JPH01208472A - プラズマ重合膜製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【ＩＬへ札ｌ釈艷 本発明は成膜が常温近傍であり、かつ成膜速度が速い、
金属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜の製造方法に
関する。

Ｖ　　Ｗおよびｒ罷仄 有機プラズマ重合膜はエチレンガス、ベンゼン、芳香族
シラン等のあらゆろ種類の有機化合物のガスから作製で
きること（例えば、ニー・ティ・ベル（Ａ．Ｔ，Ｂｅｌ
ｌ）、エム・シェア（Ｍ，ｓｈｅｎ）ら、［ジャーナル
・オプ・アブライド・ポリマー・サイエンスＪ（Ｊｏｕ
ｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓ
ｃｉｃ　ｎ　ｃ　ｐ　）、ｆ５１７巻、８８５−８９２
頁（１９７３年）等）が知られている。

しかし、プラズマ重合膜は、原料ガスの種類、製造条件
等により、成膜性、膜特性等が大きく異なる。一般に炭
化水素系有機化合物をプラズマ状態を年して分解・重合
してプラズマ重合し、高硬度で傷がつきにくく、かつ耐
環境性に優れた膜を得ようとすると基板材を高温に加熱
し、かつ高周波１　３．５　６ＭＨｚ近傍で行なう必要
があった。

従って、プラズマ重合膜を被覆できる基板材料は自ずと
限られたものとなり、高温度で軟化、あるいは変形する
材料で構成された物品または、特性劣化をきたす各種デ
バイス等には、炭化水素系有機化合物のプラズマ重合法
の適用は困難であった。

明が　１　しようとする− 本発明者らは、プラズマ重合について種々検討を重ねる
うちに、炭化水素の種類により、常温付近でプラズマ重
合膜が形成可能なものが存在することを見出した。特に
金属アルコキシＶ化合物を七ツマー化（気化）してプラ
ズマ重合を行い、多用途なプラズマ重合膜を得ることを
目的とする。

即ち、本発明の目的は、常温付近の低温度においても炭
化水素系有は化合物をプラズマ重合で形成可能な非晶質
水素化炭素膜の製造方法を提供することを見出した。

課　を　゛するための 本発明は金属アルコキシド化合物をプラズマ状態を介し
て分解・重合することを特徴とする金属アルコキシＶ化
合物のプラズマ重合膜の製造方法に関する６尚、本願中
の金属アルコキシＶ化合物のプラズマ重合膜は、ｆｒ、
ＪＡアルコキシド化合物をプラズマ状態を介して分解・
重合することにより形成された堆積膜を意味する。

本発明に使用できる金属アルコキシド化合物としては、
アルミニウムイソプロピレート、ハフニウムイソプロピ
レート、７ンチモンエチレート（Ｉ［ＩＬ　タンタルエ
チレート、パナノルエチレート、バナノルターシャリー
ブチレート、ノルコニウムイソプロピレート、トリエト
キシアルミニウム、トリイソプロキシアルミニウム、ト
リエ）＝Ｇシアンチモン、トン−ｎ−ブトキシアンチモ
ン、テＦラブドキシスズ、ベンタエ）キシタンタル、テ
トラエトキシノルコニウム、テトライソプロキシノルフ
ニウム、トリメトキシバナノウム、トリエトキシパナノ
ウム、トリー１１−プトキシバナノウム、アルミニウム
トリエトキンド、アルミニウムトリイソプロポキシド、
アルミニウムトリーｎ−ブトキシド、チタニウムインプ
ロビレ−１、チタニウムブチレート、等があり、係る化
合物を使用することにより、グロー放電プラズマ分解・
重合法により、金属アルコキシド化合物のプラズマ重合
膜を低温（常温〜１００℃）でプラズマ重合することが
できる。

そのため、耐熱性のある各種セラミックス製品、金属製
品はもちろん耐熱性に乏しいポリメチルメタクリレート
等の！Ｊ４ＩＩｌｆまたは、熱により特性劣化を受けや
すい各種デバイス等にも被覆することができるので、本
発明を多用途にＩＩＬｒＷ４することができる。

本発明において用いられる金属アルコキシド化合物は単
独で用いてもよく、また混合して用いてもよい。さらに
、低温、低周波でのプラズマ重合を損なわない範囲で他
の炭化水素系有機化合物、例えば、アセチレン、イソブ
タン、インペンタン、エタン、エチレン、シクロプロパ
ン、ネオペンタン、ブタン、ペンタン、プロパン、メタ
ン等ヲ混合して用いてもよい。

また、本発明に適用しうる金属アルコキシド化合物の他
にさらにハロゲン原子等を含んでも良い。

また本発明のプラズマ重合膜を大面積に均一に成膜する
為に、キャリアガスとして希ガス、Ｎ２、Ｎ２等を併用
しても良い。

ハロゲン原子を含んだ化合物としては、塩化ビニル、ク
ロロトリプルオロエチレン等が例示される。

これらの化合物は、単独であるいは前述した金属アルコ
キシド化合物と混合して使用され、本発摩耗性が向上し
、特に７ノ素では屈折率が小さくなり、反射防止効果が
現われる。

係る金属アルフキシト化合物の場合は、常温近傍の低温
でプラズマ重合が可能であり、種々の分野に適応可能と
なるものである。

係る化合物を使用して形成した本発明の金属アルフキシ
ト化合物のプラズマ重合膜は水素含量が全構成原子に対
して慨ね１０〜６０　ａｔｏｍｉｃ％であり、以下のよ
うな特徴を有している。

（イ）高硬度である。ＪＩＳ−に−５４００の規格の鉛
筆硬度で３Ｈ以上のものが容易に得られ（ロ）あらゆる
種類の基材、デバイスに被覆でさ、かつ密着性にすぐれ
ている。

（ハ）耐溶剤性に優れており、各種溶剤、酸、アルカリ
等に不溶である。

（ニ）等方的に均一に堆積され形成されている。

蒸着等でみちれるシャドウが無い。

（ホ）環境安定性にすぐれており、重合膜の緒特性が経
時的に変化を受けにくい。

（へ）熱伝導性に優れており、ＩＣ等の発熱体に被覆し
ても内部に熱ＭｆｆＩが生じな（１゜（ト）透光性に優
れており、約０．１μ論の厚さの膜では、可視光の約９
０％以上が透過可能である。

