JPH01207924A - シリコン・ソース流量制御装置 - Google Patents
シリコン・ソース流量制御装置Info
- Publication number
- JPH01207924A JPH01207924A JP63031828A JP3182888A JPH01207924A JP H01207924 A JPH01207924 A JP H01207924A JP 63031828 A JP63031828 A JP 63031828A JP 3182888 A JP3182888 A JP 3182888A JP H01207924 A JPH01207924 A JP H01207924A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon source
- flow rate
- liquid silicon
- tank
- gas pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 35
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 35
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract description 11
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 abstract description 11
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、半導体製造工程で使用されるシリコン・ソー
ス気化流量を制御する為のシリコン・ソース流量制御装
置に関する。
ス気化流量を制御する為のシリコン・ソース流量制御装
置に関する。
半導体製造工程で使用されるシリコン・ソースは気化し
難い上、大気に漏れないように保全するとともにエピタ
キシャルに用いる時の気体濃度を定常にコントロールし
、必要な気化量を能率良く供給出来るようにしなければ
ならない。
難い上、大気に漏れないように保全するとともにエピタ
キシャルに用いる時の気体濃度を定常にコントロールし
、必要な気化量を能率良く供給出来るようにしなければ
ならない。
［従来の技術］
タンク内に貯蔵した液体シリコン・ソースにキャリアガ
スを吹込み、バブリングによりシリコン・ソースの゛気
化ガスを発生させたり、タンク中のヒーターの加熱で気
化ガスを発生させ後の気化ガス流量に対する流量制御方
法として、従来はガス流通路の上流と下流の閏の熱量移
動を検出して流量を算出し、算出値に対応するバルブ開
閉の調節操作を行う方式に依っていた。３０ｇ／分程度
の流量制御が限界で、大流量の制御には無理がある。
スを吹込み、バブリングによりシリコン・ソースの゛気
化ガスを発生させたり、タンク中のヒーターの加熱で気
化ガスを発生させ後の気化ガス流量に対する流量制御方
法として、従来はガス流通路の上流と下流の閏の熱量移
動を検出して流量を算出し、算出値に対応するバルブ開
閉の調節操作を行う方式に依っていた。３０ｇ／分程度
の流量制御が限界で、大流量の制御には無理がある。
可動部分が多く故障の原因も少なくない。シリコン・ソ
ースの気化ガス供給量制御に制限がある為、半導体製造
工程の生産性向上のネックとなっているのが現状である
。
ースの気化ガス供給量制御に制限がある為、半導体製造
工程の生産性向上のネックとなっているのが現状である
。
［発明が解決しようとする閘題点］
気化ガス流通路の上流と下流の間の移動熱量の検出によ
り流量を算出するような微小量検出手段を排除し、気化
量の増大に成功したシリコン・ソース気化装置に適応す
るシリコン・ソース流量制御方式を開発する。
り流量を算出するような微小量検出手段を排除し、気化
量の増大に成功したシリコン・ソース気化装置に適応す
るシリコン・ソース流量制御方式を開発する。
［問題を解決するための手段］
本発明は、液体シリコン・ソースを貯蔵するタンクと、
該タンクに導通するガス圧供給部と、液体シリコン・ソ
ース中に閉口端を有する流量調節パイプとを有すること
を特徴とするシリコン・ソース流量制御装置であり、大
容量シリコン・ソース気化装置に液体シリコン・ソース
を供給するタンクに対して液体シリコン・ソースの流量
制御を働かせ、気化ガス流量の流量制御をより簡便に“
確実に行うものであって、液体シリコン・ソースに作用
させるガス圧の調節により流量調節パイプからの液体シ
リコン・ソース供給量をコントロールする。
該タンクに導通するガス圧供給部と、液体シリコン・ソ
ース中に閉口端を有する流量調節パイプとを有すること
を特徴とするシリコン・ソース流量制御装置であり、大
容量シリコン・ソース気化装置に液体シリコン・ソース
を供給するタンクに対して液体シリコン・ソースの流量
制御を働かせ、気化ガス流量の流量制御をより簡便に“
確実に行うものであって、液体シリコン・ソースに作用
させるガス圧の調節により流量調節パイプからの液体シ
リコン・ソース供給量をコントロールする。
［作用及び実施例］
第１図の本発明の一実施例において気化装置に接続され
るタンク１には、ガス圧供給部２が取イ１けられ、液体
シリコン・ソースＬに圧力を掛ける。
るタンク１には、ガス圧供給部２が取イ１けられ、液体
シリコン・ソースＬに圧力を掛ける。
液体シリコン・ソースＬ中に閉口端を持つ流量調節パイ
プ３はガス圧供給部２の負荷圧に対応して液体シリコン
・ソースをタンクｌから流出させる。
プ３はガス圧供給部２の負荷圧に対応して液体シリコン
・ソースをタンクｌから流出させる。
流出量は負荷圧調節器４で可変となり、別装置のシリコ
ン・ソース気化装置における気化量を精確に変更できる
。又、流量調節パイプ３に備えたニードルバルブ５の調
節でも流出量を可変出来る。
ン・ソース気化装置における気化量を精確に変更できる
。又、流量調節パイプ３に備えたニードルバルブ５の調
節でも流出量を可変出来る。
これらの調節操作は他に影響しないから調節機能は簡便
で而も精確である。
で而も精確である。
タンク１にはロードセル６を備えて、気化量をこのタン
ク重量のモニターで制御することも゛４出来る。
ク重量のモニターで制御することも゛４出来る。
液体シリコン・ソースとして、５ｉＣＩ４ｔ ５ｉＨＣ
１：］＋加圧状態の５ｉＨ２Ｃ１２等が使える。またガ
ス圧供給部２の与圧ガスとしてＩ２．８２１０２１ Ｆ
２． ＣＩ２等が使用される。流量制御は２０００ｇ／
分以上が可能であり、この大流量に対する流量誤差は±
３％以内に収る。
１：］＋加圧状態の５ｉＨ２Ｃ１２等が使える。またガ
ス圧供給部２の与圧ガスとしてＩ２．８２１０２１ Ｆ
２． ＣＩ２等が使用される。流量制御は２０００ｇ／
分以上が可能であり、この大流量に対する流量誤差は±
３％以内に収る。
［発明の効果コ
本発明は、液体シリコン・ソースに対する加圧力で液体
シリコン・ソースのタンクからの流出量を制御している
から、流量制御は簡便精確であって、別装置のシリコン
・ソース気化装置における気化量を精確にコントロール
できる。又、流量調節パイプによる調節でもガス圧供給
部の与圧制御でも流出量を可変出来、これらの調節操作
は他に影響しないから調節機能は簡便で而も精確である
。
