JPH01221341A - 光学活性なエーテル誘導体およびその製造法 - Google Patents
光学活性なエーテル誘導体およびその製造法Info
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Landscapes
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、−綴代中
八
(式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基またはアルコ
キシアルキル基を、Aは水素原子、メチル基、メトキシ
基またはハロゲン原子を示す。lは1または2である。
キシアルキル基を、Aは水素原子、メチル基、メトキシ
基またはハロゲン原子を示す。lは1または2である。
※印は不斉炭素であることを示す。)
で示される光学活性なエーテル誘導体およびその製造法
に関する。
に関する。
〈従来の技術〉
前記−綴代(1)で示される光学活性なエーテル誘導体
は文献未記載の新規化合物であり、従来よりその製造法
については勿論のこと、化合物としての有用性について
も全く知られていない。
は文献未記載の新規化合物であり、従来よりその製造法
については勿論のこと、化合物としての有用性について
も全く知られていない。
〈発明が解決すべき課題〉
前記−綴代(I)で示される光学活性なエーテル誘導体
は、医薬、農薬等の中間体としても有用であるが、特に
有機電子材料とりわけ液晶化合物の中間体として非常に
有用である。
は、医薬、農薬等の中間体としても有用であるが、特に
有機電子材料とりわけ液晶化合物の中間体として非常に
有用である。
たとえば、該光学活性なエーテル誘導体は、次式に示さ
れるように、これを脱ベンジル化したのちベンゼン系カ
ルボン酸化合物と反応させることにより、新規な液晶化
合物へ導くことができ、該液晶化合物は強誘電性液晶と
して非常に優れた性質を有している。
れるように、これを脱ベンジル化したのちベンゼン系カ
ルボン酸化合物と反応させることにより、新規な液晶化
合物へ導くことができ、該液晶化合物は強誘電性液晶と
して非常に優れた性質を有している。
く課題を解決するための手段〉
本発明は、このような医、農薬中間体としては勿論、有
機電子材料とりわけ液晶化合物の中間体としても有用な
新規化合物である前記−綴代(1)で示される光学活性
なエーテル誘導体を提供するものである。
機電子材料とりわけ液晶化合物の中間体としても有用な
新規化合物である前記−綴代(1)で示される光学活性
なエーテル誘導体を提供するものである。
前記−綴代(1)で示される光学活性なエーテル誘導体
は、−綴代(1) (式中、A、lおよび※印は前記と同じ意味を有する) で示される光学活性なアルコール類を、−綴代■R−X
□□□) (式中、Rは前記と同じ意味を有し、Xはハロゲン原子
または−050,R’を示す。ここでR′は低級アルキ
ル基または置換されていてもよいフヱニル基を示す) で示されるアルキル化剤と反応させることにより製造す
ることができる。
は、−綴代(1) (式中、A、lおよび※印は前記と同じ意味を有する) で示される光学活性なアルコール類を、−綴代■R−X
□□□) (式中、Rは前記と同じ意味を有し、Xはハロゲン原子
または−050,R’を示す。ここでR′は低級アルキ
ル基または置換されていてもよいフヱニル基を示す) で示されるアルキル化剤と反応させることにより製造す
ることができる。
この反応は、通常塩基性物質の存在下に行われ、塩基性
物質としては水素化ナトリウム、水素化カリウムのごと
きアルカリ金属水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化カルシウムのごとき水酸化アルカリ金属
あるいは水酸化アルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムのごとき炭酸アルカリ金属、ブチルリチウム
などが、またリチウム、ナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属類が例示される。
物質としては水素化ナトリウム、水素化カリウムのごと
きアルカリ金属水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化カルシウムのごとき水酸化アルカリ金属
あるいは水酸化アルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムのごとき炭酸アルカリ金属、ブチルリチウム
などが、またリチウム、ナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属類が例示される。
かかる塩基性物質は光学活性なアルコール類(1)に対
して1当量倍以上必要であり、上限については特に制限
されないが、好ましくは5当量倍である。
して1当量倍以上必要であり、上限については特に制限
されないが、好ましくは5当量倍である。
この反応で使用されるアルキル化剤■とは、以下に例示
されるような炭素数1〜20のアルキル基またはアルコ
キシアルキル基を有するクロリド、プロミド、ヨード等
のハロゲン化物あるいは硫酸エステル類(メタンスルホ
ン酸エステル、エタンスルホン酸エステル、ベンゼンス
−ルホン酸エステル、トルエンスルホン酸エステル
等)である。
されるような炭素数1〜20のアルキル基またはアルコ
キシアルキル基を有するクロリド、プロミド、ヨード等
のハロゲン化物あるいは硫酸エステル類(メタンスルホ
ン酸エステル、エタンスルホン酸エステル、ベンゼンス
−ルホン酸エステル、トルエンスルホン酸エステル
等)である。
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル
、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデ
シル、エイコシル、メトキシメチル、メトキシエチル、
メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペンチル
、メトキシヘキシル、メトキシへブチル、メトキシオク
チル、メトキシノニル、メトキシデシル、エトキシメチ
ル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチ
ル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エトキシヘ
プチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エトキシ
デシル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポ
キシプロビル、プロポキシブチル、プロポキシペンチル
、プロポキシヘキシル、プロプキシオクチル、プロポキ
シデシル、ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブトキシ
プロピル、ブトキシブチル、ブトキシペンチル、ブトキ
シヘキシル、ブトキシヘプチル、ブトキシノニル、ペン
チルオキシエチル、ペンチルオキシエチル、ペンチルオ
キシプロピル、ペンチルオキシブチル、ペンチルオキシ
ペンチル、ペンチルオキシオクチル、ペンチルオキシデ
シル、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチル、
ヘキシルオキシプロピル、ヘキシルオキシブチル、ヘキ
シルへキシペンチル、ヘキシルオキシヘキシル、ヘキシ
ルオキシオクチル、ヘキシルオキシノニル、ヘキシルオ
キシデシル、ヘプチルオキシメチル、ヘプチルオキシエ
チル、ヘプチルオキシプロピル、ヘプチルオキシペンチ
ル、オクチルオキシメチル、オクチルオキシエチル、デ
シルオキシメチル、デシルオキシエチル、デシルオキシ
プロビル、イソプロピル、2−ブチル、1−メチルプロ
ピル、1−メチルヘキシル、8−メチルペンチル、4−
メチルヘキシル、2−メチルペンチル、2−メチルヘキ
シル、2−メチルへブチル、8−メチルヘキシル。
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル
、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデ
シル、エイコシル、メトキシメチル、メトキシエチル、
メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペンチル
、メトキシヘキシル、メトキシへブチル、メトキシオク
チル、メトキシノニル、メトキシデシル、エトキシメチ
ル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチ
ル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エトキシヘ
プチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エトキシ
デシル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポ
キシプロビル、プロポキシブチル、プロポキシペンチル
、プロポキシヘキシル、プロプキシオクチル、プロポキ
シデシル、ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブトキシ
プロピル、ブトキシブチル、ブトキシペンチル、ブトキ
シヘキシル、ブトキシヘプチル、ブトキシノニル、ペン
チルオキシエチル、ペンチルオキシエチル、ペンチルオ
キシプロピル、ペンチルオキシブチル、ペンチルオキシ
