JPH01223649A - 光磁気デイスク担体およびその作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁性膜による光の偏光面の回転、すなわちカー
効果を用いて信号再生を行い、キュリー点温度での磁場
の方向により記録を行う光磁気ディスクに係り、特にガ
ラス、金属等の基板を用いた光磁気ディスク担体および
その作製方法に関する。

〔従来の技術〕

従来の光磁気ディスクは、光スポットの位置決め用案内
トラックおよびトラック番地、セクター番地およびクロ
ック信号等の情報を円板記録膜上の凹凸パターンにより
形成し、これらの凹凸パターンによる光の回折、干渉に
よる光強度変化を用いて、これらの情報を再生している
。これらは、電子通信学会技術研究報告、ＭＲ８４−３
８（１９８４）、１１〜１８ページに述べられている。

このため、これらのパターンを基板上に形成することが
、円板を作製する上で重要になっている。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術には、凹凸パターンを形成する方法として
、プラスチック基板を噴出成型により凹凸パターンと一
体で形成したり、ガラス基板上に紫外線硬化樹脂を用い
て凹凸パターンを形成する方法がある。この方法では第
４図に示すように有機物基板２２の上に磁性記録膜２３
をつけるために、記録膜材料、膜形成法に制約があるこ
と、また有機物基板２２の吸水あるいは透湿のため、記
録膜２３が酸化されやすい問題がある。また、この問題
をさけるため、ガラス基板上に、凹凸パターンをエツチ
ングにより掘り込んでいく方法も行われているが、生産
性に問題があった。

本発明の目的は、これらの問題点を解決する光磁気ディ
スク担体およびその作製方法を提供することにある。

（？ａ題を解決するための手段〕 上記目的は、案内トラックや番地およびクロック信号情
報を凹凸パターンではなく、磁気記録膜上の磁化パター
ンとして形成することにより達成することができる。第
１図に本発明による光磁気ディスク円板１７の断面（片
面分）を示す、平坦な基板２の一表面に磁気記録膜１が
設けられている。記録膜１と基板２の間に保護膜６が設
けられており、基板２中の分子や原子の記録膜１への拡
散防止層、あるいは光の反射防止層とじて機能する。記
録膜１０基板２と反対側表面に保護膜５があり、保護層
あるいは反射層として機能する。磁気記録膜１には、磁
化が膜面に垂直でその方向が互いに逆の２つの磁区３，
４が形成されている。

磁化が上向きの方向のみ、あるいは下向きの方向のみを
第２図に示される案内トラック７や番地８の情報として
用いる。その他の領域の磁化の方向は、案内トラックや
番地の磁化の方向と逆になっている。この磁化パターン
は、カー効果に差を生ずるため、光の偏光面の回転の差
を生じ、円板に基板側から光を入射し、その反射光の偏
光面の回転の差を検出することで、上記磁化パターンの
検出が出来、従って上記情報の再生が可能となる。

磁気記録膜側から光を入射する場合は、膜５と６はその
位置を交換する。磁化パターンの形成には、実施例で後
述するように、磁化転写用のスタンパ−を作製し、これ
を光磁気ディスク円板の磁気記録膜に対向して密接させ
、磁場を加えてスタンパ−の磁化パターンを磁気記録膜
上に転写することにより行う。

〔作用〕

このように磁気記録膜上の磁化パターンを案内トラック
や番地およびクロック信号情報として用いることにより
、従来の凹凸パターンが不要となるため、基板上に凹凸
パターンを形成するために生じていた問題点を解消する
ことが出来る。すなわち、基板として、平坦であれば−
さしつかえないため、ガラスやアルミニウム合金のよう
に耐熱性があり、透湿や吸水もほとんど無視できる材料
を使用することが出来る。その結果記録膜劣化が非常に
少なくなり、光磁気ディスクとしての信頼性を向上する
ことが出来る。磁化パターンの形成は、転写により容易
に行えるため、生産性の点でも有利となる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を第３図により説明する。第３
図は本発明による光磁気ディスク円板の作製方法を示し
ている。第３図（ａ）から第３図（ｄ）迄は、磁化パタ
ーン転写用スタンパ−の作製法を示す。はじめに、（ａ
）に示すように、平坦なガラス基板１２上に感光性樹脂
膜１１を、スピン塗布によって付け、更に熱処理したも
のを用意し、これにカッティング装置と称する露光装置
によって案内トラック、′＃ｒ地およびクロック信号パ
ターンの露光を行う。露光は、レンズ９を用いて、記録
すべきパターンに応じて強度変訓された光ビームを径１
μｍ以下に小さく絞って行う。露光により、感光性樹脂
膜１１、例えばヘキスト社のＡＺ−１３５０ホトレジス
トに、分子の結合が解けた上記パターンの潜像１０がで
きる。次にこれを現像液を用いて現像することにより、
（ｂ）に示すような、潜像部がなくなった凹凸パターン
が形成される。これを用いて、（Ｃ）に示すように、感
光性樹脂膜１１上に、感電膜１３をスパッタ法、真空蒸
着法あるいは無電解メツキ法などによりつける。ここ迄
は従来の光ディスク用スタンパ−作製法と同じである。

