JPH0120979Y2 - - Google Patents
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- JPH0120979Y2 JPH0120979Y2 JP10906383U JP10906383U JPH0120979Y2 JP H0120979 Y2 JPH0120979 Y2 JP H0120979Y2 JP 10906383 U JP10906383 U JP 10906383U JP 10906383 U JP10906383 U JP 10906383U JP H0120979 Y2 JPH0120979 Y2 JP H0120979Y2
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Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この考案は、ガス中の微量成分の濃縮装置に関
するものである。
するものである。
窒素、水素、アルゴン等の気体は、半導体の製
造等においては、PPb程度の不純物の存在が問題
となつてきており、このため、その分析が要求さ
れるようになつた。
造等においては、PPb程度の不純物の存在が問題
となつてきており、このため、その分析が要求さ
れるようになつた。
従来、ガス中の不純物等の微量成分を分析する
ときは、気体ガスを冷却トラツプに通して不純物
を冷却、濃縮した後、濃縮物をガスクロマトグラ
フイー等の分析法によつて行なつていた。
ときは、気体ガスを冷却トラツプに通して不純物
を冷却、濃縮した後、濃縮物をガスクロマトグラ
フイー等の分析法によつて行なつていた。
そして、この分析法では、冷却トラツプを冷却
する場合、液体窒素（−196℃）、液体アルゴン
（−186℃）等の液化ガス浴を使用するか、ドライ
アイス−メタノール（約−80℃）、液体窒素−エ
タノール（−130℃）等の有機溶媒浴を使用する
かしていた。
する場合、液体窒素（−196℃）、液体アルゴン
（−186℃）等の液化ガス浴を使用するか、ドライ
アイス−メタノール（約−80℃）、液体窒素−エ
タノール（−130℃）等の有機溶媒浴を使用する
かしていた。
液化ガス浴は、高純度ガス中の不純物の分析や
大気中の悪臭成分の分析に使用され、例えば、ヘ
リウム中の不純物の分析には適している。しか
し、この液化ガス浴では、窒素、アルゴン、酸素
中の不純物の分析の場合、冷却温度が冷媒の沸点
に固定されるため、主成分が冷却トラツプ内で補
促されてしまい、目的とする不純物成分をうまく
濃縮できない、という問題があつた。
大気中の悪臭成分の分析に使用され、例えば、ヘ
リウム中の不純物の分析には適している。しか
し、この液化ガス浴では、窒素、アルゴン、酸素
中の不純物の分析の場合、冷却温度が冷媒の沸点
に固定されるため、主成分が冷却トラツプ内で補
促されてしまい、目的とする不純物成分をうまく
濃縮できない、という問題があつた。
一方、有機浴媒浴では、脱着のために昇温させ
るさい、可燃ガスが蒸発して危険であり、かつド
ライアイス、窒素が気化するため、パイプで給排
出することが難しく、分析の自動化には適さな
い、という問題があつた。
るさい、可燃ガスが蒸発して危険であり、かつド
ライアイス、窒素が気化するため、パイプで給排
出することが難しく、分析の自動化には適さな
い、という問題があつた。
（考案の目的〕
この考案は、このような従来の問題点を解決す
るためになされたもので、試料濃縮管に気化冷媒
を吹き付けて、その内部に供給した試料ガスを冷
却するにさいし、試料濃縮管の近傍に臨ませた温
度センサーによつて、吹き付ける気化冷媒の温度
を検知して、その温度を制御する構成とすること
によつて、目的とする不純物等の微量成分のみを
選択的に捕集することのできるガス中の微量成分
の濃縮装置を提供することを目的とするものであ
る。
るためになされたもので、試料濃縮管に気化冷媒
を吹き付けて、その内部に供給した試料ガスを冷
却するにさいし、試料濃縮管の近傍に臨ませた温
度センサーによつて、吹き付ける気化冷媒の温度
を検知して、その温度を制御する構成とすること
によつて、目的とする不純物等の微量成分のみを
選択的に捕集することのできるガス中の微量成分
