JPH01293130A - 原料ガス供給装置 - Google Patents
原料ガス供給装置Info
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- JPH01293130A JPH01293130A JP12362088A JP12362088A JPH01293130A JP H01293130 A JPH01293130 A JP H01293130A JP 12362088 A JP12362088 A JP 12362088A JP 12362088 A JP12362088 A JP 12362088A JP H01293130 A JPH01293130 A JP H01293130A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/008—Feed or outlet control devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
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- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
-
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- C03B2207/88—Controlling the pressure
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- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は、例えば光ファイバー母材酸いは半導体素子等
の製造に用いる原料ガス供給装置に関するものである。
の製造に用いる原料ガス供給装置に関するものである。
［従来技術］
従来のこの種の原料ガス供給装置は、第２図に′示すよ
うに、気密な原料タンク１には大気中の酸素又は水分と
反応するＳｉＣぶｏ、Ｇｅｃλ４等の原料液２が収容さ
れている。原料タンク１の外周には原料液２を気化する
ためのヒータ等の加熱手段３が取り付けられている。原
料タンク１内の上部空間４には、原料液２の気化により
得られた原料ガスが原料タンク１の温度における蒸気圧
で満たされるようになっている。原料タンク１の上部空
間４と供給相手である図示しない反応装置との間には、
原料ガスをその蒸気圧を利用して供給するガス供給流路
５が設けられている。ガス供給流路５には開閉弁６．自
動開閉弁７．マスフローコントローラの如き流量制御器
８が接続されている。自動開閉弁７と流量制御器８との
間には、自動開閉弁１０を介して配管９が接続されてい
て、該配管９を通して窒素ガスが供給されるようになっ
ている。自動開閉弁１０は自動開閉弁７と連動し、原料
供給中は、自動開閉弁７が間で、自動開閉弁１０が開と
なって、原料ガスを反応装置に流すようになっている。
うに、気密な原料タンク１には大気中の酸素又は水分と
反応するＳｉＣぶｏ、Ｇｅｃλ４等の原料液２が収容さ
れている。原料タンク１の外周には原料液２を気化する
ためのヒータ等の加熱手段３が取り付けられている。原
料タンク１内の上部空間４には、原料液２の気化により
得られた原料ガスが原料タンク１の温度における蒸気圧
で満たされるようになっている。原料タンク１の上部空
間４と供給相手である図示しない反応装置との間には、
原料ガスをその蒸気圧を利用して供給するガス供給流路
５が設けられている。ガス供給流路５には開閉弁６．自
動開閉弁７．マスフローコントローラの如き流量制御器
８が接続されている。自動開閉弁７と流量制御器８との
間には、自動開閉弁１０を介して配管９が接続されてい
て、該配管９を通して窒素ガスが供給されるようになっ
ている。自動開閉弁１０は自動開閉弁７と連動し、原料
供給中は、自動開閉弁７が間で、自動開閉弁１０が開と
なって、原料ガスを反応装置に流すようになっている。
原料供給をしていない時には、自動開閉弁７が開で、自
動開閉弁１ｏが開となってガス供給流路５中に窒素ガス
を流してガス供給流路５の保護のためにパージを行うよ
うになっている。
動開閉弁１ｏが開となってガス供給流路５中に窒素ガス
を流してガス供給流路５の保護のためにパージを行うよ
うになっている。
このような従来の原料ガス供給装置で用いられている流
量制御器８としてのマスフローコントローラは、使用機
器の中で最も高価で且つ精密な部品で構成され、その構
造は流ｔセンサ一部と該センサ一部からフィードバック
された信号に応じて開閉されるバルブからなり、Ｇｅ
ＣＪ２４．Ｓｉ Ｃβ４ 、Ｐ２０ＣＪ２３など腐食性
の原料ガスの流量１１ Ｍに使用されている。
量制御器８としてのマスフローコントローラは、使用機
器の中で最も高価で且つ精密な部品で構成され、その構
造は流ｔセンサ一部と該センサ一部からフィードバック
された信号に応じて開閉されるバルブからなり、Ｇｅ
ＣＪ２４．Ｓｉ Ｃβ４ 、Ｐ２０ＣＪ２３など腐食性