（チ）耐摩耗性に優れている。高硬度であるが摩擦係数
が低いので耐摩耗性に優れている。

（す）屈折率が約１．３〜１．９である。

（ヌ）　イオン化ポテンシャルが約４．８〜６．５ｅＶ
である。

プラズマ重合は、気相状態の分子を減圧下で放電分解し
、発生したプラズマ雰囲気中に含まれる活性中性種ある
いは荷電種を基板上に拡散、電気力、あるいは磁気力等
により誘導し、基板上での再結合反応により固相として
堆積させる、所謂グロー放電プラズマ重合反応から生成
され、周波数１０ｋＨｚ乃至１０００ｋＨｚの低周波を
用いたグロー放電法により生成されるプラズマ状態を経
て形成する。前述した炭化水素系有機化合物は、常温近
傍の低温で、かつ高速に成膜される。

プラズマ発生に１０００ｋＨｚ以上の高い周波数を用い
ると、プラズマにより発生した化合物のラジカル種或い
はイオン種の基板への到達数が減り、堆積速度が低下し
、その分、気相中での重合が進んでしまうため、油状化
、粉体化した重合物が形成されやすくなる。しかし、基
板温度を高温に保持することが可能であればエチレン等
などは１０００ｋＨｚ以上の周波数でプラズマ重合して
成膜することは可能であり、上記したような問題は生じ
ない。

又、１０ｋＨｚ以下の周波数でプラズマを発生して、重
合を行なうと、発生したラジカル種又はイオン種の基板
への到達回数の増大に比較して、イオンダメージが増加
し、その結果、もろくて、荒れた、かつ基板との付着性
に乏しい膜が形成される。

本発明の金属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜は、
低周波グロー放電プラズマ分解・重合法の他にも、本発
明の目的の範囲内でイオン化蒸着法、イオンビーム蒸着
法、クラスタイオンビーム蒸着法、イオンブレーティン
グ法あるいはスパッタリング法等、プラズマ状！ａ（イ
オンも含む）を介して成る成膜手法を組み合わせて製造
してもよい。

第１図および第２図は本発明の係る金属アルコキシド化
合物のプラズマ重合膜の製造装置で容量結合型グロー放
電プラズマ分解・重合ｖｃ置の１例を示す、第１図は平
行平板型グロー放電プラズマ分解・重合装置、第２図は
円筒型グロー放電プラズマ分解・重合装置を示す０両装
置は、第１図中においては電極板（２２）、（２５）お
よび基板（２４）が平板型であり、第２図中においては
電極板（３０）および基板（３１）が円筒型であるとい
う点で相違している。また本発明においては、別に誘導
結合型グロー放電プラズマ分解・重合装置によっても作
製することができる０本発明の金属アルコキシド化合物
のプラズマ重合膜の製造法を平行平板型グロー放電プラ
ズマ分解・重合装置（第１図）を例にとり説明する１図
中（６）〜（１０）は夫々、主原料である金属アルコキ
シド化合物、Ｈ２、Ｈｅ１Ａｒ等のキャリアガス、その
他の添加化合物ガスが密閉された第１乃至第５タンクで
、夫々のタンク及びその配管は図示しない温調器で全体
に加熱、冷却が均一にされており、第１〜第５；１！！
整弁（１１）〜（１５）とマス７０−コントローラー（
１６）〜（２０）に後続されている。これらのガスは主
管（２１）を介して反応室（２３）に送り込まれる。

反応室（２３）にはコンデンサを介して低周波型１ｎ（
２６）に接続される平板型電極板（２２）と電気的に接
地されるとともに、平板型基＠＜２４）等が載置される
平板型アース電極板（２５）が対向配置して設けられて
いる。また上記平板型電極板（２２）はコイル（２７）
を介して直流電圧源（２８）に接続されており、低周製
電［（２６）からの電力印加に加え直流バイアス電圧が
上乗せ印加されるようになっている。また電極板（２５
）上に載置される基板（２４）等は必要であれば図示し
ない加熱手段によって、例えば室温〜１００℃に加熱さ
れるようになっている。

さらに、他の原子、例えばフッ素、塩素等のハロゲン原
子あるいは窒素、リン、ヒ素等のＶ族元素またはホウ素
、アルミニウム、ガリウムあるいはインジウム等の■族
元素を金属アルコキシドのプラズマ重合膜に添加するこ
とも可能で、そのためには、それらの元素を含む化合物
の蒸気を適宜タンクから反応室（２３）に導入して金属
フルコキシド化合物とともにプラズマ重合すればよ（、
例えば、耐摩耗性、屈折率、極性等を調整することがで
きる。その他に、成膜後、上記ガスでボンバードするこ
とによっても他原子の添加は可能である。

本発明の金属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜は出
発原料気化ガスおよび他の添加ガスの種類、原料ガスと
希釈ガス（Ｈ２、不活性ガス）比、放電パワー、圧力、
基板温度、ＤＣバイアス電圧、アニール温度、放電周波
数等の製造条件を選択することにより、種々の膜特性に
７Ｉ４整可能である。

従って、上記諸条件は、本発明の非晶質水素化炭素膜の
適用ＮｇＡ物に応じ、所望の膜特性が得られるように適
宜設定すべきである。例えば、硬度、透光性等、調整可
能である。

例えば、膜特性として該炭素膜を高硬度に形成したい場
合は、低周波電力を高くする、電力周波数を下げる本発
明の目的の範囲内で基板温度を上げる等、成膜条件を変
化することが有効である。

膜の透光性を上げたい場合は上記条件と反対の繰作が有
効である。

耐摩耗性を必要とする場合は、金属フルコキシド化合物
のプラズマ重合膜中にハロゲン原子、特にフッ素原子を
含有させることが有効である。

含フツ素化合物としては、フッ素ガス、７ツ化メチル〃
ス、四７ツ化メタン〃ス、７ツ化エチレンガス、７フ化
エチリデンがス、パー７０ロプロパンガス等を使用でき
る。フッ素原子を含有させたときは、膜の透光性が失な
われる傾向にあることに留意する必要がある。

屈折率の高い金属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜
を得たい場合は、膜中にシリコン、アルミニウム等の原
子を添加する。

シリコン源としでは、ＳｉＨい５ｉ２Ｈａｆｆス等：デ
ルマニウム源としてはＧｅＨいＧ　ｅ　２　Ｈｓ　Ｉｆ
ス等；を使用すればよい。

導電性に関する極性制御が必要な場合は、前述した、■
族または■族原子を添加することが有効である。■族元
素およびＶ族元素の添加は、それぞれ膜の極性をｐ型お
よびｎ型にｉｇ可能である。

