JPH01206252A - Method of detecting gas and apparatus therefor - Google Patents

Method of detecting gas and apparatus therefor

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JPH01206252A
JPH01206252A JP3155688A JP3155688A JPH01206252A JP H01206252 A JPH01206252 A JP H01206252A JP 3155688 A JP3155688 A JP 3155688A JP 3155688 A JP3155688 A JP 3155688A JP H01206252 A JPH01206252 A JP H01206252A
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gas detection
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隆司 山口
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Abstract

PURPOSE:To reduce power consumption of a gas sensor by a method wherein a heater and a gas-pressure-sensitive element are laminated on a board, a power pulse of a width 1 second or below and a duty ratio 1/10 or below is given to the heater to heat the gas-pressure-sensitive element intermittently, and thereby a gas is detected. CONSTITUTION:A gas is detected by a gas sensor 2 fabricated by laminating a heater 12 and a gas-sensitive element 20 on a substrate 4. A power pulse of a width 1 second or less and a duty ratio 1/10 or below is given to the heater 12, so as to heat the gas-sensitive element 20 intermittently. By this heating the sensitive element 20 is activated intermittently and thereby the gas is detected. The width of the power pulse is set to be 50m/sec or below, and the interval thereof is set to be 500m/sec or above. It is preferable that the sensitive element 20 is made filmy with a film thickness set to be 50mu or below. By this constitution, power consumption of the gas sensor is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の利用分野〕 この発明はガスの検出に関し、特に検出に用いるガスセ
ンサの消費電力の軽減に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to gas detection, and particularly to reducing power consumption of a gas sensor used for detection.

[従来技術] ガスセンサの消費電力の軽減は、ガスの検出の分野での
基本的iiの1つである。そして現在までの研究は、セ
ンサの小形化に向けられてきた。
[Prior Art] Reducing the power consumption of gas sensors is one of the fundamentals in the field of gas detection. Research to date has focused on miniaturizing sensors.

しかしセンサの小形化には限界が有ることも事実である
However, it is also true that there is a limit to the miniaturization of sensors.

発明者は、ガスセンサに短時間の加熱パルスを加え、ガ
スセンサを間欠的に加熱して、センサを動作させること
を検討した。また発明者は、ガスセンサの構造を複雑化
させず、既存のセンサ構造を用いて、消費電力を減少さ
せることも考慮した。
The inventor considered applying a short heating pulse to the gas sensor to intermittently heat the gas sensor to operate the sensor. The inventor also considered reducing power consumption by using an existing sensor structure without complicating the structure of the gas sensor.

なおここで関連ある先行技術を示す。実公昭55−92
0号公報は、耐熱絶縁基板上にヒータと−ガス感応部を
積層し、ガスセンサとすることを提案している。即ちこ
の発明で用いるガスセンサは、それ自体としては公知で
ある。しかしこの公報は、ガス感応部の間欠的加熱に付
いてはふれていない。
In addition, related prior art is shown here. Jitsukō 55-92
No. 0 proposes laminating a heater and a gas sensing section on a heat-resistant insulating substrate to form a gas sensor. That is, the gas sensor used in this invention is known per se. However, this publication does not mention intermittent heating of the gas sensitive section.

米国特許3906.473号公報は、ガスセンサを高温
域と低温域とに交互に加熱し、低温域での出力からCO
を検出することを提案している。
U.S. Patent No. 3906.473 discloses that a gas sensor is heated alternately to a high temperature range and a low temperature range, and CO is calculated from the output in the low temperature range.
proposed to detect.

この場合の加熱周期は、例えば高温側が20秒問、低温
側が40秒間とされる。
The heating cycle in this case is, for example, 20 seconds on the high temperature side and 40 seconds on the low temperature side.

[発明の課:jli] この発明の課題は、ガスセンサの消費電力を節減する点
に有る。
[Invention Section: jli] An object of the present invention is to reduce the power consumption of a gas sensor.

[発明の構成と作用コ この発明の着眼点は、次の点に有る。[Structure and function of the invention] The focus of this invention is on the following points.