シリコン・ソースのタンクからの流出量を制御している
から、流量制御は簡便精確であって、別装置のシリコン
・ソース気化装置における気化量を精確にコントロール
できる。又、流量調節パイプによる調節でもガス圧供給
部の与圧制御でも流出量を可変出来、これらの調節操作
は他に影響しないから調節機能は簡便で而も精確である
。
第１図は本発明の一実施例を示す気化装置の概要説明図
である。 １：タンク ２：ガス圧供給部３：流量調節バ
イブ ４：負荷圧調節器５：ニードルバルブ ６：ロー
ドセル し：液体シリコン・ソース 出願人 東芝セラミックス株式会社
である。 １：タンク ２：ガス圧供給部３：流量調節バ
イブ ４：負荷圧調節器５：ニードルバルブ ６：ロー
ドセル し：液体シリコン・ソース 出願人 東芝セラミックス株式会社
Claims (1)
- （１）液体シリコン・ソースを貯蔵するタンクと、該タ
ンクに導通するガス圧供給部と、液体シリコン・ソース
中に閉口端を有する流量調節パイプとを有することを特
徴とするシリコン・ソース流量制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63031828A JPH01207924A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | シリコン・ソース流量制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63031828A JPH01207924A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | シリコン・ソース流量制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01207924A true JPH01207924A (ja) | 1989-08-21 |
Family
ID=12341936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63031828A Pending JPH01207924A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | シリコン・ソース流量制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01207924A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS593861U (ja) * | 1982-06-30 | 1984-01-11 | 中国パ−ル化成株式会社 | さしみ容器 |
| JPS5910284U (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-23 | 積水化成品工業株式会社 | 果実用の包装容器 |
| JPS61138658A (ja) * | 1984-12-11 | 1986-06-26 | Kanebo Ltd | 抗菌性ポリウレタンフイルム |
| JPS61105669U (ja) * | 1984-12-18 | 1986-07-04 | ||
| JPS62112646A (ja) * | 1985-11-11 | 1987-05-23 | Nippon Hiryo Kk | ハロゲン樹脂組成物 |
-
1988
- 1988-02-16 JP JP63031828A patent/JPH01207924A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS593861U (ja) * | 1982-06-30 | 1984-01-11 | 中国パ−ル化成株式会社 | さしみ容器 |
| JPS5910284U (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-23 | 積水化成品工業株式会社 | 果実用の包装容器 |
| JPS61138658A (ja) * | 1984-12-11 | 1986-06-26 | Kanebo Ltd | 抗菌性ポリウレタンフイルム |
| JPS61105669U (ja) * | 1984-12-18 | 1986-07-04 | ||
| JPS62112646A (ja) * | 1985-11-11 | 1987-05-23 | Nippon Hiryo Kk | ハロゲン樹脂組成物 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6224681B1 (en) | Vaporizing reactant liquids for chemical vapor deposition film processing | |
| KR960043020A (ko) | 반도체 제조장치 및 로드록 실 산소 농도의 제어방법과 자연 산화막의 생성방법 | |
| JPH05228361A (ja) | 液体材料気化供給装置 | |
| CA2697916A1 (en) | Apparatus and method for controlling the temperature of a cryogen | |
| JPS61254242A (ja) | 原料供給装置 | |
| JPH01207924A (ja) | シリコン・ソース流量制御装置 | |
| JPH01238800A (ja) | 圧力調整器のガス出流れ現象防止方法及び装置 | |
| US3587620A (en) | Vaporizing and fluid flow means | |
| JP2001007192A (ja) | コンテナに貯蔵した物品の処理方法及びデバイス並びにそのデバイスを備えた設備 | |
| JPH0244926Y2 (ja) | ||
| JP3200457B2 (ja) | 液体材料気化供給装置 | |
| JPH065505A (ja) | フォトレジスト塗布前処理装置 | |
| JPH05231596A (ja) | 液化天然ガス貯蔵タンク内に発生した蒸発ガスの熱調送出方法 | |
| JPH034929A (ja) | 気化方式によるガス発生装置 | |
| JPH04337075A (ja) | 気相成長装置 | |
| KR910003772A (ko) | 도포방법 및 장치 | |
| JPH0395448A (ja) | 熱分析装置のガス供給装置 | |
| JP4052506B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH01293130A (ja) | 原料ガス供給装置 | |
| JPH0522256Y2 (ja) | ||
| JPH07230322A (ja) | 気化流量制御器 | |
| CN208667903U (zh) | 一种用于单晶硅拉制过程的氮气控制配盘 | |
| KR100621799B1 (ko) | 반도체 공정 챔버의 압력 조절 시스템 | |
| JP2614026B2 (ja) | 気化ガス供給装置 | |
| JPH05315264A (ja) | 液体材料の気化供給方法及びその装置並びに化学気相成長システム |