■族元素としてはＢ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ等が例示されＢ
を含む化合物としてはＢ　（ＯＣ２Ｈｓ）＊、Ｂ、Ｈ，
、ＢＣｌ、、ＢＢｒ３、ＢＦ、等が例示される。

ＡＩを含む化合物としてはＡ　Ｉ（Ｏｉ　　Ｃ、Ｈ７）
３、（ＣＨｙ　）　３　Ａ　１、（Ｃ２Ｈ％　）　３　
Ａ　ｌ、（ｉ　−Ｃ４Ｈｓ　）　、Ａ　Ｉ、Ａ　ｌｃ　
１＊￥？が例示される。

Ｇａを含む化合物としてはＧ　ａ　（Ｏｉ　−Ｃ＊　Ｈ
７）　３、（ＣＨ，ＬＧａ、（Ｃ２Ｈ，）、Ｇａ、Ｇ’
ａＣ１，、ＧａＢｒ。

等がある。

Ｉｎを含む化合物とてしはＩ　ｎ（Ｏｉ　　Ｃ＝８７）
３、（ＣｚＨｓ）、Ｉｎ等がある。

■族元素としてはＰ、Ａｓ、Ｓｂ等が例示され、Ｐを含
む化合物としテ１．ｔ、ＰＯ（ＯＣＨ，）、、（Ｃ２Ｈ
５）３Ｐ、　　　ＰＨ，、Ｐ　Ｆ　５、　　Ｐ　　ＯＣ
Ｉｓ　Ｗ　　　：　　　Ａ　　ｓを含む化合物としてＡ
ｓ１１３、ＡＳＣＬ、ＡｓＢｒ、等；Ｓｂを含む化合物
としてＳ　ｂ（ＯＣ２Ｈ５）３．５ｂＣ１，、ＳｂＨ，
等が例示される。

上記したハロゲン原子、■族原子、Ｖ族原子等の含有量
は、金属アルフキシト化合物のプラズマ重合膜の用途に
応じて適宜選定すべきであり、含有量の調整は、例えば
添加化合物の反応室（２３）内への流量制御によって行
なうことができる。また、プラズマ重合膜中の原子の含
有量の測定は、赤外吸収スペクトル、ＩＩＩ−ＮＭＲ，
”ｃ−ＮＭＲ１有機元素分析、オーノエ分光分析（原子
吸光分析、炎色光反応、ＳＩＭＳ）等により可能である
。

下記（ａ）〜（ｐ）に示した各種基板を使用し、第１図
に示した製造装置を用い、表１中に示した５つの条件で
成膜を試みた（実施例１〜５）。

（基板種） （ａ）ガラス（コーニング社製＃７０５９）（Ｉ））　
　シリコンウェハ （ｃ）　　アルミ板（Ａ６０６３） （ｄ）　　アルミ板（Ａ５３８６） （ｅ）　　ステンレス板 （ｆ）アルミ蒸着ガラス板 （ｇ）　　クロムスパッタガラス板 （ｈ）　　金蒸着ガラス板 （ｉ）　　タングステン線 （ｊ）　　銅板 （ｋ）　　Ａｓ２Ｓｅ、蒸Ｍフルミ板 （Ｉ）　　ＧＤ　　ａ　　Ｓｉ堆積アルミ板（Ｉｌｌ）
ポリエステル用１１′ｒ（東洋紡社製Ｖ−２００）塗布
アルミ板 （ｎ）　　ポリカーボネー）　１ｆｌｆ脂（帝人化成社
製に−１３００）塗布アルミ板 （ｏ）　　メチルメタクリレ−）　ＰＭＭＡ（三菱レー
ヨン社！ｌ３Ｒ−８５）塗布アルミ板 （ｐ）　　ボリアリレート（ユニチカ社製Ｕ−４０００
）塗布アルミ板 （成膜） 第１図に示すグロー放電プラズマ分解・重合装置におい
て、まず、反応室（２３）の内部を１Ｏ−６Ｔ　ｏｒｒ
程度の高真空にした後、第１および第２調節弁（（１１
）〜（１２））を解放し、第１タンク（６）より原料〃
ス、第２タンク（７）よりＨ２〃スをマス７０−コント
ローラ（１６）〜（１７）により、表１に示すガス量と
なるように調整して反応室（２３）内へ流入した。夫々
の流量が安定した後に、反応室（２３）の内圧が表１に
示した値となるように調整した。一方、基板（２４）と
しては、萌期（ａ）〜（ｐ）のものを使用し、表１中に
示した温度に予め加熱しておき、各〃入流量が安定し、
内圧が安定した状態で低周波電源（２６）を投入し平板
型電極板（２２）に表１中に示した周波数、電力を印加
して表１中に示した時間プラズマ重合を行ない、基板（
２４）上に金属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜を
形成した。

表１中に各種基板１こ対する成膜性を○お上り×で評価
した。ＯはＪＩＳ−に−５４００の基盤目試験において
１０点が得られｒ−接着性に優れた膜であることを、×
は油状化、粉体化あるいは上記試験において基盤からの
剥離が生じＩ＆膜しにくいことを示す。

火１」［す 上Ａ鷹だＷ ノスアゾ顔料として２０ロノアンプルー（ＣＤＢ）１．
、ポリエステルＯ（詣（東洋紡社製■−２００）１８、
及び、シクロヘキサノン９８．の混合液をサンドプライ
ング−で１２時間分散した。この分散液を直径８．ＯＸ
長さ３３０ｍ＋ａの円筒状アルミニウム基板上にディッ
ピングにより乾燥後の膜厚が０．２８μｍとなるように
塗布し、乾燥して電荷発生層を形成した。

次いで、４−ノエチルアミ／ベンズアルデヒドーノフェ
ニルヒドラゾン（ＤＥＨ）６ｇ、及び、ポリカーボネー
ト（余人化成社製Ｋ　　１３００）５ｇをＴＩ［Ｆ３２
ｇに；８解させ、この溶液を電荷発生層上に乾燥後の膜
厚が１６μｍとなるように塗布し、乾燥させて電荷輸送
層を形成し、有機系感光ｆ本を作製した。

上記感光体表面にバナノエチレー）［ＶＯ（ＯＣ２ＨＳ
）３］を原料として、実施例３と同様に金属アルコキシ
ド化合物のプラズマ重合膜を保護層として形成した。成
膜条件は下記した。

基板温度　　　　　　　　　５０　’Ｃパナジルエチレ
ー）　流１　　　７　ｓｅｃｍ水素流、１　　　　　　
　　　　５０　ｓｅｃｍ電力　　　　　　　　　　　　
５０Ｗ 電力周波数　　　　　　　２００ｋＨｚ放電時圧力　　
　　　　　　０．５Ｔｏｒｒ成膜時間　　　　　　　　
３分間 使用装置　　　　　　　　第２図 特性を下に示した。