(1)  センサのガス感応部を罹く短時間だけ加熱し
ても、センサ、は動作する。例えば、毎秒1回0゜2 
m5ecだけガス感応部を加熱しても、センサは動作す
る。これまでの研究では、センサを動作させる、あるい
はセンサを活性化させるのに必要な加熱時間の下限は明
らかでなかった。そして発明者は、センサの活性化に必
要な加熱時間は、掻く短いことを見出した。従って、セ
ンサのガス感応部を間欠的に短時間加熱し、その他の期
間はガス感応部の加熱を実質上停止すれば、消費電力を
減少できる。
(1) The sensor operates even if the gas-sensitive part of the sensor is heated for only a short period of time. For example, once per second 0°2
The sensor operates even if the gas sensitive part is heated by m5ec. Previous research has not determined a lower limit for the heating time required to operate or activate the sensor. The inventor has also discovered that the heating time required to activate the sensor is quite short. Therefore, power consumption can be reduced by intermittently heating the gas sensitive part of the sensor for short periods of time and substantially stopping heating the gas sensitive part during other periods.

(2)短時間の加熱によりガス感応部を活性化するには
、ヒータとガス感応部との熟伝導を高める必要が有る。
(2) In order to activate the gas sensitive part by heating for a short time, it is necessary to increase the efficient conduction between the heater and the gas sensitive part.

ヒータとガス感応部との熟伝導が速ければ、短時間にガ
ス感応部を加熱できる。これに対してこの間の熱伝導が
遅いと、ヒータへの電力パルスを長くせねばならない。
If the conduction between the heater and the gas sensitive part is fast, the gas sensitive part can be heated in a short time. On the other hand, if heat conduction is slow during this time, the power pulse to the heater must be lengthened.

(3)これらの要請にセンサの構造を複雑化しないこと
を加味すると、基板上にヒータとガス感応部とを積層し
たセンサが適している。この構造では、ヒータ上にガス
感応部を積層しているので、両者間の熱伝導が速い。一
方基板を用いることによる消費電力の増加は、さして大
きなものではない。ヒータからガス感応部への熱伝導と
、基板への熱伝導とが等しいとすると、基板による消費
電力の増加は2倍に過ぎない。これはガス感応部の加熱
時間を短くすることの効果に比べ極く小さい。
(3) Considering these requirements and not complicating the structure of the sensor, a sensor in which a heater and a gas sensing section are stacked on a substrate is suitable. In this structure, since the gas sensing section is stacked on the heater, heat conduction between the two is fast. On the other hand, the increase in power consumption due to the use of a substrate is not very large. Assuming that the heat conduction from the heater to the gas sensitive section is equal to the heat conduction to the substrate, the increase in power consumption by the substrate is only twice as large. This is extremely small compared to the effect of shortening the heating time of the gas sensitive section.

またヒータと基板との間に、ガラス層等の断熱層を設け
れば、基板への熱損失を更に小さくできる。
Furthermore, if a heat insulating layer such as a glass layer is provided between the heater and the substrate, heat loss to the substrate can be further reduced.

例えば、ガラスの熱伝導率は基板のアルミナに比べれば
、l/20程度に過ぎない。
For example, the thermal conductivity of glass is only about 1/20 of that of alumina for the substrate.

この発明では、これらの知見を基にガスを検出する。即
ち、基板上にヒータとガス感応部とを積円し、両者間の
熱伝導を速めろ。モしてヒータには、幅1秒以下でデユ
ーティ比1/10以下の電力パルスを加え、ガス感応部
を間欠的に加熱しガスを検出する。
In this invention, gas is detected based on these findings. That is, the heater and the gas sensitive part should be placed in a circle on the substrate to speed up heat conduction between the two. Then, a power pulse with a width of 1 second or less and a duty ratio of 1/10 or less is applied to the heater to intermittently heat the gas sensing part and detect gas.

電力パルスの幅の下限は、ガス感応部を活性化するのに
要する時間で定まる。この時間は、現在の測定では0.
2w+sec以下である。またパルス幅の下限は、ヒー
タからガス感応部への熱伝導に要する時間の制限も受け
る。電力パルスの幅を極端に短くしても、ヒータからガ
ス感応部への熱伝導に時間を要するため、より長い電力
パルスを加えたのと同じ結果になってしまう。そのため
電力パルスの幅の下限には、特に意味はない。
The lower limit of the width of the power pulse is determined by the time required to activate the gas sensitive part. This time is 0.
It is less than 2w+sec. The lower limit of the pulse width is also limited by the time required for heat conduction from the heater to the gas sensitive section. Even if the width of the power pulse is made extremely short, the result will be the same as applying a longer power pulse because it takes time for heat to be conducted from the heater to the gas sensitive part. Therefore, the lower limit of the power pulse width has no particular meaning.