の濃縮装置を提供することを目的とするものであ
る。
この考案によるガス中の微量成分の濃縮装置は
液状冷媒の噴出ノズルと、この噴出ノズルを嵌め
て連結し、かつそのノズルが噴出する液状冷媒を
加熱する加熱筒と、この加熱筒を嵌めて連結し、
かつその加熱筒で加熱して気化させた気化冷媒を
流す流通管と、この流通管に挿通して連結した試
料濃縮管とより成り、前記加熱筒と試料濃縮管と
は、それぞれを加熱するヒーターを備え、前記試
料濃縮管の近傍には、前記気化冷媒の温度を検出
する温度センサーを臨ませたものである。
液状冷媒の噴出ノズルと、この噴出ノズルを嵌め
て連結し、かつそのノズルが噴出する液状冷媒を
加熱する加熱筒と、この加熱筒を嵌めて連結し、
かつその加熱筒で加熱して気化させた気化冷媒を
流す流通管と、この流通管に挿通して連結した試
料濃縮管とより成り、前記加熱筒と試料濃縮管と
は、それぞれを加熱するヒーターを備え、前記試
料濃縮管の近傍には、前記気化冷媒の温度を検出
する温度センサーを臨ませたものである。
以下、この考案の一実施例を、第１図および第
２図によつて説明する。第１図はその断面図、第
２図は第１図における試料濃縮管の拡大図であ
る。
２図によつて説明する。第１図はその断面図、第
２図は第１図における試料濃縮管の拡大図であ
る。
図において、１は真空断熱構造を有する液状冷
媒の噴出ノズル、２は噴出ノズル１を嵌めて連結
した液状冷媒の加熱筒、３はこの加熱筒を嵌めて
連結した気化冷媒の流通管、４はこの流通管３に
挿通して連結した試料濃縮管である。
媒の噴出ノズル、２は噴出ノズル１を嵌めて連結
した液状冷媒の加熱筒、３はこの加熱筒を嵌めて
連結した気化冷媒の流通管、４はこの流通管３に
挿通して連結した試料濃縮管である。
この実施例の微量成分の濃縮装置Ａは上記噴出
ノズル１、加熱筒２、流通管３および試料濃縮管
４より構成されている。
ノズル１、加熱筒２、流通管３および試料濃縮管
４より構成されている。
上記噴出ノズル１と加熱筒２には、噴出ノズル
１から加熱筒２の冷媒流路２ｂにかけて連通する
温度センサーの挿通孔１ａ，２ａが設けてある。
５はこの挿通孔２ａに挿通した温度センサー、す
なわち熱電対であつて、試料濃縮管４のＵ字管部
４ａに臨ませて設置してある。この熱電対５は、
加熱筒２で加熱されて気化した気化冷媒の温度を
検出し、その検出信号は図外の第１加熱温度制御
装置へ入力されるようになつている。６は加熱筒
２のヒーターであつて、その加熱温度は熱電対５
から上記検出信号を入力した第１加熱制御装置に
よつて自動制御されるようになつている。
１から加熱筒２の冷媒流路２ｂにかけて連通する
温度センサーの挿通孔１ａ，２ａが設けてある。
５はこの挿通孔２ａに挿通した温度センサー、す
なわち熱電対であつて、試料濃縮管４のＵ字管部
４ａに臨ませて設置してある。この熱電対５は、
加熱筒２で加熱されて気化した気化冷媒の温度を
検出し、その検出信号は図外の第１加熱温度制御
装置へ入力されるようになつている。６は加熱筒
２のヒーターであつて、その加熱温度は熱電対５
から上記検出信号を入力した第１加熱制御装置に
よつて自動制御されるようになつている。
流通管３は、真空断熱構造を有し挿入した試料
濃縮管４の周囲を気化した冷媒が流れて、流通支
管３ａから排出されるようになつている。
濃縮管４の周囲を気化した冷媒が流れて、流通支
管３ａから排出されるようになつている。
試料濃縮管４は、１本のガラスチユーブをＵ字
状に折り曲げて形成したもので、その先端のＵ字
管部４ａの中にはモレキユラーシーブ、シリカゲ
ル等のガス中の微量成分を吸着する吸着剤７が充
填してある。８は試料ガスの供給口、９は同じく
排出口である。１０は、試料濃縮管４のＵ字管部
４ａの周囲に設けたヒーター、１１はそのヒータ
ーによる加熱温度を検出するための温度センサ
ー、すなわち熱電対で、試料濃縮管４に沿わせて
配管したセンサーチユーブ１２に挿入して、前記
Ｕ字管部４ａに臨ませてある。ヒーター１０によ
る加熱温度は、熱電対１１に検出されて図外の第
２加熱温度制御装置へフイードバツクされ、これ
によつて制御されるようになつている。１３は、
微量成分の濃縮装置Ａの収納ケースである。
状に折り曲げて形成したもので、その先端のＵ字
管部４ａの中にはモレキユラーシーブ、シリカゲ