膜厚　　　　　　　　　　０，３μ鴫 硬度　　　　　　　　　　６Ｈ以上（ガラス上）可視光
透過率　　　　　　９０％以上 Ｘ線回折　　　　　　　　ピーク無し 光学的バンドギャップ　　２　、３　ｅＶ屈折率　　　
　　　　　　１．４５ イオン化ポテンシヤル　　５．６　ｅＶ水素ｆＪ　　　
　　　　　　　３９　ａｔｏｍｉｃ％（０，Ｃ０層の全
構成原子に対し） 本発明を適用することにより、耐熱性に乏しい有機感光
体にも金属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜を表面
保護層として設けることができる。

得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中でコロ
ナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、白色光半減露光量
（以下Ｅ１／２と称す）を測定したところ２　、２　ｆ
ａｘ−ｓｅｅ、残留電位は一１７Ｖであった。またＪＩ
Ｓ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定したところ
約４Ｈ以上の硬度を有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約１０万枚の耐刷試験でも、′ａ察で
きるような膜厚減少は認められず、ｌＷ電時特性変化が
なかった。また、高湿時画像流れ、フィルミング発生も
認められなかった。

比較のために表面保護層を設けない有機系感光層を常用
のカールソンプロセスの中でコロナ放電を用いて一６０
０Ｖに帯電し、Ｅ１／２を測定したところ、２　、１　
ｅｕｘ−ｓｅｅ、残留電位は一１０Ｖであった。また、
ＪＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定したと
ころ、約５Ｂの表面硬度を有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約５千枚の耐刷試験にて１μｍの膜厚
減少が観察された。

さらに比較のために、表面保護膜を、パナジルエチレー
Ｆの代わりにエタンを使用し、エタン流ｆｉ　６０　ｓ
ｅｃｍ、基板温度５０℃のもとで作製した。

この場合、膜は形成されず、膜厚は測定不能であり、粉
体が基板上、ペルジャー反応室内に堆積した。一方、基
板温度を２００℃に上げて作製したところ、わずかに膜
生成が認められたが、Ｅ１／２が全く観測できない程に
感光層が劣化した。

ジスアゾ顔料としてクロロソアンブルー（ＣＩ）Ｂ）１
重１部、ポリエステル樹脂（東洋紡社製■−２００）１
重量部、及びシクロヘキサ７２１００重量部の混合液を
サンドグライダ−で１３時間分放した。この分散液を直
径８０×長さ３３０ｍＩＩの円筒状アルミニウム基板上
にディッピングにより乾燥後の膜厚が０．３μＷとなる
ように塗布し、乾燥して電荷発生層を形成した。

次いで、４−ジ二チルアミノベンズアルデヒドーノフエ
ルニルヒドラゾン（ＤＥＨ）１重１部、及び、ポリカー
ボネイト（帝人化成社５１！に−１３００）１重量部を
Ｔ　ＨＦ　６重量部に溶解させ、この溶液を電荷発生層
上に乾燥後膜厚が１５μｍＤとなるように塗布し、乾燥
させて電荷輸送層を形成し、有機系感光体を作製した。

上記感光体表面にチタニウムイソプロピレート［Ｔ　ｉ
（ＯｉＣ３Ｈ７）−１を原料として実施例６と同様に金
属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜を保護層として
形成した。成膜条件は下記した。

基板温度　　　　　　　　　５０℃ チタニ１ンムイソ　　　　　　１０ｓｃｃＩ１１プロピ
レート流呈 温調器温度　　　　　　　　８０℃ 電力　　　　　　　　　　　　８０Ｗ 電力周波数　　　　　　　　２００ｋＨｚ放電時圧力　
　　　　　　　２．０Ｔｏｒｒ成膜時間　　　　　　　
　　２分３０秒使用装置　　　　　　　　　第２図 特性を下に示した。

膜厚　　　　　　　　　　　０．２５μ輪硬度　　　　
　　　　　　　６Ｈ以上 本発明を適用することにより、耐熱性に乏しい有Ｒ感光
体にも金属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜を表面
保護層として設けることができる。

得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中でコロ
ナ放電を用いて一６００ｖに帯電し、白色光半減露光量
（以下Ｅ１／２と称す）を測定したところ２　、Ｏ１ｕ
ｘ−ｓｅｅｓ残留電位は一５■であった。

またＪＩＳ−に−５４００規格による鉛１硬度を測定し
たところ約６Ｈ以上の硬度を有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約１０万枚の耐刷試験でも、ｖＬ察で
きる上うな膜厚減少は認められず、靜電特性も変化がな
かった。また、高湿時画像流れ、フィルミング発生も認
められなかった。

比較のために表面保護層を設けない有機系感光層を常用
のカールソンプロセスの中でコロナ放電を用いて−６０
０Ｖ　ｌ：帯電し、Ｅ１／２を測定したところ、２　、
Ｏ１ｕｘ−ｓｅｅ、残留電位は５■であった。また、Ｊ
ＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定したとこ
ろ、約５Ｂの表面硬度を有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約１万枚の耐刷試験にて２．０μ麹の
膜厚減少が観察された。

表２−１に示されるジスアゾ化合物（Ｇ　−１）２重１
部、ポリエステル樹脂（東洋紡社製Ｖ−５００）ｌｆｆ
ｌ量部ｌ量子ルエチルケトン１００重量部をボールミル
で、２４時間分散した。この分散液を直径８０×長さ３
３０Ｉ＃Ｉ１１の円筒状アルミニウム基板上にディッピ
ングにより乾燥後の膜厚が３０００Ａとなるように塗布
し、電荷発生層を形成した。

次いで、この電荷発生層上に表２−２に示されるヒドラ
ゾン化合物（Ｔ−１）１０重量部、ポリカーボネイ）樹
脂（帝人化成社！に−１３００）１０重量部をテトラヒ
ドロ７ラン８０重量部に溶解させた塗布液を乾燥後の膜
厚が２０μ繭となるように塗布、乾燥して電荷輸送層を
形成し、有機系感光体を作製した。

上記感光体表面にチタニウムイソプロピレート［Ｔ　＋
（ＯｉＣ３Ｈ？）４］を原料として実施例６と同様に金
属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜を保護層としで
形成した。成膜条件は下記した。