この発明では、短い電力パルスを間欠的に加えるため、
基板が昇温する前に加熱パルスが終了する。このため基
板の温度は実質上上昇せず、基板の取り扱いが容易にな
る。従来の検出方法では、基板全体が加熱されるので、
基板をハウジングから断熱層ねばならない。このため基
板の保持強度が低く、またセンサの組み立て過程も複雑
になる。
In this invention, short power pulses are applied intermittently;
The heating pulse ends before the substrate heats up. Therefore, the temperature of the substrate does not substantially increase, making it easier to handle the substrate. In traditional detection methods, the entire substrate is heated;
The board must be insulated from the housing. Therefore, the holding strength of the substrate is low, and the process of assembling the sensor becomes complicated.

これに対して、電力パルスの幅を短くし、基板の昇温を
防止すれば、基板を直接ハウジングに固定し、基板の保
持強度を高め、同時にセンサの組み立てを簡単にできる
On the other hand, if the width of the power pulse is shortened to prevent the temperature of the board from rising, the board can be directly fixed to the housing, increasing the holding strength of the board, and at the same time simplifying the assembly of the sensor.

次にガス感応部は、薄く熱容量の小さなものが好ましい
。熱容量の大きなものではガス感応部の昇温に時間を要
し、電力パルスの幅を短くできないためである。このた
めには、ガス感応部を膜状とするのが好ましく、特にm
Wを50μm以下、より好ましくは20μm以下とする
のが好ましい。
Next, the gas sensitive part is preferably thin and has a small heat capacity. This is because if the heat capacity is large, it takes time to raise the temperature of the gas sensitive part, and the width of the power pulse cannot be shortened. For this purpose, it is preferable that the gas sensitive part is in the form of a film, especially m
It is preferable that W is 50 μm or less, more preferably 20 μm or less.

ガス感応部の材質には、SnO,やIn1Os、BaS
now、Pet’s、Ti1t等の金属酸化物半導体、
Zr0tや5btOs等のイオン伝導性固体電解質、あ
るいは接触酸化触媒等を用いる。接触酸化触媒の場合、
可燃性ガスの燃焼による発熱を測温抵抗体等により検出
する。
The material of the gas sensitive part is SnO, In1Os, BaS.
metal oxide semiconductors such as now, Pet's, Tilt,
An ion conductive solid electrolyte such as ZrOt or 5btOs or a catalytic oxidation catalyst is used. For catalytic oxidation catalysts,
Heat generated by the combustion of flammable gas is detected using a resistance temperature detector, etc.

ガス感応部とヒータとを絶縁する必要がある場合、その
間にガラス等の絶縁層を設ける。絶縁層は、ヒータと基
板の間の断熱層よりも薄くし、熱伝導の妨げとならない
ようにするのが好ましい。
If it is necessary to insulate the gas sensitive part and the heater, an insulating layer such as glass is provided between them. The insulating layer is preferably thinner than the heat insulating layer between the heater and the substrate so as not to impede heat conduction.

このようなガス検出方法を実行するには、例えば適当な
パルス発生手段を設けて、ヒータに接続したスイッチを
オンさせ、短時間パルス的にヒータを発熱させる。そし
てセンサ出力のピーク値、あるいは特定の時点でのセン
サ出力から、ガスを検出する。
To carry out such a gas detection method, for example, a suitable pulse generating means is provided, a switch connected to the heater is turned on, and the heater generates heat in a short pulse manner. Then, gas is detected from the peak value of the sensor output or from the sensor output at a specific point in time.

[実施例1] 第1図〜第8図に、Snow等の金属酸化物半導体をガ
ス感応部に用いた実施例を示す。
[Example 1] Figs. 1 to 8 show an example in which a metal oxide semiconductor such as Snow is used for the gas sensitive part.