ペンチル、ペンチルオキシオクチル、ペンチルオキシデ
シル、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチル、
ヘキシルオキシプロピル、ヘキシルオキシブチル、ヘキ
シルへキシペンチル、ヘキシルオキシヘキシル、ヘキシ
ルオキシオクチル、ヘキシルオキシノニル、ヘキシルオ
キシデシル、ヘプチルオキシメチル、ヘプチルオキシエ
チル、ヘプチルオキシプロピル、ヘプチルオキシペンチ
ル、オクチルオキシメチル、オクチルオキシエチル、デ
シルオキシメチル、デシルオキシエチル、デシルオキシ
プロビル、イソプロピル、2−ブチル、1−メチルプロ
ピル、1−メチルヘキシル、8−メチルペンチル、4−
メチルヘキシル、2−メチルペンチル、2−メチルヘキ
シル、2−メチルへブチル、8−メチルヘキシル。
尚、これらのアルキル基あるいはアルコぷジアルキル基
が側鎖を有するものであって、光学活性となり得るもの
については、それが光学活性基であってもよい。
が側鎖を有するものであって、光学活性となり得るもの
については、それが光学活性基であってもよい。
このようなアルキル化剤但)の使用量は、光学活性なア
ルコール類(1)に対して1当量倍以上任意であるが、
通常は1〜5当量倍の範囲である。
ルコール類(1)に対して1当量倍以上任意であるが、
通常は1〜5当量倍の範囲である。
反応溶媒としては、たとえばテトラヒドロフラン、ジオ
キサン、エチルエーテル、メタノール、エタノール、n
−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、トル
エン、ベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン等のエ
ーテル、ハロゲン化炭化水素、アルコール等の反応に不
活性な溶媒の単独または混合物やジメチルスルホキシド
、ヘキサメチルホスホリルア又ド、N−メチルピロリド
ン等の極性溶媒を使用することができる。
キサン、エチルエーテル、メタノール、エタノール、n
−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、トル
エン、ベンゼン、クロロホルム、ジクロルメタン等のエ
ーテル、ハロゲン化炭化水素、アルコール等の反応に不
活性な溶媒の単独または混合物やジメチルスルホキシド
、ヘキサメチルホスホリルア又ド、N−メチルピロリド
ン等の極性溶媒を使用することができる。
反応温度は、通常−50°C〜120°C1好ましくは
一80゛C〜100℃の範囲である。
一80゛C〜100℃の範囲である。
反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、濃
縮等の操作により光学活性なエーテル誘導体(1)を収
率よく得ることができ、これは必要に応じてカラムクロ
マトグラフィー、再結晶等により精製することができる
。
縮等の操作により光学活性なエーテル誘導体(1)を収
率よく得ることができ、これは必要に応じてカラムクロ
マトグラフィー、再結晶等により精製することができる
。
この反応における原料である光学活性なアルコール類(
1)は、−綴代(IV) (式中、Aおよびlは前記と同じ意味を有し、R′は低
級アルキル基を示す) で示されるエステル類を、該エステル類の光学活性体の
うちのいずれか一方を加水分解する能力を有するエステ
ラーゼを用いて不斉水解することにより製造することが
できる。
1)は、−綴代(IV) (式中、Aおよびlは前記と同じ意味を有し、R′は低
級アルキル基を示す) で示されるエステル類を、該エステル類の光学活性体の
うちのいずれか一方を加水分解する能力を有するエステ
ラーゼを用いて不斉水解することにより製造することが
できる。
この反応はエステラーゼを使用するものであるが、かか
るエステラーゼを生産する微生物としては、エステル類
(IV)を不斉加水分解する能力を有するエステラーゼ
を生産する微生物であればよく、特に限定されるもので
はない。
るエステラーゼを生産する微生物としては、エステル類
(IV)を不斉加水分解する能力を有するエステラーゼ
を生産する微生物であればよく、特に限定されるもので
はない。
尚、本発明におけるエステラーゼとはリパーゼを含む広
義のエステラーゼを意味する。
義のエステラーゼを意味する。
このような微生物の具体例としては、たとえばエンテロ
バクタ−属、アルスロバクタ−属、ブレビバクテリウム
属、シュードモナス属、アルカリ土類金属、ミクロコツ
カス属、クロモバクテリウム属、主りロバクテリウム属
、コリネバクテリウム属、バシルス属、ラクトバシル金
属、トリコデルマ属、キャンディダ属、サツカロミセス
属、ロドトルラ属、クリプトコツカス属、トルロプシス
属、ピヒア属、ペニシリウム属、アスペルギルス属、リ
ゾプス属、ムコール属、オーレオバシディウム属、アク
チノムコール属、ノカルデイア属、ストーレブトミセス
属、ハンゼヌラ属、アクロモバクタ−属に属する微生物
が例示される。
バクタ−属、アルスロバクタ−属、ブレビバクテリウム
属、シュードモナス属、アルカリ土類金属、ミクロコツ
カス属、クロモバクテリウム属、主りロバクテリウム属
、コリネバクテリウム属、バシルス属、ラクトバシル金
属、トリコデルマ属、キャンディダ属、サツカロミセス
属、ロドトルラ属、クリプトコツカス属、トルロプシス
属、ピヒア属、ペニシリウム属、アスペルギルス属、リ
ゾプス属、ムコール属、オーレオバシディウム属、アク
チノムコール属、ノカルデイア属、ストーレブトミセス
属、ハンゼヌラ属、アクロモバクタ−属に属する微生物
が例示される。
上記微生物の培養は、通常、常法に従って行われ、たと
えば液体培養を行なうことにより培養液を得ることがで
きる。
えば液体培養を行なうことにより培養液を得ることがで
きる。
たとえば、滅菌した液体培地[かび類、酵母類用には麦
芽エキス・酵母エキス培地(水11にペプトン61.グ
ルコース10f1麦芽エキスSf1酵母エキス8fを溶
解し、pH6,5とする)、細菌用には加糖ブイヨン培
地(水11にグルコース10y1ペプトン6f1肉エキ
ス5f NaCl3 fを溶解し、p H7,2とする
)〕ニ微生物を接種し、通常20〜40°Cで1〜8日
間往復振盪培養をすることにより行なわれ、また必要に
応じて固体培養を行なってもよい。
芽エキス・酵母エキス培地(水11にペプトン61.グ
ルコース10f1麦芽エキスSf1酵母エキス8fを溶
解し、pH6,5とする)、細菌用には加糖ブイヨン培
地(水11にグルコース10y1ペプトン6f1肉エキ
ス5f NaCl3 fを溶解し、p H7,2とする
)〕ニ微生物を接種し、通常20〜40°Cで1〜8日
間往復振盪培養をすることにより行なわれ、また必要に
応じて固体培養を行なってもよい。
また、これらの微生物起源のエステラーゼのなかには市
販されているものがあり、容易に入手することができる
。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下の
ものが挙げられる。
販されているものがあり、容易に入手することができる
。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下の
ものが挙げられる。
シュードモナス属のリパーゼ〔リパーゼPC大野製薬製
)〕、アスペルギルス属のリパーゼ〔リパーゼAP(大
野製薬製)〕、ムコール属のリパーゼ〔リパーゼM−A
P(大野製薬知〕、キャンディダ・シリンドラッセのリ
パーゼ[リパーゼMY(多糖産業製)]、アルカリ土土
入れのリパーゼPL(多糖産業製)]、]アクロモバク
ターのリパーゼ〔リパーゼAL(多糖産業製)〕、〕ア
ルスロバクターのリパーゼ〔リパーゼ合同BSL(合同
油精製)〕、クロモバクテリウム属のリパーゼ(東洋醸
造製)、リゾプス・デレマーのリパーゼ〔タリパーゼ(
田辺FLQ製)〕、リゾプス属のリパーゼ〔リパーゼサ
イケン(大阪細菌研究所)〕。
)〕、アスペルギルス属のリパーゼ〔リパーゼAP(大
野製薬製)〕、ムコール属のリパーゼ〔リパーゼM−A
P(大野製薬知〕、キャンディダ・シリンドラッセのリ
パーゼ[リパーゼMY(多糖産業製)]、アルカリ土土
入れのリパーゼPL(多糖産業製)]、]アクロモバク
ターのリパーゼ〔リパーゼAL(多糖産業製)〕、〕ア
ルスロバクターのリパーゼ〔リパーゼ合同BSL(合同
油精製)〕、クロモバクテリウム属のリパーゼ(東洋醸
造製)、リゾプス・デレマーのリパーゼ〔タリパーゼ(
田辺FLQ製)〕、リゾプス属のリパーゼ〔リパーゼサ
イケン(大阪細菌研究所)〕。
また、動物・植物エステラーゼを用いることもでき、こ
れらの具体的なエステラーゼとしては、以下のものを挙
げることができる。
れらの具体的なエステラーゼとしては、以下のものを挙
げることができる。
ステアプシン、パンクレアチン、ブタ肝臓エステラーゼ
、Wheat Germ エステ5−ゼ。
、Wheat Germ エステ5−ゼ。
この反応で用いられるエステラーゼとしては動物、植物
、微生物から得られた酵素が用いられ、その使用形態と
しては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、微生物培養液
、培養物、菌体、培養口数及びそれらを処理した物など
種々の形態で必要に応じて用いることができ、酵素と微
生物を組合わせて用いることもできる。あるいはまた、
樹脂等に固定化した固定化酵素、固定化菌体として用い
ることもできる。
、微生物から得られた酵素が用いられ、その使用形態と
しては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、微生物培養液
、培養物、菌体、培養口数及びそれらを処理した物など