基板温度　　　　　　　　　　３５℃ チタニウムイソ　　　　　　　２５　ｓｅｃｍプロピレ
ート流量 水素流ｊｆＬ　　　　　　　　　　１２０ｓｅｃ＋ｎ温
調器温度　　　　　　　　１５０℃ 電力　　　　　　　　　　　　１００Ｗ電力周波数　　
　　　　　　１００ｋＨｚ放電時圧力　　　　　　　　
　１．０Ｔｏｒｒ成膜時間　　　　　　　　　２分５０
秒使用装置　　　　　　　　　Ｐｔ５２図特性を下に示
した。

膜厚　　　　　　　　　　　　　　０．３１μ曽硬度　
　　　　　　　　　　６万以上 本発明を適用することにより、耐熱性に乏しい有機感光
体にも金属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜を表面
保護層として設けることができる。

得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中でコロ
ナ放電を用いて一６００Ｖに帯電し、白色光半減露光量
（以下Ｅｌ、／２と称す）を測定したところ１．８１ｕ
ｘ−ｓｅｃ、残留電位は一５Ｖであった。

またＪＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定し
たところ約６Ｈ以上の硬度を有していた。

さらに、実際の複写数に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約１０万枚の耐刷試験でも、観察でき
るような膜厚減少は認められず、靜電特性も変化がなか
った。また、高湿時画像流れ、フィルミング発生も認め
られなかった。

比較のために表面保ｗ１層を設けない有機系感光層を常
用のカールソンプロセスの中でコロナ放電を用いて一６
００ｖに帯電し、Ｅｌ／２を測定したところ、１　、８
　ｌｕｘ・５ｅｅ１残留電残留−５ｖであった。また、
ＪＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定したと
ころ、約５Ｂの表面硬度を有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約１万枚の耐刷試験にて２．０μ曽の
膜厚減少が観察された。

表２−１に示されるジスアゾ化合物（Ｇ　−２）２重量
部、ポリエステル樹脂（東洋紡社製ｖ−５００）１重量
部、メチルエチルケシ２１００重量部をボールミルで、
２４時間分散した。この分散液を直径８０×長さ３３０
１６Ｉ＠の円筒状アルミニウム基板上にディッピングに
より乾燥後の膜厚が２５００Ａとなるように塗布し、電
荷発生層を形成した。

次いで、この電荷発生層上に表２−２に示されるスチル
ベン化合物（Ｔ−２）１０重１部、ボリアリレート樹脂
（ユニチカ社製Ｕ−４０００）１０重ｆｆ１部をテトラ
ヒドロフラン８５重量部に溶解させた塗布液を乾燥後の
膜厚が２０μｌとなるように塗布、乾燥して電荷輸送層
を形成し、有機系感光体を作製した。

上記感光体表面にチタニウムプチレー）［Ｔｉ（ＯＣ、
Ｈ、Ｍを原料として実施例６と同様に金属アルコキシド
化合物プラズマ重合膜を保護層として形成した。Ｉ＆膜
条件は下記した。

基板温度　　　　　　　　　　４０　”Ｃチタニウムブ
チレート流量　　１０ｓｅｃＩ１１温調器温度　　　　
　　　　１２０　”Ｑ電力　　　　　　　　　　　　　
９０Ｗ電力周波数　　　　　　　　１２０ｋＨｚ放電時
圧力　　　　　　　　　１．０Ｔｏｒｒ成膜時間　　　
　　　　　　２分２０秒使用装ｆｉｆｆ　　　　　　　
　　　第２図特性を下に示した。

膜厚　　　　　　　　　　　　０．２０μ−硬度　　　
　　　　　　　　６Ｈ以上 本発明を適用することにより、耐熱性に乏しい有機感光
体にも金属アルフキシＶ化合物のプラズマ重合膜を表面
保護層として設けることができる。

得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中でコロ
ナ放電を用いて一６００ｖに帯電し、白色光半減露光ｔ
＜以下Ｅｌ／２と称す）を測定したところ１　、０１ｕ
ｘ−ｓｅｅ、残留電位は一４ｖであった。

またＪＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定し
たところ約６Ｈ以上の硬度を有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約１０万枚の耐刷試験でも、ａ寮でき
るような膜厚減少は認められず、静電特性も変化がなか
った。また、高湿時画像流れ、フィルミング発生も認め
られなかった。

比較のために表面保護層を設けない有機系感光層を常用
のカールソンプロセスの中でコロナ放電を用いて一６０
０ｖに帯電し、Ｅ１／２を測定したところ、１　、　Ｏ
ｉ’ｕｘ・５ｅＣ１残留電残留−４ｖであった。また、
ＪＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定したと
ころ、約５Ｂの表面硬度を有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約１万枚の耐刷試験にて１．８μｍ９
の膜厚減少が観察された。

Σ］劃側 表２−１に示されるノスアゾ化合物（Ｇ　−３）２重量
部、ポリエステルｔ３（脂（東洋紡社製Ｖ−５００）１
重量部、メチルエチルケトン１００ｆｌｉｉ部をボール
ミルで、２４時間分散した。この分散液を直径８０×良
さ３３０組麿０円筒状アルミニウム基板上にディッピン
グにより乾燥後の膜厚が３０００Ａとなるように塗布し
、電荷発生層を形成した。

次いで、この電荷発生層上に表２−２に示されるスチル
ベン化合物（Ｔ−３）１０重１部、メチルメタクリレー
ト樹脂（三菱レーヨン社！Ｂ　Ｒ−８５）１０重ＵＳを
テトラヒトｏ　７　ラン８０　ｆｌｌｌｍに溶解させた
塗布液を乾燥後の膜厚が２０μ−となるように塗布、乾
燥して電荷輸送層を形成し、有機系感光体を作製した。

上記感光体表面にチタニウムプチレー）［Ｔｉ（ＯＣ，
Ｈ９Ｌ１を原料として実施例６と同様に金属アルコキシ
ド化合物プラズマ重合膜を保護層として形成した。成膜
条件は下記した。

基板温度　　　　　　　　　　５０℃ チタニウムイソ　　　　　　　２０　ｓｅｃｍプロピレ
ート流量 水素流ｉ１３０５ｅｃ１１＋ 温調器温度　　　　　　　　１５０℃ 電力　　　　　　　　　　　　１００Ｗ電力周波数　　
　　　　　　２００ｋＨｚ放電時圧力　　　　　　　　
　０．５Ｔｏｒｒ成膜時間　　　　　　　　　　７０秒 使用装置　　　　　　　　　　第２図 特性を下に示した。