S nC14の水溶液をアンモニアで中和し、スズ酸の
ゾルを沈でルさせた。ゾルの乾燥後に、空気中700℃
で1時間焼成し、SnO,を得た。5nO1は、菖i、
03やZnO)FewO+等の金属酸化物半導体に変え
ても良い。このSn0mを用いて、第1図のガスセンサ
2を得た。
An aqueous solution of SnC14 was neutralized with ammonia to precipitate a stannic acid sol. After drying the sol, 700℃ in air
After firing for 1 hour, SnO was obtained. 5nO1 is irises i,
It may be changed to a metal oxide semiconductor such as 03 or ZnO) FewO+. Using this Sn0m, the gas sensor 2 shown in FIG. 1 was obtained.

図において、4は厚さ0.3+mのアルミナ基板で、そ
の全面に厚さ50μmのガラス断熱層6を設けた。断熱
層6には、IC製造用のアンダーコート用ガラスを用い
、その熱伝導率はアルミナ基板4の約1/20である。
In the figure, 4 is an alumina substrate with a thickness of 0.3+m, and a glass heat insulating layer 6 with a thickness of 50 μm was provided on the entire surface thereof. The heat insulating layer 6 is made of undercoat glass for IC manufacturing, and its thermal conductivity is about 1/20 that of the alumina substrate 4.

断熱層6上に、金Ti株8.10と、Ru Otヒータ
(IA厚20μm)とを設けた。Rub、ヒータ12の
上にIC製造用のオーバーコート用ガラス14をv1層
しくWX厚10μm)、その上に金電極16.18とS
 nOを膜20 (膜厚lθμs)を設けた。これらの
膜は、全て印刷により設けた。Snown0w全20感
応部とする。
On the heat insulating layer 6, a gold Ti stock 8.10 and a Ru Ot heater (IA thickness 20 μm) were provided. Rub, over the heater 12, lay a layer of overcoat glass 14 for IC manufacturing (WX thickness 10 μm), and on top of that, gold electrodes 16.18 and S
A film 20 (film thickness lθμs) of nO was provided. All of these films were provided by printing. Snow0w has a total of 20 sensing parts.

なおここで、基板4をRu Otヒータ!2と絶縁した
ので、基板4にはステンレス等の金属を用いても良い。
Here, the board 4 is a Ru Ot heater! Since the substrate 4 is insulated from the substrate 2, a metal such as stainless steel may be used for the substrate 4.

基板4に絶縁体を用いる場合、特に熱伝導率の低いガラ
スを用いる場合、絶縁膜6は設けなくても良い。ガラス
膜14は、例えば5ift嘆やAltos膜等としても
良い。これらの膜はオーバーコート用ガラスよりも熱伝
導率が高く、また薄くできる。例えばCVDやシリカゾ
ル、アルミナゾルの熟分解でシリカ膜やアルミナ膜を設
ける場合、50A〜1μmの膜厚で、IMΩ以上の絶縁
抵抗が得られる。SnO,膜20の一方の電極にヒータ
12を兼用する場合、電極16.18の一方を省略して
も良い。この場合、ヒータ12をpt膜等の貴金属で構
成するのが好ましく、また絶縁層14は不要になる。更
に、ヒータ12の並列抵抗としてSnown0w全20
、Snown0w全20値の変化をヒータ12の並列抵
抗の変化として検出しても良い。この場合、電極16.
18は不要である。
When using an insulator for the substrate 4, especially when using glass with low thermal conductivity, the insulating film 6 may not be provided. The glass film 14 may be, for example, a 5ift film or an Altos film. These films have higher thermal conductivity than overcoating glass and can be made thinner. For example, when a silica film or an alumina film is provided by CVD or by ripe decomposition of silica sol or alumina sol, an insulation resistance of IMΩ or more can be obtained with a film thickness of 50 A to 1 μm. When one electrode of the SnO film 20 also serves as the heater 12, one of the electrodes 16 and 18 may be omitted. In this case, it is preferable that the heater 12 be made of a noble metal such as a PT film, and the insulating layer 14 becomes unnecessary. Furthermore, as a parallel resistance of the heater 12, Snow0w total 20
, Snown0w may be detected as a change in the parallel resistance of the heater 12. In this case, electrode 16.
18 is unnecessary.

第2図に、ガスセンサ2の積W5構造を示す。FIG. 2 shows the product W5 structure of the gas sensor 2.