ル等のガス中の微量成分を吸着する吸着剤７が充
填してある。８は試料ガスの供給口、９は同じく
排出口である。１０は、試料濃縮管４のＵ字管部
４ａの周囲に設けたヒーター、１１はそのヒータ
ーによる加熱温度を検出するための温度センサ
ー、すなわち熱電対で、試料濃縮管４に沿わせて
配管したセンサーチユーブ１２に挿入して、前記
Ｕ字管部４ａに臨ませてある。ヒーター１０によ
る加熱温度は、熱電対１１に検出されて図外の第
２加熱温度制御装置へフイードバツクされ、これ
によつて制御されるようになつている。１３は、
微量成分の濃縮装置Ａの収納ケースである。
次に作用を説明する。
まず、液状冷媒を噴出ノズル１に供給する。噴
出ノズル１から加熱筒２の冷媒流路２ｂへ噴出さ
れた液状冷媒は、そこで加熱されて気化し、一定
温度の気化冷媒となつて試料濃縮管４のＵ字管部
４ａに吹き付けられる。
出ノズル１から加熱筒２の冷媒流路２ｂへ噴出さ
れた液状冷媒は、そこで加熱されて気化し、一定
温度の気化冷媒となつて試料濃縮管４のＵ字管部
４ａに吹き付けられる。
こゝにいう一定温度は、第１加熱温度制御装置
によつて制御された温度である。すなわち、熱電
対５によつて検出された気化冷媒の温度が第１加
熱温度制御装置にフイードバツクされ、これによ
つて一定温度に制御された加熱筒２のヒーター６
によつて保持されたものである。この温度は、試
料ガスの状態変化等の特性に合わせてあらかじめ
設定するもので、試料ガスの主成分を液化させな
いで、その中の微量成分、つまり不純物成分のみ
を選択的に捕集できる温度である。
によつて制御された温度である。すなわち、熱電
対５によつて検出された気化冷媒の温度が第１加
熱温度制御装置にフイードバツクされ、これによ
つて一定温度に制御された加熱筒２のヒーター６
によつて保持されたものである。この温度は、試
料ガスの状態変化等の特性に合わせてあらかじめ
設定するもので、試料ガスの主成分を液化させな
いで、その中の微量成分、つまり不純物成分のみ
を選択的に捕集できる温度である。
吹き付けられた気化冷媒によつてＵ字管部４ａ
が一定の温度に冷却されたところで、その中に供
給口８から試料ガスを所定の流速で供給する。そ
うすると、試料ガス中の微量成分は、吸着剤７に
吸着され濃縮される。そして、微量成分を吸着さ
れた試料ガスは、流通管３を通つて流通支管３ａ
から排出される。
が一定の温度に冷却されたところで、その中に供
給口８から試料ガスを所定の流速で供給する。そ
うすると、試料ガス中の微量成分は、吸着剤７に
吸着され濃縮される。そして、微量成分を吸着さ
れた試料ガスは、流通管３を通つて流通支管３ａ
から排出される。
必要量の濃縮が行なわれたならば、試料ガスと
液状冷媒の供給を停止するとともに、ヒーター１
０に通電してＵ字管部４ａを加熱する。加熱温度
は、熱電対１１によつて検出された加熱温度が第
２加熱温度制御装置にフイードバツクされ、これ
によつて一定の設定温度に制御されたヒーター１
０によつて保持されたものである。
液状冷媒の供給を停止するとともに、ヒーター１
０に通電してＵ字管部４ａを加熱する。加熱温度
は、熱電対１１によつて検出された加熱温度が第
２加熱温度制御装置にフイードバツクされ、これ
によつて一定の設定温度に制御されたヒーター１
０によつて保持されたものである。
このように加熱すると、吸着剤７に吸着された
微量成分は脱着される。脱着されたところで、試
料ガスの供給口８からキヤリアガスを通して濃縮
された微量成分を取り出す。
微量成分は脱着される。脱着されたところで、試
料ガスの供給口８からキヤリアガスを通して濃縮
された微量成分を取り出す。
以上説明したように、この考案によれば、試料
濃縮管に気化冷媒を吹き付けて、その内部に供給
した試料ガスを冷却するにさいし、試料濃縮管の
近傍に臨ませた温度センサーによつて、吹き付け
る気化冷媒の温度を検知し、その温度を制御する
構成としたから、気化冷媒の温度を試料ガスの特
性に合わせて設定することができ、したがつて、
どのような種類の試料ガスであつても、目的とす
る微量成分のみを選択的に捕集することができ
る、という効果を得ることができる。
濃縮管に気化冷媒を吹き付けて、その内部に供給
した試料ガスを冷却するにさいし、試料濃縮管の
近傍に臨ませた温度センサーによつて、吹き付け