膜厚　　　　　　　　　　　０．１５μｍ硬度　　　　
　　　　　　　　６Ｈ以上本発明を適用することにより
、耐熱性に乏しい有機感光体にも金属アルコキシド化合
物のプラズマ重合膜を表面保ｉ層として設けることがで
きる。

得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中でコロ
ナ放電を用いて一６００■に帯電し、白色光半減露光風
（以下Ｅｌ／２と称す）を測定したところ２　、１１ｕ
ｘ−ｓｅｃ、残留電位は一７Ｖであった。

またＪ　Ｉｓ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定
したところ約６日以上の硬度を、有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複″ｆｆ、紙約１０万枚の耐刷試験でも、観
察できるような膜厚減少は認められず、静電特性も変化
がなかった。また、高湿時画像流れ、フィルミング発生
ら認められなかった。

比較のために表面保護層を設けない有機系感光層を常用
のカールソンプロセスの中でコロナ放電を用いて一〇０
０Ｖに帯電し、Ｅ１／２を測定したところ、２　、１　
（ｌｕｘ−ｓｅｅ、残留電位は一７Ｖであった。また、
ＪＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定したと
ころ、約５Ｂの表面硬度を有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約１万枚の耐刷試験にて２．２μ輸の
膜厚減少が観察された。

チタニル７タロシアニン（ＴｉＯＰｃ）を抵抗加熱法を
用いてボート温度４００℃ないし５００℃、真空度１０
−４ないし１０−６のもとで真空蒸着し、厚さ２５０Ｏ
ＡのＴｉ０Ｐｃの蒸着膜を電荷発生層として形成した。

次いで、特開昭６２−３０２５５号公報記載の枯造式〔
１２〕に示されるｐ＋　１）−ビスノエチルアミノテト
ラ７ヱニルブタノエン１ｆｆｌｆｆｉ部、及び、ポリカ
ーボ木イト（余人化成社製に−１３００）１重量部をＴ
ＨＦ６重１部に溶解させ、この溶液を電荷発生層上に乾
燥後膜厚が１５μｍとなるように塗布し、乾燥させて電
荷輸送層を形成し、有機系感光体を作製した。

上記感光体表面−二チタニウムイソプロピレート［Ｔ　
ｉ（ＯｉＣ：１８７＞４１を原料として実施例６と同様
に金属アルフキシト化合物のプラズマ重合膜を保護層と
して形成した。成膜条件は下記した。

基板温度　　　　　　　　　　３０℃ チタニウムイソ　　　　　　　３０ｓｅｃｍ＋プロビレ
ー）流量 温１！４器温度　　　　　　　　１５０°Ｃ電力　　　
　　　　　　　　　　８０Ｗ電力周波数　　　　　　　
　　５０ｋｌ−１ｚ放電時圧力　　　　　　　　　１，
０Ｔｏｒｒ成膜時間　　　　　　　　　　４５秒 使用装置　　　　　　　　　第２図 特性を下に示した。

膜厚　　　　　　　　　　　　０．１０μ偽硬度　　　
　　　　　　　　　６１−１以上本発明を適用すること
により、耐熱性に乏しい有機感光体にも金属アルコキシ
ド化合物のプラズマ重合膜を表面保護層として設けるこ
とができる。

得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中でコロ
ナ放電を用いて一〇００Ｖに帯電し、レーザー半減露光
量（以下Ｅ１／２と称す）を測定したところ４　、９　
ｅｒｇ／　ｃｍ”、残留電位は一５Ｖであった。またＪ
ＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定したとこ
ろ約６Ｈ以上の硬度を有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約１０万枚の耐刷試験でも、観察でき
るような膜厚減少は認められず、静電特性も変化がなか
った。また、高湿時画像流れ、フィルミング発生も認め
られなかった。

比較のために表面保護層を設けない有機系感光層を常用
のカールソンプロセスの中でコロナ放電を用いて一６０
０Ｖに帯電し、Ｅ１／２を測定したところ、４．９　ｅ
ｒＢ／　ｃｍ”、残留電位は一５■であった。また、Ｊ
ＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定したとこ
ろ、約５Ｂの表面硬度を有していた。

さらに、実際の複″ＩｆＲに搭載して耐刷試験を行なっ
たところ、Ａ４複写紙約１万枚の耐刷試験にて２．０μ
Ｉ１１の膜厚減少が観察された。

実施例１２ １五工２．：冒しくへ友亜ス１１工坦卒」■ユ本実施例
においては、対摩耗性に加え、リン原子添加による表面
電荷注入防止効果の付与も同時に試みた。

即ち、下記組成物； 銅７タロシアニン（東洋インキ社製）２５重量部樹　　
　脂　車１　　　　　　　　　５０重量部電荷輸送剤　
＊２　　　　　　　　２５重量部本１アクリルム（脂（
Ａ４０５；大日本インキ社製）とメラミンム（脂（ニー
パン２０Ｈ３；三井東圧社りの混合物からなる熱硬化性
樹脂。

本２下記構造式； １式中、ＸおよびＹはそれぞれ独立して、水素、低級ア
ルキル基、メトキシ基、またはエトキシ基、Ｚは低級ア
ルキル基、ペンシル基、低級アルコキシ基、フェノキシ
基またはベンジルオキシ基、Ｚ゛は水素、アルキル基ま
たはアルコキシ基、Ｒは低級アルキル基、置換基を有し
てもよいアリール基、またはベンシル基を示す。］から
なる化合物。

上記組成物をボールミルにて１５時間粉砕混合し、スプ
レー塗布により、直径８０×長さ３３０＋１１１１１の
円筒形アルミ基板に、１１０°Ｃ１１時間焼付は後の膜
厚が１６μ鴎となるように塗布し、焼付けて、正帯電用
有機感光体を作製した。

上記感光体表面にアルミニウムイソプｂピレート［Ａｉ
！（Ｏｉｃ３Ｈ，Ｍを原料トＬ、、（、実施例１と同様
に金属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜を保護層と
しで形成した。なお、本実施例においてはリン原子をさ
らに含有させた。成膜条件は下記した。

基板温度　　　　　　　　　　８０℃ アルミニウムイソ　　　　　　　５　ｓｅｅ輸プロピレ
ート流量 ヘリウム流量　　　　　　　　５０　ｓｅｃ＋ａホスフ
ィン（ＰＨ，）流量２５０ｓｅｃｌ。