第3図に、センサ2の全体構造を示す。図において、2
2はハウジングで、その中央に設けたくぼみ部に接着剤
により基板4を固定した。また24はハウジング22に
固定したリードで、各電極8.10,16.18とワイ
ヤボンディングして有る。なお電極8.10のワイヤボ
ンディング部にはガラス層14を設けず、ワイヤボンデ
ィングを可能にした。実施例の場合、基板4はほとんど
常温のままで使用されろ。このためハウジング22と基
板4との断熟は不要で、接着剤による固定が可能になる
。ハウジング22を図示しないカバーと結合すれば、ガ
スセンサ2が完成する。
FIG. 3 shows the overall structure of the sensor 2. In the figure, 2
Reference numeral 2 denotes a housing, and a substrate 4 is fixed to a recess provided in the center with an adhesive. Further, 24 is a lead fixed to the housing 22, and is wire-bonded to each electrode 8.10, 16.18. Note that the glass layer 14 was not provided at the wire bonding portion of the electrode 8.10, making wire bonding possible. In this embodiment, the substrate 4 is used at almost room temperature. Therefore, it is not necessary to separate the housing 22 and the substrate 4, and it is possible to fix them with an adhesive. The gas sensor 2 is completed by combining the housing 22 with a cover (not shown).

第4図に、ピークホールド回路を用いた回路例を示す。FIG. 4 shows an example of a circuit using a peak hold circuit.

図において、Ebは5v等の適宜の電源、42はパルス
発生手段としての発振回路で、ここでは毎秒1回幅10
esecのパルスを出力する。Trはトランジスタスイ
ッチで、リレー等の任意のスイッチでも良く、発振回路
42の出力パルスにより電源Ebをヒータ12に接続す
る。
In the figure, Eb is an appropriate power source such as 5V, and 42 is an oscillation circuit as a pulse generating means, and here, the pulse width is 10 times per second.
Outputs esec pulse. Tr is a transistor switch, which may be any switch such as a relay, and connects the power source Eb to the heater 12 by the output pulse of the oscillation circuit 42.

R1はセンサ2の負荷抵抗で、その両端間電圧をセンサ
出力Vとする。
R1 is a load resistance of the sensor 2, and the voltage across it is taken as the sensor output V.

A1.A2は演算増幅器、D!〜D3はダイオード、C
1はコンデンサ、R2−R4は抵抗で、これらによりピ
ークホールド回路44を構成する。
A1. A2 is an operational amplifier, D! ~D3 is a diode, C
1 is a capacitor, R2-R4 are resistors, and these constitute a peak hold circuit 44.

即ち、出力VのピークをコンデンサCtに蓄積し、これ
を演算増幅器A2か4外部出力Voutとして取り出す
That is, the peak of the output V is accumulated in the capacitor Ct, and is taken out from the operational amplifier A2 as the external output Vout.

第5図に、センサ出力Vのサンプリング時期を特定した
変形例を示す。この変形例では、発振回路42の出力パ
ルスの終了後、所定のi適時間経過した時点で、サンプ
リング信号を遅延凹路52で発生させる。この信号によ
り、サンプルホールド回路内蔵のA/D変換回路A/D
を、エツジトリガーする。そしてA/D変換した出力を
、表示回路D 1splayに表示し、A/D変換回路
の出力を制御出力Controlとして外部に取り出す
FIG. 5 shows a modification in which the sampling timing of the sensor output V is specified. In this modification, a sampling signal is generated in the delay concave path 52 when a predetermined i suitable time has elapsed after the output pulse of the oscillation circuit 42 ends. This signal causes the A/D conversion circuit A/D with a built-in sample and hold circuit to
, trigger the edge. Then, the A/D converted output is displayed on the display circuit D1play, and the output of the A/D conversion circuit is taken out as a control output Control.

第6図に、実施例の動作波形を示す。センサ2には、毎
秒1回幅10 m5ec、電力800 +aWattの
電力パルスを加えた。実効消費電力は8mWattであ
る。なおセンサ2を連続加熱する場合の消!2電力は、
センサ温度を350℃として約200鋼Wattである
FIG. 6 shows operational waveforms of the embodiment. A power pulse with a width of 10 m5ec and a power of 800+aWatt was applied once per second to the sensor 2. Effective power consumption is 8 mWatt. In addition, when continuously heating sensor 2, turn off! 2 electric power is
When the sensor temperature is 350° C., it is about 200 steel Watt.