導電膜１３は高透磁率。

高飽和磁束密度をもつことが望ましいが、そうでなくと
もよい。

次に導電膜１３上に電解メツキ法により、高透磁率、高
飽和磁束密度の磁性膜１４、例えばパーマロイ等、をつ
ける。このあと、図（ｄ）に示すように、高透磁率、高
飽和磁束密度の裏打ち板１５を磁性膜１４に接着し、感
光性樹脂膜１１から引きはがし、磁化転写用スタンパ−
１６を作る。

透磁率増加用熱処理は、引きはがす前にガラス板１２と
裏打ち板１５で磁性膜１４を押えつけて行ってもよい。

（ｅ）は磁化転写用スタンパ−１６から、光磁気ディス
ク円板１７に、スタンパ−の案内トラックや番地の磁化
パターンを転写する方法を示す。光磁気ディスク円板と
して、第１図に示した構造のものを用意し、転写装置の
台１８に載せる。一方転写用スタンパ−１６は、上記台
１８に対向して取付けられている台２１にスタンパ−の
案内トラックパターンと、光磁気ディスク円板中心穴と
の偏芯が小さくなるように取付けられている。台１８と
台２１は腕１９に更に取付けられている。台２１は腕１
９に対し上下に移動可能となっており、転写用スタンパ
−１６を光磁気ディスク円板１７に密接させる。これら
の台１８゜２１および腕１９は、いずれも高透磁率、高
飽和磁束密度材料で作られている。密接させた状態で、
腕１９に巻かれたコイル２０に電流工を流すと、腕９台
、転写用スタンパー９光磁気ディスク円板から成る磁気
回転に磁束Ｂが流れる。スタンパ−と光磁気ディスク円
板の境界面では、スタンパ−の凸パターン部は高透磁率
材料であるため磁束のほとんどは凸部を通り、従って、
磁場も凸部に集中し、これに接した光磁気ディスク円板
の磁気記録膜部分を磁場の方向、すなわちスタンパ−の
磁化の方向に磁化する。電流を０にして台２１を上にあ
げ転写用スタンパ−１６を光磁気ディスク円板１７から
離し、光磁気ディスク円板を取り出すと、案内トラック
、番地等の磁化パターンの形成された光磁気ディスク円
板を得ることができる。

第５図には他の実施例を示す。ここでは腕１９に加熱用
ヒーター２４が巻かれており、台２１および転写用スタ
ンパ−１６の温度を上げることが出来る。スタンパ−１
６の光磁気ディスク円板に接する凸パターン部の透磁率
が非常に大きくない場合、凸パターン部と凸パターン部
の間にも漏洩磁束が存在することになり、これによって
、正しい磁化パターンの転写が困難となる。そこで、転
写用スタンパ−の温度を、光磁気ディスク円板の磁気記
録膜のキュリー温度以上で、かつ台２１゜１８や腕１９
の材料のキュリー温度以下にして、スタンパ−を光磁気
ディスク円板に密接させ、光磁気円板のスタンパ−と接
している部分の温度を一旦磁気ディスク記録膜のキュリ
ー温度以上に上げ、腕１９に磁束を通した状態で、次に
磁気記録膜の温度をキュリー温度以下に下げることによ
り、光磁気ディスク円板のスタンパ−と接した部分の磁
化をスタンパ−の磁化の方向にそろえることが出来る。

磁気記録膜の温度を下げるためには、転専用スタンパ−
から、光磁気ディスク円板を少々はなすのみでよい。

第３図、第５図の実施例では、磁化を転写する以前に、
光磁気ディスク円板の磁気記録膜の垂直磁化の方向を、
転写磁化方向と反対の方向にそろえておく必要がある。

また第５図の実施例では、導電膜１３．磁性膜１４は高
透磁率を持たなくともよく、強磁性体である必要もない
、但し、光磁気ディスク円板には、面に垂直な磁場をか
ける必要がある。第６図は本発明の他の実施例である。

ここでは図（ａ）に示すように光磁気円板の磁気記録膜
は保磁力が大きく、残留磁化も大きい膜２５と、それに
くらべると保磁力、残留磁化ともに小さい膜２６の２層
から成り、基板２の上に保護膜６があり、その上に膜２
６．２５の順で磁気記録膜がつけられ、その上に更に保
護膜５がある構造となっている。−例として、領域２７
が、案内トラック、番地領域とすると、この部分は、前
述した転写用スタンパ−を用いて、あらかじめそろえら
れていた磁気記録膜全体の磁化の方向とは逆の方向に磁
化される。このとき、膜２６．２５の両者共に同一方向
に磁化され、図では上向きとなる。領域２８はユーザが
データを記録する領域である０図（ｂ）に示すように、
レンズ２９によって集光された光ビーム３０を基板２越
しに磁気記録膜２６に当てる。膜２６の領域２８の部分
の温度は上昇しキュリー温度をこえると、これ迄の磁化
状態は失われる。記録の場合、磁場Ｈｗを上向きに加え
ておく。光ビーム３ｏを消すと、磁気記録膜２６の温度
が低下し、キュリー温度より低下すると、そのときに加
えられていた磁場の方向に磁化が向き、記録が行われる
。すなわち領域２８の膜２６の磁化が上向きになる。光
ビーム３０による加熱は光磁気円板が回転しているため
瞬時に終了し、膜２５の温度はキュリー温度に到達せず
、従って領域２８の膜２５の磁化の方向は変わらない。