種々の形態で必要に応じて用いることができ、酵素と微
生物を組合わせて用いることもできる。あるいはまた、
樹脂等に固定化した固定化酵素、固定化菌体として用い
ることもできる。
不斉加水分解反応は、原料エステル類(IV)と上記酵
素もしくは微生物の混合物を、通常緩衝液中で激しく撹
拌することによって行われる。
素もしくは微生物の混合物を、通常緩衝液中で激しく撹
拌することによって行われる。
緩衝液としては、通常用いられるリン酸ナトリウム、リ
ン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリウ
ム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の緩衝液等が用
いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培養液やアルカ
リ性エステラーゼではpH8〜11、好アルカリ性でな
い微生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエステラー
ゼではpH6〜8が好ましい。濃度は通常0.05〜2
M、好ましくは0.05〜0.5Mの範囲である。
ン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリウ
ム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の緩衝液等が用
いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培養液やアルカ
リ性エステラーゼではpH8〜11、好アルカリ性でな
い微生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエステラー
ゼではpH6〜8が好ましい。濃度は通常0.05〜2
M、好ましくは0.05〜0.5Mの範囲である。
反応温度は通常10〜60℃であり、反応時間は一般的
には10〜70時間であるが、これに限定されることは
ない。
には10〜70時間であるが、これに限定されることは
ない。
このような加水分解反応終了後、加水分解反応液をたと
えばメチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエー
テル等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶媒を留去
したのち濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーで処理す
る等の方法により加水分解生成物である光学活性なアル
コール類(1)と加水分解残である光学活性なエステル
類〔原料エステル類[IV)中の光学活性体′妨も加水
分解されなかったもの]を分離することができる。
えばメチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエー
テル等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶媒を留去
したのち濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーで処理す
る等の方法により加水分解生成物である光学活性なアル
コール類(1)と加水分解残である光学活性なエステル
類〔原料エステル類[IV)中の光学活性体′妨も加水
分解されなかったもの]を分離することができる。
ここで得られた光学活性なエステル類は必要に応じて更
に加水分解し、先に得た光学活性なアルコール類とは対
象体の光学活性なアルコール類とすることもできる。
に加水分解し、先に得た光学活性なアルコール類とは対
象体の光学活性なアルコール類とすることもできる。
なお、この不斉氷解反応でリパーゼとしてシュードモナ
ス属あるいはアルスロバクタ−属に属するリパーゼを用
いる場合には比較的高い光学純度で光学活性なアルコー
ル類1)を得ることができる。
ス属あるいはアルスロバクタ−属に属するリパーゼを用
いる場合には比較的高い光学純度で光学活性なアルコー
ル類1)を得ることができる。
また、この加水分解の際、緩衝液に加えてトルエン、ク
ロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジクロルメタン
等の反応に不活性な有機溶媒を使用することもでき、こ
れらを使用することによって不斉氷解を有利に行うこと
ができる。
ロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジクロルメタン
等の反応に不活性な有機溶媒を使用することもでき、こ
れらを使用することによって不斉氷解を有利に行うこと
ができる。
また、この反応における原料化合物であるエステル類(
IT)は、−綴代(V)。
IT)は、−綴代(V)。
八
(式中、Aおよびlは前記と同じ意味を有する)
で示されるアルコール類を低級アルキルカルボン酸と反
応させてアシル化することにより製造することができる
。
応させてアシル化することにより製造することができる
。
このアシル化において、低級アルキルカルボン酸類とし
ては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸な
どの低級アルキルカルボン酸、それらの酸無水物または
それらの酸ハライド(たとえば酸クロライド、酸ブロマ
イド)が使用される。
ては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸な
どの低級アルキルカルボン酸、それらの酸無水物または
それらの酸ハライド(たとえば酸クロライド、酸ブロマ
イド)が使用される。
この反応において、低級アルキルカルボン酸類の使用量
はアルコール類■に対して1当量以上必要であり、上限
については特に制限されないが、好ましくは4当量であ
る。
はアルコール類■に対して1当量以上必要であり、上限
については特に制限されないが、好ましくは4当量であ
る。
この反応は、溶媒の存在下、もしくは非存在下に、触媒
を用いて反応させることにより行われる。
を用いて反応させることにより行われる。
尚、アシル化剤として低級アルキルカルボン酸を使用す
る場合には、通常適切な脱水剤が併用される。
る場合には、通常適切な脱水剤が併用される。
この反応において溶媒を使用する場合、その溶媒として
は、たとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロ
ルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ヘキサ
ン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハロ
ゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または混
合物が使用され、その使用量については特に制限されな
い。
は、たとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロ
ルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ヘキサ
ン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハロ
ゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または混
合物が使用され、その使用量については特に制限されな
い。
触媒としては、たとえばジメチルアミノピリジン、ピリ
ジノピリジン、トリエチルアミン、トリーn−ブチルア
ミン、ピコリン、イミダゾール、炭酸ナトリウム、炭酸
水素カリウム等の有機あるいは無機塩基性物質が挙げら
れ、また、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫
酸などの有機酸または無機酸を触媒として用いることも
できる。
ジノピリジン、トリエチルアミン、トリーn−ブチルア
ミン、ピコリン、イミダゾール、炭酸ナトリウム、炭酸
水素カリウム等の有機あるいは無機塩基性物質が挙げら
れ、また、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫
酸などの有機酸または無機酸を触媒として用いることも
できる。
触媒の使用量は、使用する低級アルキルカルボン酸類の
種類、使用する触媒の組合わせ等によっても異なり、必
ずしも特定されないが、たとえば低級アルキルカルボン
酸類として酸ハライドを使用する場合には、核酸ハライ
ドに対して1当量以上である。
種類、使用する触媒の組合わせ等によっても異なり、必
ずしも特定されないが、たとえば低級アルキルカルボン
酸類として酸ハライドを使用する場合には、核酸ハライ
ドに対して1当量以上である。
アシル化剤として低級脂肪族カルボン酸を使用する場合
に併用される脱水剤としては、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミドなどのカルボジイミド誘導体が特に好ましく使
用され、その使用量は通常、低級脂肪族カルボン酸に対
して1当量以上である。
に併用される脱水剤としては、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミドなどのカルボジイミド誘導体が特に好ましく使
用され、その使用量は通常、低級脂肪族カルボン酸に対
して1当量以上である。
このとき、前記塩基性触媒の使用は反応速度、収率の向
上に効果があり、その使用量は低級脂肪族カルボン酸に
対して0.01当量倍以上であり、特に好ましくは0.