これに伴いガス感応部(Sno、膜20)の温度Tsは
図の2)の様に変化する。電力パルスと電力パルスとの
間では、ガス感応部の温度は室温付近に有り、また加熱
時間が短いため基板4の温度は室温付近に保たれる。
Along with this, the temperature Ts of the gas sensitive part (Sno, film 20) changes as shown in 2) in the figure. Between the power pulses, the temperature of the gas sensitive part is near room temperature, and since the heating time is short, the temperature of the substrate 4 is maintained near room temperature.

この電力パルスに対して、100KΩの負荷抵抗RNこ
加わる電圧Vは、3)の様に変化した。雰囲気には20
℃相対湿度65%を用い、100PP−のエタノール中
と100PP−のCO中とに付いて、結果を示す。短時
間の間欠的加熱にもかかわらず、センサ出力は雰囲気に
応答し、ガスを検出できる。
In response to this power pulse, the voltage V applied to the load resistance RN of 100 KΩ varied as shown in 3). 20 for the atmosphere
Results are shown for 100 PP in ethanol and 100 PP in CO using 65% relative humidity. Despite short intermittent heating, the sensor output is responsive to the atmosphere and can detect gas.

エタノールへの出力のピークは電力パルスの終了時付近
に有り、出力のピークと電力パルスとの間にはかすかな
時間遅れが見られる。そこでエタノールの検出の場合、
電力パルスの終了時付近での出力をサンプリングするの
が好ましい。なおピーりの遅れは、ヒータ12からSn
0w膜 20への熱伝導の遅れによるものであろう。一
方COへの出力は、電力パルスの終了後も残存する。従
って、COは任きの時点の信号から検出てきることにな
る。
The peak output to ethanol is near the end of the power pulse, and there is a slight time delay between the peak output and the power pulse. Therefore, in the case of ethanol detection,
Preferably, the output is sampled near the end of the power pulse. Note that the delay in peeling is due to the Sn
This is probably due to the delay in heat conduction to the 0W film 20. The output to CO, on the other hand, remains after the end of the power pulse. Therefore, CO can be detected from the signal at any given point in time.

なお図の4)の様に、iつの電力パルスを更に複数の電
力パルスに分割しても良い。また単なる改悪に過ぎない
が、電力パルスと電力パルスとの間も、わずかな電力を
ヒータ12に加え続けても良い。
Note that as shown in 4) in the figure, i power pulses may be further divided into a plurality of power pulses. Also, although this is just a modification, a small amount of power may continue to be applied to the heater 12 between power pulses.

第7図に、実施例の条件でのI OOpprvのエタノ
ールへの応答波形を示す。出力は第4図の回路でサンプ
リングした(原則として、以下センサ出力Vのピーク値
をサンプリング)。比較例は、センサ2を350℃に連
続加熱した際のものである。
FIG. 7 shows the response waveform of IOOpprv to ethanol under the conditions of the example. The output was sampled using the circuit shown in FIG. 4 (as a general rule, the peak value of the sensor output V is sampled below). In the comparative example, the sensor 2 was continuously heated to 350°C.

第8図に、空気中と、各t o o ppmのエタノ−
ル中及びイソブタン中での、センサ2の抵抗値を示す。
Figure 8 shows the amount of ethanol in air and each t o ppm.
2 shows the resistance values of sensor 2 in water and isobutane.

比較例はセンサ2を連続加熱したものである。実施例で
は、電力パルスの条件を毎秒10m5ec、  50m
5ec、 2m5ecの3種とし、図の横軸には電ツj
パルス印加時の電力を示した。実効電力は、これに電力
パルスのデユーティ比をかけたものとなる。2 m5e
c/ 5ec(デユーティ比11500)てもガスを検
出てさている。
In the comparative example, the sensor 2 was heated continuously. In the example, the power pulse conditions are 10 m5ec and 50 m/s.
There are three types: 5ec and 2m5ec, and the horizontal axis of the figure is electric power j.
The power during pulse application is shown. The effective power is multiplied by the duty ratio of the power pulse. 2 m5e
Gas was detected even at c/5ec (duty ratio 11500).