の原料ガスの流量１１ Ｍに使用されている。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、前述したよ如き腐食性の原料ガスの流量
制御にマスフローコントローラの如き流ａ制御ｆｌｌ器
８が使用されると、長期の使用中に原料ガス中に含まれ
る微量の水分ヤハイドロカーボン類により流量制御器８
のセンサ一部が腐食されたり不純物が堆積されたりして
正常な機能を失い、流■制御が正常に行えなくなる問題
点があった。
制御にマスフローコントローラの如き流ａ制御ｆｌｌ器
８が使用されると、長期の使用中に原料ガス中に含まれ
る微量の水分ヤハイドロカーボン類により流量制御器８
のセンサ一部が腐食されたり不純物が堆積されたりして
正常な機能を失い、流■制御が正常に行えなくなる問題
点があった。
本発明の目的は、長期間の信頼性を確保でき、安定して
再現性を良く原料ガスを供給できる原料ガス供給装置を
提供することにある。
再現性を良く原料ガスを供給できる原料ガス供給装置を
提供することにある。
［課題を解決するための手段］
上記の目的を達成するための本発明の詳細な説明すると
、本発明は原料液を収容する原料タンクと、前記原料タ
ンク内の前記原料液を加熱して原料ガスを得る加熱手段
と、得られた前記原料ガスの蒸気圧により該原料ガスを
供給相手側へ導くガス供給流路とを備えた原料ガス供給
装置において、前記原料タンク内の上部空間又は前記ガ
ス供給流路のガス圧を検出する圧力計が設けられ、前記
原料タンク内の前記上部空間に連通させて圧抜用流路が
設けられ、前記圧抜用流路の先端に液化タンクが設けら
れ、前記圧抜用流路に自動弁が設けられ、前記圧力計と
前記自動弁との間には前記圧力計からの信号に応じて前
記原料タンク内の前記上部空間における圧力が設定圧力
になるように前記自動弁を制御する圧力制御器が設けら
れていることを特徴とする。
、本発明は原料液を収容する原料タンクと、前記原料タ
ンク内の前記原料液を加熱して原料ガスを得る加熱手段
と、得られた前記原料ガスの蒸気圧により該原料ガスを
供給相手側へ導くガス供給流路とを備えた原料ガス供給
装置において、前記原料タンク内の上部空間又は前記ガ
ス供給流路のガス圧を検出する圧力計が設けられ、前記
原料タンク内の前記上部空間に連通させて圧抜用流路が
設けられ、前記圧抜用流路の先端に液化タンクが設けら
れ、前記圧抜用流路に自動弁が設けられ、前記圧力計と
前記自動弁との間には前記圧力計からの信号に応じて前
記原料タンク内の前記上部空間における圧力が設定圧力
になるように前記自動弁を制御する圧力制御器が設けら
れていることを特徴とする。
［作 用］
このような原料タンク内の上部空間又はガス供給流路内
のガス圧を圧力側で検出し、その信号を圧力制御器に入
れてガス圧が高くなり過ぎたとき圧抜用流路の自動弁を
開いて、原料タンク内の上部空間の蒸気圧が所定圧力に
なるようにすると、マスフローコント・ローラの如き流
量制御器を用いないで流量制御が行える。
のガス圧を圧力側で検出し、その信号を圧力制御器に入
れてガス圧が高くなり過ぎたとき圧抜用流路の自動弁を
開いて、原料タンク内の上部空間の蒸気圧が所定圧力に
なるようにすると、マスフローコント・ローラの如き流
量制御器を用いないで流量制御が行える。
［実施例］
以下、本発明の実施例を第１図を参照して詳細に説明す
る。なお、前述した第２図と相対応する部分には同一符
号をつけて示している。本実施例の原料ガス供給装置に
おいては、加熱手段３は温度制御器１１で常に原料液２
の気化が行える所要の温度に制御されるようになってい
る。ガス供給流路５には、そこを流れる原料ガスの圧力
を検出して所定値になると信号を出す圧力計１２が設け
られている。また、原料タンク１内の上部空間４に連通
させて圧抜用流路１３が設けられ、該圧抜用流路１３の
先端には液化タンク１４が設けられ ′ている。圧抜用
流路１３には原料タンク１内の上部空間４における圧抜
きの制御をを行う自動弁１５が設けられている。圧力計
１２と自動弁１５との間は、該圧力計１２から信号が出
ると該自動弁１５に開信号を出す圧力制御器１６が設け
られている。液化タンク１４には原料タンクゴの上部空
間から送られて来る余分な原料ガスを液化するため熱交
換器１７と、その温度コントロールユニット１８と、液
化タンク１４の冷却ジャケット１９と、冷媒を冷却ジャ
ケット１９と熱交換器１７との間を循環させる冷媒循環
路２０と、循環ポンプ２１とが設けられている。
る。なお、前述した第２図と相対応する部分には同一符
号をつけて示している。本実施例の原料ガス供給装置に
おいては、加熱手段３は温度制御器１１で常に原料液２
の気化が行える所要の温度に制御されるようになってい
る。ガス供給流路５には、そこを流れる原料ガスの圧力
を検出して所定値になると信号を出す圧力計１２が設け
られている。また、原料タンク１内の上部空間４に連通
させて圧抜用流路１３が設けられ、該圧抜用流路１３の
先端には液化タンク１４が設けられ ′ている。圧抜用
流路１３には原料タンク１内の上部空間４における圧抜
きの制御をを行う自動弁１５が設けられている。圧力計
１２と自動弁１５との間は、該圧力計１２から信号が出