01〜1当量倍である。
上に効果があり、その使用量は低級脂肪族カルボン酸に
対して0.01当量倍以上であり、特に好ましくは0.
01〜1当量倍である。
反応温度は通常−30°C〜90°Cであるが、好まし
くは一20’C〜90°Cである。
くは一20’C〜90°Cである。
反応時間は特に制限されず、原料のアルコール類α)が
反応系から消失した時点を反応終点とすることができる
。
反応系から消失した時点を反応終点とすることができる
。
反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、濃
縮、再結晶等によりエステル類(IV)が収率よく得ら
れ、これは必要により更にカラムクロマトグラフィー等
で精製することができるが、次工程へは反応混合物のま
ま使用することができる。
縮、再結晶等によりエステル類(IV)が収率よく得ら
れ、これは必要により更にカラムクロマトグラフィー等
で精製することができるが、次工程へは反応混合物のま
ま使用することができる。
更に、かかるアシル化反応における原料であるアルコー
ル類α)は、−綴代(11)(式中、Aおよびlは前記
と同じ意味を有する) で示されるケトン類を還元することにより製造すること
ができる。
ル類α)は、−綴代(11)(式中、Aおよびlは前記
と同じ意味を有する) で示されるケトン類を還元することにより製造すること
ができる。
この反応における原料であるケトン類(■)は、たとえ
ば以下に示されるように、ベンジルハライド類と4−ヒ
ドロキシアセトフェノンもしくは4−ヒドロキシ−4′
−アセチルビフェニルを反応させることにより容易に得
ることができる。
ば以下に示されるように、ベンジルハライド類と4−ヒ
ドロキシアセトフェノンもしくは4−ヒドロキシ−4′
−アセチルビフェニルを反応させることにより容易に得
ることができる。
ケトン類(Vl)の還元は、ケトンを還元してアルコー
ルとすることのできる還元剤を用いて行われる。
ルとすることのできる還元剤を用いて行われる。
かかる還元剤として、好適には水素化ホウ素ナトリウム
、リチウムアルミニウムハイドライドまたは水素化ホウ
素が使用され、その使用量は原料ケトン類(VI)に対
して少くとも1当量以上必要であり、通常1〜10当量
の範囲である。
、リチウムアルミニウムハイドライドまたは水素化ホウ
素が使用され、その使用量は原料ケトン類(VI)に対
して少くとも1当量以上必要であり、通常1〜10当量
の範囲である。
この反応は通常溶媒中で行われ、かかる溶媒としては、
たとえばテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエー
テル、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコー
ル、イソブロピルアルコール、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、ジクロルメタン等のエーテル、ハロゲン化
炭化水素、アルコール等の反応に不活性な溶媒の単独ま
たは混合物が使用される。
たとえばテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエー
テル、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコー
ル、イソブロピルアルコール、トルエン、ベンゼン、ク
ロロホルム、ジクロルメタン等のエーテル、ハロゲン化
炭化水素、アルコール等の反応に不活性な溶媒の単独ま
たは混合物が使用される。
反応温度は通常、−80℃〜100°Cの範囲であるが
、好ましくは−20〜90°Cの範囲である。
、好ましくは−20〜90°Cの範囲である。
このようにして得られた反応混合物から、分液、濃縮、
蒸留、結晶化等の操作により、アルコール類(V)を収
率よく得ることができるが、次工程のエステル類(1v
)を得るためには必ずしもアルコール類α)を単離する
必要はなく、反応混合物のまま次エビへ進んでもよい。
蒸留、結晶化等の操作により、アルコール類(V)を収
率よく得ることができるが、次工程のエステル類(1v
)を得るためには必ずしもアルコール類α)を単離する
必要はなく、反応混合物のまま次エビへ進んでもよい。
〈発明の効果〉
かくして、本発明の方法によれば、新規化合物である一
般式(1)で示される光学活性なエーテル誘導体を工業
的有利に製造することができ、しかも本発明化合物は液
晶用材料として有用であるのみならず、農薬、医薬等の
中間体としても利用することができる。
般式(1)で示される光学活性なエーテル誘導体を工業
的有利に製造することができ、しかも本発明化合物は液
晶用材料として有用であるのみならず、農薬、医薬等の
中間体としても利用することができる。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1
撹拌装置、温度計を装置した4ツロフラスコに4−ベン
ジルオキシアセトフェノン180.!1(0,8モル)
、テトラヒドロフラン600 mlおよびメタノール2
00 mlを仕込み、これに、15〜25℃にて水素化
ホウ素ナトリウム80.28f(0,8モル)を2時間
を要して加える。同温度にて5時間保温後、氷水中にあ
け、酢酸エチル1.000 mlにて2回抽出する。有
機層を減圧下に濃縮して4−ベンジルオキシ−1−フェ
ネチルアルコール(V−1)177.0f(収率97%
)を得た。
ジルオキシアセトフェノン180.!1(0,8モル)
、テトラヒドロフラン600 mlおよびメタノール2
00 mlを仕込み、これに、15〜25℃にて水素化
ホウ素ナトリウム80.28f(0,8モル)を2時間
を要して加える。同温度にて5時間保温後、氷水中にあ
け、酢酸エチル1.000 mlにて2回抽出する。有
機層を減圧下に濃縮して4−ベンジルオキシ−1−フェ
ネチルアルコール(V−1)177.0f(収率97%
)を得た。
次に、ここで得た(V−1)186.88f(0,6モ
ル)をトルエン6oogIIlとピリジン100 ml
の混合液に溶解し、これにアセチルクロリド51.82
f(0,66モル)を15〜20℃にて2時間を要して
加える。その後、同温度で1時間、40〜50 ”Cで
2時間保温する。反応終了後、10℃以下に冷却し、水
400 mlを加える。分液した有機層を2N−塩酸水
、水、5%炭酸ナトリウム、水にて順次洗浄したのち減
圧濃縮し、さらにカラムクロマトにて精製しジ。
ル)をトルエン6oogIIlとピリジン100 ml
の混合液に溶解し、これにアセチルクロリド51.82