る気化冷媒の温度を検知し、その温度を制御する
構成としたから、気化冷媒の温度を試料ガスの特
性に合わせて設定することができ、したがつて、
どのような種類の試料ガスであつても、目的とす
る微量成分のみを選択的に捕集することができ
る、という効果を得ることができる。
第１図はこの考案の一実施例を示す断面図、第
２図は第１図の−拡大断面図である。 １……噴出ノズル、２……加熱筒、３……流通
管、４……試料濃縮管、５……温度センサー、
６，１０……ヒーター。
２図は第１図の−拡大断面図である。 １……噴出ノズル、２……加熱筒、３……流通
管、４……試料濃縮管、５……温度センサー、
６，１０……ヒーター。
Claims (1)
- 液状冷媒の噴出ノズルと、この噴出ノズルを嵌
めて連結し、かつそのノズルが噴出する液状冷媒
を加熱する加熱筒と、この加熱筒を嵌めて連結
し、かつその加熱筒で加熱して気化させた気化冷
媒を流す流通管と、この流通管に挿通して連結し
た試料濃縮管とより成り、前記加熱筒と試料濃縮
管とは、それぞれを加熱するヒーターを備え、前
記試料濃縮管の近傍には、前記気化冷媒の温度を
検出する温度センサーを臨ませたことを特徴とす
るガス中の微量成分の濃縮装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10906383U JPS6017229U (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | ガス中の微量成分の濃縮装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10906383U JPS6017229U (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | ガス中の微量成分の濃縮装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6017229U JPS6017229U (ja) | 1985-02-05 |
| JPH0120979Y2 true JPH0120979Y2 (ja) | 1989-06-23 |
Family
ID=30254206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10906383U Granted JPS6017229U (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | ガス中の微量成分の濃縮装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017229U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992021966A1 (en) * | 1991-05-30 | 1992-12-10 | Tadahiro Ohmi | Method and device for measuring quantities of impurities in special gas |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4653357B2 (ja) * | 2001-08-28 | 2011-03-16 | 大陽日酸株式会社 | 金属カルボニル化合物の分析方法及び装置 |
-
1983
- 1983-07-15 JP JP10906383U patent/JPS6017229U/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992021966A1 (en) * | 1991-05-30 | 1992-12-10 | Tadahiro Ohmi | Method and device for measuring quantities of impurities in special gas |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6017229U (ja) | 1985-02-05 |
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