（Ｈ２で１０％希釈） 電力　　　　　　　　　　　　　ＳＯＷ周波数　　　　
　　　　　　　３０ｋＨｚ圧力　　　　　　　　　　　
　０．６Ｔｏｒｒ成膜時間　　　　　　　　　３分間 使用装置　　　　　　　　　第２図 得られた表面保護膜の特性は犬の通りである。

膜厚　　　　　　　　　　　　０．２５μ硬度　　　　
　　　　　　６万以上（ｆｆラス上）可視光透過率　　
　　　　９０％以上 Ｘａ回折　　　　　　　　ピーク無し 組成（Ｈ：　Ｐ）”（３５：　４）ａｔｏｍｉｃ％得ら
れた感光体を常用のカールソンプロセスの中でコロナ放
電を用いて＋６００ｖに帯電し、Ｅ１／２を測定したと
ころ４　、７　（ｌｕｘ−ｓｅｅｓ残留電位は＋１０■
であった。またＪＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬
度を測定したところ約５Ｈ以上の硬度を有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約５万枚の耐刷試験でも、観察できる
ような膜厚減少は認められず、静電特性も変化がなかっ
た。また、高湿時画像流れ、フィルミング発生も認めら
れなかった。

比較のために表面保護層を設けない有機系感光層を常用
のカールソンプロセスの中でコロナ放電を用い□て＋６
００Ｖに帯電し、Ｅ１／２を測定したところ、４　、７
１ｕｘ−ｓｅｅｓ残留電位は＋７ｖであった。また、Ｊ
ＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定したとこ
ろ、約Ｂ−Ｈの表面硬度を有していた。

さζ）に、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なった
ところ、Ａ４複写紙約６千枚の耐刷試験にて１μｍの膜
厚減少が観察された。

真空蒸着の常法によＱ　Ａ　９２　Ｓ　ｅ−合金感光体
（５３μ輸厚）を作製した。

この上に実施例２と同様に金属アルコキシド化合物のプ
ラズマ重合膜を保ｉ層として形成した。

成膜条件は下記した。

基板温度　　　　　　　　　　６０°Ｃアンチモンエチ
レー）　　　　　１０ｓｅｃ請（Ｉ［［）流量 ホスフィン（Ｐ　Ｈ、）流量　　　２５０　ｓｅｃｍ水
素流ｆｆｉ５０ｓｅｃｍ 電力　　　　　　　　　　　　　ＳＯＷ周波数　　　　
　　　　　　　５０ｋＨｚ放電時圧力　　　　　　　　
　０．３Ｔｏｒｒ約２分間 装置　　　　　　　　　　　第２図 Ｉ！Ｘ厚　　　　　　　　　　　０．１９得られた感光
体を常用のカールソンプロセスの中でコロナ放電を用い
て＋６００■に帯電し、Ｅ１／２を測定したところ１　
、３１ｕｘ−ｓｅｅ、残留電位は＋１０■であった。ま
たＪＩＳ−に−５４００規格による鉛筆硬度を測定した
ところ約６Ｈ以上の硬度を有していた。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約１０万枚の耐刷試験でも、観察でき
るような膜厚減少は認められず、静電特性も変化がなか
った。また、高湿時画像流れ、フィルミング発生も認め
られなかった。

比較のために表面保護層を設けないＡ　ｓ２Ｓ　ｅ３合
全感光層を常用のカールソンプロセスの中でコロナ放電
を用いて＋６００ｖに帯電し、白色光半減光量を測定し
たところ、１．２　ｆｕｘ−９ｅｅｘ残留電残留子６■
であった。また、ＪＩＳ−に−５４００規格による鉛筆
硬度を測定したところ、杓■］の表面硬度を有していた
。

さらに、実際の複写機に搭載して耐刷試験を行なったと
ころ、Ａ４複写紙約５万枚の耐刷試験にてフィルミング
の発生に伴う感度低下（１，８１ｕｘ・Ｓｅｅ　）、お
よび表面損傷による画像ノイズが発生した。

ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）からなるプラス
チックレンズ（耐熱性７０℃）の表面に実施例４と同様
にスズターシャリ−ブチレートのプラズマ重合膜を設け
た。成膜条件は下記した。

基板温度　　　　　　　　　　４０℃ スズターシャリ−１５ｓｃｃ＋＊ ブチレート流量 水素流１Ｇ　Ｏｓｅｅｍ 電力　　　　　　　　　　　　　７０Ｗ周波数　　　　
　　　　　　２００ｋＨｚ放電時圧力　　　　　　　　
　　ＩＴｏｒｒ時間　　　　　　　　　　　１分１０秒
間装ｆｉ！？　　　　　　　　　　　ＰＩＳ１図得られ
た保護膜の厚さは３０００Ａであった。

レンズの透光性、明るさ（Ｆ値）、面精度は初期の状態
から変化がなく、良好であった。

表面硬度は３Ｂから４Ｈに向上し、表面をエーテルで拭
いてもＰＭＭＡの溶出はなかった。

発熱体として窒化タンタルを用いたサーマルヘッドの表
面に、実施例１と同様にアルミニウムイソプロピレート
のプラズマ重合膜を設けた。成膜条件を下記した。

基板温度　　　　　　　　　５０℃ アルミニウムイソ　　　　　　５　ｓｅｃｍプロピレー
ト流量 水素流量　　　　　　　　　６０ｓｃｅ論電力　　　　
　　　　　　　　５０Ｗ 周波数　　　　　　　　　　８０ｋＨｚ放電時圧力　　
　　　　　　０．５Ｔｏｒｒ時間　　　　　　　　　　
　１０分１５秒間装置　　　　　　　　　　　第１図 得られた保護膜の厚さは１μ鴎であった。

得られたサーマルヘッドは放熱性にすぐれ、従来のＳ　
ｉｏ２あるいはＡ１．Ｏ，を表面保護層に有するサーマ
ルヘッドより画像のニジミが少なく、耐久性に優れてい
た。

メタンガス中でＴｅターゲットをスパッタリングして作
ｖＡされた光ディスクを第１図に示した本発明に係る金
属アルフキシト化合物のプラズマ重合膜の製造装置にお
ける電極板（２２）、（２５）の間に中空に浮かせた状
態で実施例５と同様にアンチモン／、ンプロビレートの
プラズマ重合を行ない、光ディスクの全面に保護層を設
けた。成膜条件は下記した。

基板温度　　　　　　　　　　５０　”Ｃアンチモンイ
ソ　　　　　　　　２５８ｃｃ閣プロピレート流量 水素流量６０　ｓｅｃｍ 電力　　　　　　　　　　　　　７０Ｗ周波数　　　　
　　　　　　７００ｋＨｚ放電時圧力　　　　　　　　
　０．８Ｔｏｒｒ時間　　　　　　　　　　　８分１５
秒問装置　　　　　　　　　　第１図 得られた保護膜の厚さは０．８μｍであった。

