１
−アセトキシエチル）−４−ビフェニルカルボン酸ベン
ジルエステル（ｒＶ−１！Ｊ）８３．０ｇ（収率９８％
）を得た。

ここで得た（ｆｆ−１９）２９．９ｇ（０，０８モル）
をＱ、　Ｉ　Ｍリン酸バッファ（ｐＨ７，５）８００−
およびアマノリパーゼ（−ＰＪ６．ＯＱと混合し、３０
〜３５°Ｃで２０時間激しく攪拌する。反応終了後、反
応混合物をメチルイソブチルケトン６００１ａｔにて抽
出する。

としてカラムクロマト精製して（−１−３−４’−（１
−ヒドロキシエチル）−４−ビフェルカルボン酸ベンジ
ルエステル（Ｖ−１９）１０．６ｆ〔〔α〕、半２３．
７°　（ｃ＝　１．０　、　ＣＨＣｚ　）、融点１０４
〜１０６°Ｃ〕を得た。

ここで得た（Ｖ−１９）１６６ｇ（５ミリモル）をジメ
チルホルムアミド２０−に溶解し、１０°Ｃに冷却する
。これに水素化ナトリウム０．１５　Ｎ　（６ミリモル
）を加え、８０〜８５°Ｃで１時間保温する。次にｎ−
オクチルトシレート１．７ｇ（６ミリモル）を２０〜２
５℃にて加え、４０℃にて５時間反応させる。

反応終了後、反応混合物を水中にあけ、クロロホルム５
０−にて抽出するっ有機層を水にて洗浄後、減圧下に濃
縮する。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製
し、（→−４′−（１−オクチルオキシエチル）−４−
ビフェニルカルボン酸ベンジルエステル（１−１９）１
．４９ＩＣ収率８１％）を得た。

〔〔α〕、＋２６．２°　（ｃ　＝　１．０　、　ＣＨ
Ｃｚ、〕、ｎ　　＝１．５５８４’） 実施例２０ 実施例１１で得た（Ｖ−１１）２．５６ｇ（０，０１モ
ル）をＮ−メチルピロリドン２０−に溶解し、１０″Ｃ
に冷却する。これに水素化ナトリウム０．８１１　（０
，０１８モル）を加え、８０〜８５℃で１時間保温する
っ 次にｎ−へキシルトシレート８．６１　（０，０１４モ
ル）を２０〜２５℃にて加え、４０°Ｃにて有機層を水
にて洗浄後、減圧下に濃縮する。

濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、（→
−４−（１−へキシルオキシエチル）安息香酸ベンジル
（１−２（１８，１１Ｎ（収率９２％）を得た。

〔“〕Ｄ＝＋６０．８°　（ｃ＝１．ＣＨＣｚ）、ｎ、
＝１．５２１０ 実施例２１ 実施例１１で得た〔Ｖ−１１〕１．２８ｆ（５ミリモル
）をジメチルホルムアミド１５−に溶解し、１０″Ｃに
冷却するっ次に水素化ナトリウム０．１５！９（６ミリ
モル）を加え、８０〜３５°Ｃで１時間保温する。次に
ｓ−２−メチルブチルトシレート１．４６Ｎ（６ミリモ
ル）を２０〜２５°Ｃにて加え、４０’〜５０゛Ｃにて
５時間反応させる。以下、実施例１１に準じて後処理、
精製する。

（＋ｌ−４−（１−ｓ−２’−メチルブトキシエチル）
安息香駿ベンジルエステル（Ｉ−２１）１．４ｏｙ（収
率８６％）を得たつ 〔α〕、＝５９．８°　（ｃ　＝　１　、　ＣＨＣｚ、
）、ｎＤ　−１，５１９０ 実施例２２ 実施例１９で得たｒＶ−１９〕１．６６Ｎ（５ミリモル
）をジメチルホルムアミド２〇−に溶解し、１０″Ｃに
冷却する。次に水素化ナトリウム０．１５１　（６ミリ
モル）を加え、８０〜８６°Ｃで２時間保温するっ次に
プロピルプロミド１．２２Ｎ（１０ミリモル）を２０〜
２５°Ｃにて加え、同温度にて２時間、さらに４０〜５
０℃にて５時間反応させろう反応終了後、実施例１９に
準じて後処理、精製し、（→−４’−（１−プロポキシ
エチル）−４−ビフェニルカルボン酸ベンジルエステル
（１−２２）１．５０Ｆ（収率８０％）を得た。