f(0,66モル)を15〜20℃にて2時間を要して
加える。その後、同温度で1時間、40〜50 ”Cで
2時間保温する。反応終了後、10℃以下に冷却し、水
400 mlを加える。分液した有機層を2N−塩酸水
、水、5%炭酸ナトリウム、水にて順次洗浄したのち減
圧濃縮し、さらにカラムクロマトにて精製しジ。
て4−ペンゾルオキシ−1−フェネチルアルコールの酢
酸エステル(fV−1)159.6f(収率98.5%
)を得た。
酸エステル(fV−1)159.6f(収率98.5%
)を得た。
次に上で得た(IV−1)135.(1’(0,5モル
)を0.8Mリン酸バッファ(pH7,5) 1.50
0mlおよびアマノリパーゼ「PJ I B、5 fと
ともに40〜45°Cで40時間激しく撹拌する。反応
終了後、反応混合物を酢酸エチル1.000 mlにて
抽出し、有機層を減圧にて濃縮したのち、残−ペンジル
オキシ−1−フェネチルアルコール[1−1]46.7
6f(収率41%)〔〔α〕20+85.9°(c−=
1 、CHCl5 )、m * p −66〜68−”
C]、および未反応エステル74.8f[(α)D−9
8゜(c=1.CHC#s )、m−L 52〜55°
C〕を得た。
)を0.8Mリン酸バッファ(pH7,5) 1.50
0mlおよびアマノリパーゼ「PJ I B、5 fと
ともに40〜45°Cで40時間激しく撹拌する。反応
終了後、反応混合物を酢酸エチル1.000 mlにて
抽出し、有機層を減圧にて濃縮したのち、残−ペンジル
オキシ−1−フェネチルアルコール[1−1]46.7
6f(収率41%)〔〔α〕20+85.9°(c−=
1 、CHCl5 )、m * p −66〜68−”
C]、および未反応エステル74.8f[(α)D−9
8゜(c=1.CHC#s )、m−L 52〜55°
C〕を得た。
次にここで得た( 1−1 ) 8.42 f (0,
015モル)とジメチルホルムアミド40g/の溶液を
10℃に冷却し、水素化ナトリウム0.4Tf(0,0
196モル)を加え、80〜85℃にて1時間保温する
。次にn−プロピルトシレート4.82f(0,022
5モル)を20〜25℃にて加え、80〜40℃にて5
時間反応させる。
015モル)とジメチルホルムアミド40g/の溶液を
10℃に冷却し、水素化ナトリウム0.4Tf(0,0
196モル)を加え、80〜85℃にて1時間保温する
。次にn−プロピルトシレート4.82f(0,022
5モル)を20〜25℃にて加え、80〜40℃にて5
時間反応させる。
反応終了後、反応混合物を水中にあけ、酢酸エチル10
9 mlにて抽出する。有機層は水にて洗浄後、減圧下
に濃縮する。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーにて
精製し、(fl)−4−ベンジルオキシ−1−(1−プ
ロがキシエチル)ベンゼン(l−1)8.81jFC収
率94%)を得た。
9 mlにて抽出する。有機層は水にて洗浄後、減圧下
に濃縮する。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーにて
精製し、(fl)−4−ベンジルオキシ−1−(1−プ
ロがキシエチル)ベンゼン(l−1)8.81jFC収
率94%)を得た。
[[α]B’+ 70.8°(c=1.CHCl5 )
、m、p、51〜b 実施例2 実施例1で得り[1−1] 8.42 f (0,01
5モル)とN−メチルピロリドン80 txlからなる
溶液を5℃に冷却し、これに水素化ナトリウム0.72
f (0,08%ル)を加える。その後、80〜35
°Cにて1時間保温する。次にヨウ化メチル5.82g
(0,0875モル)を15〜20℃にて加几、20〜
30°Cで2時間、さらに40〜50°Cで2時間反応
させる。反応終了後、反応混合物を水中にあけ、誹酸エ
チル50 ulにて抽出する。以下、実施例1に酵じて
iJ裂処理を行い(+−)−4−ベンジルオキシ−1−
(1−メトキシエチル)ベンゼン(1−2)8.49f
(収率96%)を得た。〔[α]る0+77.6°(c
=1゜CHCl、 )、n:’ 1.54823実施例
3 実施例1で得たC I−138,42f (0,015
モル)とジメチルホルムアミド4ONtとからなる溶液
を10°Cに冷却し、これに水素化ナトリウム0.47
y(0,0196モル)を加え、30〜35“Cにて1
時間保温する。その後n−へキシルトシレート5.76
F(0,0225モル)を加え、40〜45°Cにて5
時間反応させる。反応終了後、実施例1に準じて後処理
してfF)−4−ベンジルオキシ−1−(1−n−へキ
シルオキシエチル)ベンゼン(I−8)4.42F(収
率94.5%)を得た。〔[α]j’+58.9°(c
=1゜CHCl5 )、n oot、 5230 )実
施例4〜6 n−へキシルトシレートを第1表に示すアルキル化剤に
代える以外は実施例8に準じて反応、後処理し、第1表
に示す結果を得た。
、m、p、51〜b 実施例2 実施例1で得り[1−1] 8.42 f (0,01
5モル)とN−メチルピロリドン80 txlからなる
溶液を5℃に冷却し、これに水素化ナトリウム0.72
f (0,08%ル)を加える。その後、80〜35
°Cにて1時間保温する。次にヨウ化メチル5.82g
(0,0875モル)を15〜20℃にて加几、20〜
30°Cで2時間、さらに40〜50°Cで2時間反応
させる。反応終了後、反応混合物を水中にあけ、誹酸エ
チル50 ulにて抽出する。以下、実施例1に酵じて
iJ裂処理を行い(+−)−4−ベンジルオキシ−1−
(1−メトキシエチル)ベンゼン(1−2)8.49f
(収率96%)を得た。〔[α]る0+77.6°(c
=1゜CHCl、 )、n:’ 1.54823実施例
3 実施例1で得たC I−138,42f (0,015
モル)とジメチルホルムアミド4ONtとからなる溶液
を10°Cに冷却し、これに水素化ナトリウム0.47
y(0,0196モル)を加え、30〜35“Cにて1
時間保温する。その後n−へキシルトシレート5.76
F(0,0225モル)を加え、40〜45°Cにて5
時間反応させる。反応終了後、実施例1に準じて後処理
してfF)−4−ベンジルオキシ−1−(1−n−へキ
シルオキシエチル)ベンゼン(I−8)4.42F(収
率94.5%)を得た。〔[α]j’+58.9°(c
=1゜CHCl5 )、n oot、 5230 )実
施例4〜6 n−へキシルトシレートを第1表に示すアルキル化剤に
代える以外は実施例8に準じて反応、後処理し、第1表
に示す結果を得た。
(以下余白)
実施例7