ると該自動弁１５に開信号を出す圧力制御器１６が設け
られている。液化タンク１４には原料タンクゴの上部空
間から送られて来る余分な原料ガスを液化するため熱交
換器１７と、その温度コントロールユニット１８と、液
化タンク１４の冷却ジャケット１９と、冷媒を冷却ジャ
ケット１９と熱交換器１７との間を循環させる冷媒循環
路２０と、循環ポンプ２１とが設けられている。
液化タンク１４は原料タンク１の温度、即ち原料液２の
蒸発温度より低く温度コントロールユニット１８でコン
トロールされ、原料ガスの液化が行えるようになってい
る。例えば、原料が５ｉＣ２４の場合、ＢＰが５６．８
℃なので、温度コントロールユニット１８の設定温度は
０℃とする。
蒸発温度より低く温度コントロールユニット１８でコン
トロールされ、原料ガスの液化が行えるようになってい
る。例えば、原料が５ｉＣ２４の場合、ＢＰが５６．８
℃なので、温度コントロールユニット１８の設定温度は
０℃とする。
これにより、液化タンク１４は圧力計１２の指示値に対
し十分な圧力差を有し、圧力制御器１６からの信号によ
り自動弁１５が開となったとき、原料ガスを液化タンク
１４に導くことができる。
し十分な圧力差を有し、圧力制御器１６からの信号によ
り自動弁１５が開となったとき、原料ガスを液化タンク
１４に導くことができる。
このような原料ガス供給装置は、ガス供給流路５が供給
している原料ガスの圧力が所定圧力になると圧力計１２
が信号を出し、この信号で圧力制御器１６が自動弁１５
に開信号を出す。これにより自動弁１５が開となると、
原料タンク１内の上部空間４の余分な原料ガスが圧抜用
流路１３を経て液化タンク１４に導かれ液化され、ガス
供給流路５を流れる原料ガスの圧力が所要値になるよう
に制御がなされる。原料ガスの圧力が所要値に戻ると、
圧力制ｍ器１６から開信号が出なくなり、自動弁１５が
開となる。
している原料ガスの圧力が所定圧力になると圧力計１２
が信号を出し、この信号で圧力制御器１６が自動弁１５
に開信号を出す。これにより自動弁１５が開となると、
原料タンク１内の上部空間４の余分な原料ガスが圧抜用
流路１３を経て液化タンク１４に導かれ液化され、ガス
供給流路５を流れる原料ガスの圧力が所要値になるよう
に制御がなされる。原料ガスの圧力が所要値に戻ると、
圧力制ｍ器１６から開信号が出なくなり、自動弁１５が
開となる。
このような原料ガス供給装置においては、ガス供給流路
５の先端に接続されている反応装置の圧力損により圧力
計１２の設定値が異なってくる。
５の先端に接続されている反応装置の圧力損により圧力
計１２の設定値が異なってくる。
即ち、機差を有する。故に、各装置毎に実際のデータを
集積し、最適条件をみい出さなければならない。実機の
一例を示すと、次の通りである。
集積し、最適条件をみい出さなければならない。実機の
一例を示すと、次の通りである。
原料タンクの加熱手段温度：１００℃
コントロール設定圧力 ： ０．５Ｋｇ±０．０２
（ゲージ圧） 液化タンク設定温度 二〇℃ 上記条件にて長期間安定して原料ガスを発生させること
ができ、且つ製品の品質も問題なかった。
（ゲージ圧） 液化タンク設定温度 二〇℃ 上記条件にて長期間安定して原料ガスを発生させること
ができ、且つ製品の品質も問題なかった。
なお、圧力計１２は単に圧力信号だけを出し、圧力制御
器１６で該圧力信号と設定圧力との比較を行って、設定
圧力を越えたとき自動弁１５に開信号を出すようにする
こともできる。
器１６で該圧力信号と設定圧力との比較を行って、設定
圧力を越えたとき自動弁１５に開信号を出すようにする
こともできる。
また、圧力計１２は上部空間４の圧力を直接検出できる
ように原料タンク１に設けても良い。
ように原料タンク１に設けても良い。
さらに、原料ガスの供給圧力が低い場合にＣよ、圧力計
１２又は圧力制御器１６から温度制御器１１に信号を与
えて、加熱手段３の温度を上げるように制御することも
できる。
１２又は圧力制御器１６から温度制御器１１に信号を与
えて、加熱手段３の温度を上げるように制御することも
できる。
［発明の効果］
以上説明したように本発明に係る原料ガス供給装置は、
原料タンク内の上部空間又はガス供給流路内のガス圧を
圧力計で検出し、その信号を圧力制御器に入れてガス圧
が高くなり過ぎたとき圧抜用流路の自動弁を開いて原料
タンク内の上部空間の蒸気圧が所定圧力になるようにし
ているので、マス７０−コントローラの如き流量制御器
を用いないで流量制御を行える利点がある。特に本発明
では、ガス圧が高くなり過ぎると、自動弁を問いて圧抜
用流路から原料ガスを液化タンク側に扱く構造としてい
るので、流量制御器を用いないでも制御の応答性の低下
をまねくことなく、流量制御を行える利点がある。また
、液化タンクに回収した原料ガスは液化するので、むだ
なく再利用できる利点がある。更に、本発明ではマスフ
ローコントローラの如き流量制御器を用いないので、腐
食や反応生成物質による故障の可能性を改善できる利点
がある。
原料タンク内の上部空間又はガス供給流路内のガス圧を
圧力計で検出し、その信号を圧力制御器に入れてガス圧