得られた光ディスクは、基板の反りが減り、読み取りエ
ラーの発生防止に効果があった。

ポリカーボネート基板上にＴｂＦｅＣｏのスパッタリン
グ膜からなる磁性膜を設けた光磁気ディスク表面に、実
施例１１と同様の方法よおび条件で、金属アルコキシド
化合物のプラズマ重合膜を保護層として形成した。

得られた光磁気ディスクは耐湿性並びに酸化性が改善さ
れ、長寿命化が成された。

Ａ１基板上にコバルト−ニッケルークロムから成る磁性
層をスパッタリングにより設けたハードディスクを作製
した０表面を実施例６と同様のパナジルエチレート膜で
表面保護した。

磁気ヘッドを用いた耐摩耗性試験の結果、保護を設ける
前は１０５回接触にて一部に傷が入っていたちのが、保
護層を設けることにより、傷が入らなくなった。また耐
酸化性も向上し、寿命の向上が認められた。

また、フッ素原子添加により、ヘッドとのすベリ摩擦力
の低減も認められた。

第１図の装置をそのまま用いて、ｐｉｎ型ａ−３ｉ太陽
電池を試作した。ＡＮ基板側がら１層、１層、０層を積
層した。

以下余白 この積層膜の上にＩＴＯ電極を設け、変換率２．１％（
光源ＡＭ−１）の太陽電池を得た。

上記で得られた太陽電池の表面に実施例１と同様に下記
の条件でアルミニウムイソプロピレートをプラズマ重合
して保護膜を形成した。

基板温度　　　　　　　　　　９０℃ アルミニウムイソ　　　　　　　５　ｓｅｃｍプロピレ
ート流量 水素流Ｔ１　　　　　　　　　　３０ｓｅｃｍ電力　　
　　　　　　　　　　　５０Ｗ周波数　　　　　　　　
　　１００ｋＨｚ放電時圧力　　　　　　　　　０．５
Ｔｏｒｒ時ｌ１１１　　　　　　　　　　　２分４５秒
間装ｒ！ｉ　　　　　　　　　　第１図 得られた保護膜の厚さは２５００Ａであり、屈折率は１
．４９であった。その結果、変換効率が３．０％に向上
し、反射防止用の窓材として有効であることが哩Ｗ＃さ
れた。

Ａｌ基板上にアルミニウムクロロ７タロシアニン９ｏラ
イ）’（ＡｉＩＣｉ！ＰＣ（（１り）の蒸着膜を５０Ｏ
Ａ設け、その上に実施例７で使用しｒ：、電荷輸送剤を
使用して電荷輸送層を塗付して、感光体を作製した。

このまま、レーザービームプリンターを用いて反転現像
を行な）と、蒸着膜とＡｅとの界面に生じた欠陥から、
電荷注入が発生し、いわゆる黒点状画像ノイズが発生す
る。

そこで蒸着の前に実施例１１と同様に金属アルコキシド
化合物のプラズマ重合膜を基板上に形成したところ、反
転現像での黒点は無くなり、基板からの注入阻止層とし
て有効であることが理解された。

アルミニウム基板上にＡ　ｌｃ　ＩＰ　ｃ（ＣＩ）の蒸
着膜を２０００Ａ設は電荷発生層とした。

その上に、実施例３と同様にしてバナンウムエチレ−Ｆ
のプラズマで重合膜（ホウ素添加）を形成した。成膜条
件は下記した。

基板温度　　　　　　　　　　６０″Ｃバナジウム　　
　　　　　　　７　ｓｅｃｍエチレート流量 ヘリウム流ｆｉ　　　　　　　　　１００ｓｅｃ輪Ｂ　
２Ｈ、（水素で１０％に希釈）　　１２０ｓｅｃｍ電力
　　　　　　　　　　　　　５０Ｗ周波数　　　　　　
　　　　６００ｋＨｚ放電時圧力　　　　　　　　　０
．５Ｔｏｒｒ時間　　　　　　　　　　　４５分間 装置　　　　　　　　　　　第２図 得られた電荷輸送層の厚さは１３μ−であり、膜組成は
Ｈ原子が全ｖｔ戊元素原子に対して３２゜５　（ａｔｏ
＋＊ｉｃ％）であった。

感光体の特性としては、初期帯電電位−６００■、白色
光半減露光量４．９１ｕに・Ｓｅｅが観察された。膜硬
度は６ｕ以上であった。

ＩＣの保１層を実施例１１と同様に形成した。

ＩＣは熱Ｍ積もなく良好に作動した。

密着型イメーノセンサーに実施例１０と同様に保護層を
設けた。

対摩耗性が良好で耐久性が向上した。

ｌ乳立廟１ 本発明の金属アルコキシド化合物のプラズマ重合膜の製
造法は、低温（常温〜１００℃）で成膜が可能であり、
高温で変形あるいは軟化する材料からなる物品にも適用
でき、応用範囲が広い。

本発明の製造法は、膜の堆積速度が速く、かつ大面積化
が可能である。

本発明により得られた金属アルコキシド化合物のプラズ
マ重合膜は、硬度、耐環境性に優れかつ所望により他原
子等を添加して、種々の特性を付与できる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明を実施するための装置の１
例を示す図である。 （６）〜（１０）・・・タンク、 （１１）〜（１５）・・・調節弁、 （１６）〜（２０）・・・マス７０−コントローラー、
（２１）・・・主管、　　　　　（２２）・・・平板型
電極板、（２３）・・・反応室、　　　（２４）・・・
平板型基板、（２５）・・・平板型アース電極板、 （２６）・・・低周波電源、　（２７）・・・コイル、
（２８）・・・直流電圧源、　（２９）・・・真空ポン
プ、（３０）・・・円筒型電極板、（３１）・・・円筒
型基板、出願人：　ミノルタカメラ株式会社 ト）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に金属アルコキシド化合物をプラズマ状態を
   介して分解・重合することを特徴とするプラズマ重合膜
   製造方法。 ２、プラズマ状態をグロー放電プラズマ分解・重合法に
   より発生させる請求項１、記載のプラズマ重合膜製造方
   法。 ３、基板温度を１００℃以下に保ち、放電周波数１０ｋ
   Ｈ＿２乃至１０００ｋＨ＿２であることを特徴とする請
   求項２、記載のプラズマ重合膜製造方法。