撹拌装置、温度計を装着した4ツロフラスコに4−ベン
ジルオキシ−4′−アセチル−ビフェニル120.9g
(0,4モル)、テトラヒドロフラン400 mlおよ
びメタノール10011tを仕込み、これに、15〜2
6℃にて水素化ホウ素ナトリウム16.14f(0,4
モル)を2時間を要して加える。同温度にて5時間保温
後、氷水中にあけ、クロロホルム500耐にて2回抽出
する。有機層を減圧下に濃縮して4−ベンジルオキシ−
4’−(1−とドロキシエチル)−ビフェニル(V−7
)117.41(収率96.5%)を得た。
ジルオキシ−4′−アセチル−ビフェニル120.9g
(0,4モル)、テトラヒドロフラン400 mlおよ
びメタノール10011tを仕込み、これに、15〜2
6℃にて水素化ホウ素ナトリウム16.14f(0,4
モル)を2時間を要して加える。同温度にて5時間保温
後、氷水中にあけ、クロロホルム500耐にて2回抽出
する。有機層を減圧下に濃縮して4−ベンジルオキシ−
4’−(1−とドロキシエチル)−ビフェニル(V−7
)117.41(収率96.5%)を得た。
次に、ココテ得た(V−7)91.25f(0、8モル
)をトルエン400 mlとピリジン100 mlの混
合液に溶解し、これにアセチルクロリド25.911(
0,88モル)を15〜20℃にて2時間を要して加え
る。その後、同温度で1時間、40〜50°Cで2時間
保温する。反応終了後、10℃以下に冷却し、水800
mlを加える。分液した有機層を2N−塩酸水、水、
5%炭酸ナトリウム、水にて順次洗浄したのち減圧濃縮
し、さらにカラムクロマトにて精製して4−ベンジルオ
キシ−4′−(1−アセトキシエチル)−ビフェニル(
[−7)101.57F(収率97.8%)を得た。
)をトルエン400 mlとピリジン100 mlの混
合液に溶解し、これにアセチルクロリド25.911(
0,88モル)を15〜20℃にて2時間を要して加え
る。その後、同温度で1時間、40〜50°Cで2時間
保温する。反応終了後、10℃以下に冷却し、水800
mlを加える。分液した有機層を2N−塩酸水、水、
5%炭酸ナトリウム、水にて順次洗浄したのち減圧濃縮
し、さらにカラムクロマトにて精製して4−ベンジルオ
キシ−4′−(1−アセトキシエチル)−ビフェニル(
[−7)101.57F(収率97.8%)を得た。
次に上で得り(1V−7)86.55 N(0,25モ
ル)を0.8Mリン酸バッフy(pH7,5)2、 O
OOmlおよびアマノリパーゼ「PJ 50 fととも
に40〜45°Cで120時間激しく撹拌する。反応終
了後、反応混合物をクロロホルム1,000g/にて抽
出し、有機層を減圧に(1−ヒドロキシエチル)−ビフ
ェニル(1−7)28.9f(収率88%)〔〔α]
go+ 34.8゜CC=1.CHCl3)、m、p、
158”−159℃〕および未反応エステル50.1
79を得た。
ル)を0.8Mリン酸バッフy(pH7,5)2、 O
OOmlおよびアマノリパーゼ「PJ 50 fととも
に40〜45°Cで120時間激しく撹拌する。反応終
了後、反応混合物をクロロホルム1,000g/にて抽
出し、有機層を減圧に(1−ヒドロキシエチル)−ビフ
ェニル(1−7)28.9f(収率88%)〔〔α]
go+ 34.8゜CC=1.CHCl3)、m、p、
158”−159℃〕および未反応エステル50.1
79を得た。
次にここで得た[ l−7] 4.5610.015モ
ル)とジメチルホルムアミド40m1の溶液をlOoC
に冷却し、水素化ナトリウム0.47g(0,0196
モル)を加え、80〜86℃にて1時間保温する。次に
n−プロピルトシレート4.82f(0,0225モル
)を20〜25℃にて加え、80〜40℃にて5時間反
応させる。反応終了後、反応混合物を氷水中にあけ、ク
ロロホルム200 dにて抽出する。
ル)とジメチルホルムアミド40m1の溶液をlOoC
に冷却し、水素化ナトリウム0.47g(0,0196
モル)を加え、80〜86℃にて1時間保温する。次に
n−プロピルトシレート4.82f(0,0225モル
)を20〜25℃にて加え、80〜40℃にて5時間反
応させる。反応終了後、反応混合物を氷水中にあけ、ク
ロロホルム200 dにて抽出する。
有機層は水にて洗浄後、減圧下に濃縮する。
濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、B)
−4−ベンジルオキシ−4’−(1プロポキシエチル)
−ビフェニル(1−7’)4.91 f (収率94.
5%) ヲ得り。[[αl”+78.7’ (c= 1
、 CHCl5 )、m*ps106〜108℃〕実
施例8 実施例7で得た[1−7]4.56f (0,015モル)とN−メチルピロリドン80譚lか
らなる溶液を5℃に冷却し、これに水素化ナトリウム0
.72N(0,08モル)を加える。その後、30〜8
5℃にて1時間保温する。
−4−ベンジルオキシ−4’−(1プロポキシエチル)
−ビフェニル(1−7’)4.91 f (収率94.
5%) ヲ得り。[[αl”+78.7’ (c= 1
、 CHCl5 )、m*ps106〜108℃〕実
施例8 実施例7で得た[1−7]4.56f (0,015モル)とN−メチルピロリドン80譚lか
らなる溶液を5℃に冷却し、これに水素化ナトリウム0
.72N(0,08モル)を加える。その後、30〜8
5℃にて1時間保温する。
次にヨウ化メチル5.82 f (0,0875%ル)
を15〜20’Cにて加え、20〜80”Cで2時間、
さらに40〜50″Cで2時間反応させる。反応終了後
、反応混合物を水中にあけ、酢酸エチルJ50mlにて
抽出する。以下、実施例7に準じて精製処理を行い←)
−4−ベンジルオキシ−4’−(1−メトキシエチル)
ビフェニル(I−8)4.61F(収率96.5%)を
得た。[[αl:°+77.8°(c = 1 、CH
Clm )、m、p、97〜b 実施例9 実施例7で得た[1−7]4.561 (0,015モル)とジメチルホルムアミド40m1と
からなる溶液を10″Cに冷却し、これに水素化ナトリ
ウム0.47F(0,0196モル)を加え、80〜8
5℃にて1時間保温する。その後n−へキシルトシレー
ト5.76f (0,0225%Jl/)を加え、40
〜45℃にて5時間反応させる。反応終了後、実施例7
に準じて後処理して(ト)−4−ベンジルオキシ−4’
−(1−n−へキシルオキシエチル)ビフェニル(1−
9)5.5ダ(収率94.4%)を得た。[〔α〕も’
+87.8曳c=1.CHCl5 )、m、9.61〜
68°C)] 実施例10 n−へキシルトシレートをn−オフチルトシレー)6.