が高くなり過ぎたとき圧抜用流路の自動弁を開いて原料
タンク内の上部空間の蒸気圧が所定圧力になるようにし
ているので、マス７０−コントローラの如き流量制御器
を用いないで流量制御を行える利点がある。特に本発明
では、ガス圧が高くなり過ぎると、自動弁を問いて圧抜
用流路から原料ガスを液化タンク側に扱く構造としてい
るので、流量制御器を用いないでも制御の応答性の低下
をまねくことなく、流量制御を行える利点がある。また
、液化タンクに回収した原料ガスは液化するので、むだ
なく再利用できる利点がある。更に、本発明ではマスフ
ローコントローラの如き流量制御器を用いないので、腐
食や反応生成物質による故障の可能性を改善できる利点
がある。
第１図は本発明に係る原料ガス供給装置の一実施例を示
す系統図、第２図は従来の装置の系統図である。 １・・・原料タンク、２・・・原料液、３・・・加熱手
段、４・・・上部空間、５・・・ガス供給流路、１２・
・・圧力計−１３・・・圧抜用流路、１４・・・液化タ
ンク、１５・・・自動弁、１６・・・圧力制御器。
す系統図、第２図は従来の装置の系統図である。 １・・・原料タンク、２・・・原料液、３・・・加熱手
段、４・・・上部空間、５・・・ガス供給流路、１２・
・・圧力計−１３・・・圧抜用流路、１４・・・液化タ
ンク、１５・・・自動弁、１６・・・圧力制御器。
Claims (1)
- 原料液を収容する原料タンクと、前記原料タンク内の前
記原料液を加熱して原料ガスを得る加熱手段と、得られ
た前記原料ガスの蒸気圧により該原料ガスを供給相手側
へ導くガス供給流路とを備えた原料ガス供給装置におい
て、前記原料タンク内の上部空間又は前記ガス供給流路
のガス圧を検出する圧力計が設けられ、前記原料タンク
内の前記上部空間に連通させて圧抜用流路が設けられ、
前記圧抜用流路の先端に液化タンクが設けられ、前記圧
抜用流路に自動弁が設けられ、前記圧力計と前記自動弁
との間には前記圧力計からの信号に応じて前記原料タン
ク内の前記上部空間における圧力が設定圧力になるよう
に前記自動弁を制御する圧力制御器が設けられているこ
とを特徴とする原料ガス供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12362088A JPH01293130A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | 原料ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12362088A JPH01293130A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | 原料ガス供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01293130A true JPH01293130A (ja) | 1989-11-27 |
Family
ID=14865097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12362088A Pending JPH01293130A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | 原料ガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01293130A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5540059A (en) * | 1994-02-28 | 1996-07-30 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Method and apparatus for supplying gaseous raw material |
| JP2011124457A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Mitsubishi Electric Corp | はんだ接合装置 |
-
1988
- 1988-05-20 JP JP12362088A patent/JPH01293130A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5540059A (en) * | 1994-02-28 | 1996-07-30 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Method and apparatus for supplying gaseous raw material |
| JP2011124457A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Mitsubishi Electric Corp | はんだ接合装置 |
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