消去する場合、光ビームを当てて、磁気記録膜２６の温
度をキュリー温度以上に上げる。温度がキュリー温度以
下に下がる段階で、まわりの磁化に磁化の方向がそろい
、消去が行われる６転写用スタンパ−により、作製され
た磁化領域２７は膜２５に連速しているため、消去用光
ビームを当てて、膜２６部がキュリー温度以上に上がっ
ても、温度が下がる段階で膜２５の磁化により、膜２６
の磁化は膜２５の磁化の方向にそろうため、案内トラッ
クや番地情報は保存されることになる。なお、膜２５と
膜２６の境界に、断熱層を入れて、光ビームを当てた場
合の膜２５への伝熱を押える方法も可能である。

〔発明の効果〕

以上、本発明によれば、磁気記録膜をつける基板に案内
トラックや番地情報用の凹凸パターンが不要となるため
、基板材料の選択の幅が広がり、より耐熱性、平坦性の
ある基板、吸水性、透水性の少ない基板、光学的複屈折
の少ない基板を用いることが可能となり、光磁気ディス
ク円板の信頼性向上、性能向上に寄与する。また、磁化
パターンによる光磁気ディスク円板の案内トラックや番
地情報の作製は、転写用スタンパ−を用いた磁化転写に
よるため、生産性も向上する効果がある。

また本発明は光磁気ディスクに限定されず、ガイド付磁
気ディスクの作製への応用も可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による光磁気ディスク円板の断面図、第
２図は本発明による光磁気ディスク円板の案内トラック
と番地パターンを示す概略図、第３図（ａ）〜（ｅ）は
本発明による磁化パターンの作製法を示す図、第４図は
従来の光磁気ディスクの断面図、第５図は本発明による
別の磁化パターン作製法に用いる転写装置の部分鷹念図
、第６図（ａ）、（ｂ）は本発明の別の実施例の断面図
である。 １・・・磁気記録膜、２・・・基板、３，４・・・垂直
磁化磁区、５，６・・・保護膜、７・・・案内トラック
磁化領域、８・・・番地磁化領域、１３・・・導電膜、
１４・・・磁性膜。 １５・・・裏打ち板、１６・・・磁化転写用スタンバ−
１１７・・・光磁気円板、１８．２１・・・台、１９・
・・腕、２０・・・コイル、２５．２６・・・磁気記＠
膜。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、円板上の磁性膜の磁化の方向によつて情報を記録し
   、カー効果によつて情報を光学的に再生する光磁気ディ
   スクであつて、案内トラック情報および番地、クロック
   情報を上記磁性膜の磁化の方向によつて形成したことを
   特徴とする光磁気ディスク担体。 ２、上記磁性膜を、残留磁化が小さく保磁力も小さい膜
   と、残留磁化が大きく保磁力の大きい膜との２層から構
   成し、記録、再生用光ビーム照射側からこの順に形成し
   、上記案内トラック情報および番地、クロック情報に対
   応する磁化パターンを、上記２層に形成し、データ情報
   の記録は保磁力、残留磁化の小さい層を用いることを特
   徴とする請求項１記載の光磁気ディスク担体。 ３、案内トラック情報および番地、クロック情報に対応
   する凹凸パターンを有するスタンパーを強磁性体によつ
   て作製し、該スタンパーの凹凸パターン面を光磁気ディ
   スク担体の磁性膜に密接させ、該スタンパーに磁場を加
   えて該スタンパーの凹凸パターンの磁化分布を磁性膜に
   転写することにより、上記案内トラック情報および番地
   、クロック情報に対応する磁化分布を上記磁性膜に形成
   することを特徴とする光磁気ディスク担体の作製方法。 ４、上記スタンパーの温度を上記スタンパーのキュリー
   温度よりは低く、上記磁性膜のキュリー温度よりは高く
   し、上記スタンパーの凹凸パターンと上記磁性膜を密接
   させることにより、上記磁性膜の凹凸パターンに接する
   部分の温度をそのキュリー温度以上に上げ、磁化形成用
   磁場を加えた状態で上記磁性膜の温度をキュリー温度以
   下に下げることにより、上記案内トラック情報および番
   地、クロック情報に対応する磁化分布を上記磁性膜に形
   成することを特徴とする請求項３記載の光磁気ディスク
   担体の作製方法。