89Fに代える以外は実施例9に準じて反応、後処理し
、(ト)−4−ベンジルオキシ−4’−(1−n−オク
チルオキシエチル)ビフェニル5.98F(収率95%
)を得た。
を15〜20’Cにて加え、20〜80”Cで2時間、
さらに40〜50″Cで2時間反応させる。反応終了後
、反応混合物を水中にあけ、酢酸エチルJ50mlにて
抽出する。以下、実施例7に準じて精製処理を行い←)
−4−ベンジルオキシ−4’−(1−メトキシエチル)
ビフェニル(I−8)4.61F(収率96.5%)を
得た。[[αl:°+77.8°(c = 1 、CH
Clm )、m、p、97〜b 実施例9 実施例7で得た[1−7]4.561 (0,015モル)とジメチルホルムアミド40m1と
からなる溶液を10″Cに冷却し、これに水素化ナトリ
ウム0.47F(0,0196モル)を加え、80〜8
5℃にて1時間保温する。その後n−へキシルトシレー
ト5.76f (0,0225%Jl/)を加え、40
〜45℃にて5時間反応させる。反応終了後、実施例7
に準じて後処理して(ト)−4−ベンジルオキシ−4’
−(1−n−へキシルオキシエチル)ビフェニル(1−
9)5.5ダ(収率94.4%)を得た。[〔α〕も’
+87.8曳c=1.CHCl5 )、m、9.61〜
68°C)] 実施例10 n−へキシルトシレートをn−オフチルトシレー)6.
89Fに代える以外は実施例9に準じて反応、後処理し
、(ト)−4−ベンジルオキシ−4’−(1−n−オク
チルオキシエチル)ビフェニル5.98F(収率95%
)を得た。
C[α]:’ +88.2°(c=1 、CHCl5
)、m、p。
)、m、p。
54〜55°C〕
実施例11
撹拌装置、温度計を装置した4つロフラスコに4−アセ
チル−4’ −(4−クロロベンジル)オキシビフェニ
ル184.6F(0,4モル)、メタノール100 m
lおよびテトラヒドロフラン400 mlを仕込み、1
5〜25°Cにて水素化ホウ素ナトリウム15.1 f
(0,4モル)を2時間を要して加える。
チル−4’ −(4−クロロベンジル)オキシビフェニ
ル184.6F(0,4モル)、メタノール100 m
lおよびテトラヒドロフラン400 mlを仕込み、1
5〜25°Cにて水素化ホウ素ナトリウム15.1 f
(0,4モル)を2時間を要して加える。
同温度にて5時間保温後、反応混合物を氷水中にあけ、
クロロホルム500 mlにて2回抽出処理する。有機
層を水洗後、減圧下に濃縮して4−(1−ヒドロキシエ
チル) −4’ −(4−クロロベンジル)オキシビフ
ェニル(V−11)185.1g(収率的100%)を
得た。融点107.5〜172℃ 次に、ここで得た(V−11)101.5F(0,8モ
ル)をトルエン400 mlとピリジン100 mlの
混合液に溶解し、これにアセチルクロリド25.9F(
0,88モル)を15〜20℃にて2時間を要して加え
る。その後、同温度で1時間、40〜50℃で2時間保
温する。
クロロホルム500 mlにて2回抽出処理する。有機
層を水洗後、減圧下に濃縮して4−(1−ヒドロキシエ
チル) −4’ −(4−クロロベンジル)オキシビフ
ェニル(V−11)185.1g(収率的100%)を
得た。融点107.5〜172℃ 次に、ここで得た(V−11)101.5F(0,8モ
ル)をトルエン400 mlとピリジン100 mlの
混合液に溶解し、これにアセチルクロリド25.9F(
0,88モル)を15〜20℃にて2時間を要して加え
る。その後、同温度で1時間、40〜50℃で2時間保
温する。
反応終了後、10℃以下に冷却し、水800m1を加え
る。分液した有機層を2N−塩酸水、水、5%炭酸ナト
リウム、水にて順次洗浄したのち減圧濃縮し、4−(1
−アセトキシエチル) −4’ −(4−クロロベンジ
ル)オキシビフェニル(ff−11)101.6f(収
率97.8%)を得た。
る。分液した有機層を2N−塩酸水、水、5%炭酸ナト
リウム、水にて順次洗浄したのち減圧濃縮し、4−(1
−アセトキシエチル) −4’ −(4−クロロベンジ
ル)オキシビフェニル(ff−11)101.6f(収
率97.8%)を得た。
次に上で得た( [V −11> 15.1 f(0,
04モル)を0.8Mリン酸パフファー(pH7,5)
0.51およびリパーゼ〔アマノrPJ ] 5 fと
ともに40〜45°Cで5日間激しく撹拌する。
04モル)を0.8Mリン酸パフファー(pH7,5)
0.51およびリパーゼ〔アマノrPJ ] 5 fと
ともに40〜45°Cで5日間激しく撹拌する。
反応終了後、反応混合物をクロロホルム0.54を用い
て抽出処理し、有機層を減圧にて濃縮したのち、残渣を
トルエン:酢酸エチル系でカラムクロマト分離精製し、
(+)−4−(1−ヒドロキシエチル) −4’−(4
−クロルベンジル)オキシビフェニル(1−11)5.
8F(収率85%)[〔α〕、j’+so、2°(c=
1 、クロロホルム)、融点165〜167°C〕を得
た。
て抽出処理し、有機層を減圧にて濃縮したのち、残渣を
トルエン:酢酸エチル系でカラムクロマト分離精製し、
(+)−4−(1−ヒドロキシエチル) −4’−(4
−クロルベンジル)オキシビフェニル(1−11)5.