〔α］、＋５６．８・　（ｃ　＝　１．０　、　ＣＨＣ
ｚ、）（以下余日ジ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基またはアルコ
   キシアルキル基を、Ｒ′は炭素数１〜１５のアルキル基
   または▲数式、化学式、表等があります▼基を 示す。ここで、Ａは水素原子、低級アルキル基、低級ア
   ルコキシル基またはハロゲン原子である。ｌは１または
   ２であり、＊印は不斉炭素原子である。） で示される光学活性なエーテル類。
2. （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ′は炭素数１〜１５のアルキル基または▲数
   式、化学式、表等があります▼基を示す。ここで、Ａは 水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ シル基またはハロゲン原子である。 ｌは１または２であり、＊印は不斉炭素 である。） で示される光学活性なアルコール類を、一般式 Ｒ−Ｘ （式中、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基 またはアルコキシアルキル基を示し、Ｘは ハロゲン原子または−ＯＳＯ＿２Ｒ′″を示す。ここで
   Ｒ′″は低級アルキル基または置換されていてもよいフ
   ェニル基を示す） で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
   一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ′、ｌおよび＊印は前記と同じ意味を有
   する） で示される光学活性なエーテル類の製造法。
3. （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ″は低級アルキル基を示し、Ｒ′は炭素数１
   〜１５のアルキル基または ▲数式、化学式、表等があります▼基をしめす。ここで
   、Ａは水素原 子、低級アルキル基、低級アルコキシル基またはハロゲ
   ン原子である。ｌは１または２ である。） で示されるエステル類を、該エステル類の光学活性体の
   うちのいずれか一方を加水分解する能力を有するエステ
   ラーゼを用いて不斉加水分解して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ′およびｌは前記と同じ意味を有する。＊印
   は不斉炭素原子である。） で示される光学活性なアルコール類を得、これを一般式 Ｒ−Ｘ （式中、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基 またはアルコキシアルキル基を示し、Ｘは ハロゲン原子または−ＯＳＯ＿２Ｒ′″を示す。ここで
   Ｒ′″は低級アルキル基または置換されていてもよいフ
   ェニル基を示す） で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
   一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ′、ｌおよび＊印は前記と同じ意味を有
   する。） で示される光学活性なエーテル類の製造法。
4. （４）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ′は炭素数１〜１５のアルキル基または▲数
   式、化学式、表等があります▼基を示す。ここでＡは 水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ シル基またはハロゲン原子である。ｌは１ または２である。） で示されるアルコール類を、低級アルキルカルボン酸類
   と反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ′およびｌは前記と同じ意味を有し、Ｒ″は
   低級アルキル基を示す。） で示されるエステル類を得、これを該エステル類の光学
   活性体のうちのいずれか一方を加水分解する能力を有す
   るエステラーゼを用 いて不斉加水分解して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ′およびｌは前記と同じ意味を有する。＊印
   は不斉炭素原子である） で示される光学活性なアルコール類を得、これを一般式 Ｒ−Ｘ （式中、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基 またはアルコキシアルキル基を示し、Ｘは ハロゲン原子または−ＯＳＯ＿２Ｒ′″を示す。ここで
   Ｒ′″は低級アルキル基または置換されていてもよいフ
   ェニル基を示す） で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
   一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ′、ｌおよび＊印は前記と 同じ意味を有する。） で示される光学活性なエーテル類の製造法。
5. （５）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ′は炭素数１〜１５のアルキル基または▲数
   式、化学式、表等があります▼基を示す。ここでＡは水 素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ ル基またはハロゲン原子を示す。ｌは１ま たは２である。） で示されるケトン類を還元剤を用いて還元して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ′およびｌは前記と同じ意味を有する） で示されるアルコール類を得、これを低級アルキルカル
   ボ ン酸類と反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ′およびｌは前記と同じ意味を有し、Ｒ″は
   低級アルキル基を示す。） で示されるエステル類を得、次いで該エステル類の光学
   活性体のうちのいずれか一方を加水分解する能力を有す
   るエステラーゼを用いて不斉加水分解して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ′およびｌは前記と同じ意味を有する。＊印
   は不斉炭素原子である） で示される光学活性なアルコール類を得、更に一般式 Ｒ−Ｘ （式中、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基 またはアルコキシアルキル基を示し、Ｘは ハロゲン原子または−ＯＳＯ＿２Ｒ′″を示す。ここで
   Ｒ′″は低級アルキル基または置換されていてもよいフ
   ェニル基を示す） で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
   一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ′、ｌおよび＊印は前記と同じ意味を有
   する） で示される光学活性なエーテル類の製造法。