8F(収率85%)[〔α〕、j’+so、2°(c=
1 、クロロホルム)、融点165〜167°C〕を得
た。
次にここで得た(II−11)1.85F(4ミリモル
)をジメチルホルムアミド20g/と混合し、10〜1
5°Cに冷却したのち、これに水素化ナトリウム0.2
f(5ミリモル)を加え、80〜40℃にて1時間保温
する。次にn−ヘキサデシルトシレート2.0IC5ミ
リモル)を加え、8時間反応させる。反応終了後、反応
混合物を氷水中にあけ、トルエン800 mlにて抽出
処理する。有機層を水にて洗浄後、減圧下に濃縮し、濃
縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエ
ン:ヘキサン系)にて精製してu)−4−(1−へキサ
デシルオキシエチル) −4’−(4−クロロベンジル
)オキシビフェニルCl−11)2.07F(収率92
%)を得た。[〔α〕20+19.8°(c=1.クロ
ロホルム)、融点22〜80℃〕 実施例12〜18 4−ベンジルオキシアセトフェノンに代えて第8表に示
すケトン類を、またn−プロピルトシレートに代えてn
−へキシルトシレートを使用する以外は実施例1に準じ
て反応、後処理し、第8表に示、す結果を得た。
)をジメチルホルムアミド20g/と混合し、10〜1
5°Cに冷却したのち、これに水素化ナトリウム0.2
f(5ミリモル)を加え、80〜40℃にて1時間保温
する。次にn−ヘキサデシルトシレート2.0IC5ミ
リモル)を加え、8時間反応させる。反応終了後、反応
混合物を氷水中にあけ、トルエン800 mlにて抽出
処理する。有機層を水にて洗浄後、減圧下に濃縮し、濃
縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエ
ン:ヘキサン系)にて精製してu)−4−(1−へキサ
デシルオキシエチル) −4’−(4−クロロベンジル
)オキシビフェニルCl−11)2.07F(収率92
%)を得た。[〔α〕20+19.8°(c=1.クロ
ロホルム)、融点22〜80℃〕 実施例12〜18 4−ベンジルオキシアセトフェノンに代えて第8表に示
すケトン類を、またn−プロピルトシレートに代えてn
−へキシルトシレートを使用する以外は実施例1に準じ
て反応、後処理し、第8表に示、す結果を得た。
実施例14〜16
n−へキシルトシレートに代えて第4表に示すアルキル
化剤を使用する以外は実施例3に準じて反応、後処理を
行い、第4表に示す結果を得た。
化剤を使用する以外は実施例3に準じて反応、後処理を
行い、第4表に示す結果を得た。
(以下余白シ
実施例17
n−へキシルトシレートをエトキシプロビルトシレー)
5.8f(0,08モル)に代える以外は実施例9に準
じて反応、後処理し、(+)−4−ベンジルオキシ−4
’−(1−エトキシプロポキシエチル)ビフェニル(1
−16’)5.32f(収率91 % ) ヲ得た。(
n BO=1.4544.[α〕ろ’=+41.6°(
c=1.CHCl5)]実施例18 実施例1で(IV−1)とともに得られた未反応エステ
ル18.5f(50ミリモル)を、メタノール50 m
l、20%水酸化ナトリウム80m1およびテトラヒド
ロフランBoatと混合し、80〜40″Cで2時間撹
拌する。反応終了後、反応液に水200 g/を加え、
4N塩酸でpH6としたのちエーテル500 mlで抽
出処理する。
5.8f(0,08モル)に代える以外は実施例9に準
じて反応、後処理し、(+)−4−ベンジルオキシ−4
’−(1−エトキシプロポキシエチル)ビフェニル(1
−16’)5.32f(収率91 % ) ヲ得た。(
n BO=1.4544.[α〕ろ’=+41.6°(
c=1.CHCl5)]実施例18 実施例1で(IV−1)とともに得られた未反応エステ
ル18.5f(50ミリモル)を、メタノール50 m
l、20%水酸化ナトリウム80m1およびテトラヒド
ロフランBoatと混合し、80〜40″Cで2時間撹
拌する。反応終了後、反応液に水200 g/を加え、
4N塩酸でpH6としたのちエーテル500 mlで抽
出処理する。
有機層を水洗ののち、減圧下に濃縮して、白色固体状の
←)−4−ベンジルオキシ−1−フェネチルアルコール
11.2 f (収率98%)を得た。このうちの8.
42f(15ミリモル)を実施例16と同様に反応させ
、0−4−ベンジルオキシ−1−[1−(S)−2−メ
チルブチルオキシエチル]ベンゼン4.02f(収率9
1%)を得た。融点46.5〜47.5℃、〔α〕1O
−48,2°(c= 1 、 CHCll5 )(以下
余白)
←)−4−ベンジルオキシ−1−フェネチルアルコール
11.2 f (収率98%)を得た。このうちの8.
42f(15ミリモル)を実施例16と同様に反応させ
、0−4−ベンジルオキシ−1−[1−(S)−2−メ
チルブチルオキシエチル]ベンゼン4.02f(収率9
1%)を得た。融点46.5〜47.5℃、〔α〕1O
−48,2°(c= 1 、 CHCll5 )(以下
余白)
Claims (5)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基 またはアルコキシアルキル基を、Aは水素 原子、メチル基、メトキシ基またはハロゲ ン原子を示す。lは1または2である。※ 印は不斉炭素であることを示す。) で示される光学活性なエーテル誘導体。
- (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは水素原子、メチル基、メトキ シ基またはハロゲン原子を示す。lは1ま たは2である。※印は不斉炭素であること を示す。) で示される光学活性なアルコール類を、一般式 R−X (式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基 またはアルコキシアルキル基を、Xはハロ ゲン原子または−OSO_2R″を示す。ここでR″は
低級アルキル基または置換されていてもよいフェニル基
を示す。) で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R、A、lおよび※印は前記と同 じ意味を有する) で示される光学活性なエーテル誘導体の製造法。 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは水素原子、メチル基、メトキ シ基またはハロゲン原子を、R′は低級アルキル基を示
す。lは1または2である。) で示されるエステル類を、該エステル類の光学活性体の
うちのいずれか一方を加水分解する能力を有するエステ
ラーゼを用いて不斉水解して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aおよびlは前記と同じ意味を有し、※印は不
斉炭素であることを示す。) で示される光学活性なアルコール類を得、これを一般式 R−X (式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基 またはアルコキシアルキル基を、Xはハロ ゲン原子または−OSO_2R″を示す。ここでR″は
低級アルキル基または置換されていても よいフェニル基を示す。) で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R、lおよび※印は前記と同 じ意味を有する) で示される光学活性なエーテル誘導体の製造法。 - (4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは水素原子、メチル基、メトキ シ基またはハロゲン原子を示す。lは1ま たは2である。) で示されるアルコール類を低級アルキルカルボン酸類と
反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aおよびlは前記と同じ意味を有 し、R′は低級アルキル基を示す。) で示されるエステル類を得、これを該エステル類の光学
活性体のうちのいずれか一方を加水分解する能力を有す
るエステラーゼを用いて不斉水解して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aおよびlは前記と同じ意味を有 し、※印は不斉炭素であることを示す。) で示される光学活性なアルコール類を得、次いでこれを
一般式 R−X (式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基 またはアルコキシアルキル基を、Xはハロ ゲン原子または−OSO_2R″を示す。ここでR″は
低級アルキル基または置換されていても よいフェニル基を示す。) で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R、lおよび※印は前記と同 じ意味を有する。) で示される光学活性なエーテル誘導体の製造法。 - (5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは水素原子、メチル基、メトキ シ基またはハロゲン原子を示す。lは1ま たは2である。) で示されるケトン類を還元して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aおよびlは前記と同じ意味を有 する。) で示されるアルコール類を得、これを低級アルキルカル
ボン酸類と反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aおよびlは前記と同じ意味を有 し、R′は低級アルキル基を示す。) で示されるエステル類を得、これを該エステル類の光学
活性体のうちのいずれか一方を加水分解する能力を有す
るエステラーゼを用いて不斉水解して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aおよびlは前記と同じ意味を有 し、※印は不斉炭素であることを示す。) で示される光学活性なアルコール類を得、更にこれを一
般式 R−X (式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基 またはアルコキシアルキル基を、Xはハロ ゲン原子または−OSO_2R″を示す。ここでR″は
低級アルキル基または置換されていても よいフェニル基を示す。) で示されるアルキル化剤と反応させることを特徴とする
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、R、lおよび※印は前記と同 じ意味を有する。) で示される光学活性なエーテル誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4785988A JP2508785B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 光学活性なエ―テル誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4785988A JP2508785B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 光学活性なエ―テル誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01221341A true JPH01221341A (ja) | 1989-09-04 |
JP2508785B2 JP2508785B2 (ja) | 1996-06-19 |
Family
ID=12787092
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4785988A Expired - Lifetime JP2508785B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 光学活性なエ―テル誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2508785B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02142746A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 光学活性化合物の製法 |
-
1988
- 1988-02-29 JP JP4785988A patent/JP2508785B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02142746A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 光学活性化合物の製法 |
JP2761008B2 (ja) * | 1988-11-24 | 1998-06-04 | 荒川化学工業株式会社 | 光学活性化合物の製法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2508785B2 (ja) | 1996-06-19 |
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