表1に、種々の加熱条件に対する、空気中と1100p
pのエタノール中との、センサ2の抵抗値を示す。
Table 1 shows the results in air and at 1100p for various heating conditions.
The resistance value of sensor 2 in ethanol of p is shown.

表1 加熱条件   抵抗値(Ω)   実効電力50m5e
c/sec  IM    180K   40800
 +IIWatt 10msec/sec  1.4M  280K   
 8800 mWatt 2msec/sec  2M    500K    
1.6800 mWatt 1msec/see  3M    600K    
1Watt 0.5m5ec/sec   2M    300K 
   1Watt 0.5m5ec/ 10sec  2 M    40
0 K    0 、1Watt 5msec/sin  400K  200K    
O,”08Watt 表1の結果から、電力パルスと電力パルスとの間隔は2
分程度まで問題がないことが判る。そして電力パルスと
電力パルスとの間隔を増すほど、消費電力は減少する。
Table 1 Heating conditions Resistance value (Ω) Effective power 50m5e
c/sec IM 180K 40800
+IIWatt 10msec/sec 1.4M 280K
8800 mWatt 2msec/sec 2M 500K
1.6800 mWatt 1msec/see 3M 600K
1Watt 0.5m5ec/sec 2M 300K
1Watt 0.5m5ec/10sec 2M 40
0 K 0 , 1Watt 5msec/sin 400K 200K
O,”08Watt From the results in Table 1, the interval between power pulses is 2
It turns out that there is no problem up to a minute or so. And as the interval between power pulses increases, power consumption decreases.

次に電力パルスの幅を細くする程、消費電力は減少する
。しかしパルスの幅を細くすると、パルス印加時の電力
を増さねばならないため、消費電力の減少には限界か生
じる。
Next, the narrower the width of the power pulse, the lower the power consumption. However, if the width of the pulse is made narrower, the power required to apply the pulse must be increased, so there is a limit to the reduction in power consumption.

現在の結果では、電力パルスの幅を2 m5ec以下と
しても実効消費電力は余り減少しない。なお電力パルス
の幅の下限には、特に意味はない。例えば幅IOμse
c程度の電力パルスを加えても、ヒータ12からガス感
応部20への然伝導の過程でパルスの波形はなまり、よ
り幅の広いパルスを加えたのと同じ結果になるためであ
る。
According to the current results, even if the width of the power pulse is set to 2 m5ec or less, the effective power consumption does not decrease much. Note that the lower limit of the width of the power pulse has no particular meaning. For example, the width IOμse
This is because even if a power pulse of approximately c.

なお表1の結果は、金li!酸化物半導体の製造条件に
よるしのではない。発明台は、Snのa機化合物(オク
チル酸スズ)の熟分解により、厚さ1μmのSnO,膜
を得た。これを第1図のセンサ2として実験したところ
、200mWattでの連続加熱の場合、空気中の(J
t抗値は120にΩ、100ppI11のエタノール中
の抵抗値は20にΩであった。5m5ec/ seeの
加熱条件で800 mWattの電力パルスを加えると
、空気中の抵抗値は200にΩ、エタノール中では30
にΩであった。
The results in Table 1 are gold li! This is not due to the manufacturing conditions of the oxide semiconductor. In the invention, a SnO film with a thickness of 1 μm was obtained by decomposing a compound of Sn (tin octylate). When we experimented with this as sensor 2 in Fig. 1, we found that in the case of continuous heating at 200 mWatt, (J
The t resistance value was 120Ω, and the resistance value in 100 ppI11 ethanol was 20Ω. When a power pulse of 800 mWatt is applied under heating conditions of 5 m5ec/see, the resistance value in air is 200Ω, and in ethanol it is 30Ω.
It was Ω.

[実施例2コ 第9図や第10図に、Sb、O8等の水素イオン伝導性
固体電解質を用いた実施例を示す。第9図のガスセンサ
92において、94はSb*Osの印刷膜(摩さ10μ
m程度)であり、96はその一方の電極のみを被覆した
通気制限被覆である。通気制限[96には例えば、ち密
に印刷したアルミナやシリカの膜を用いれば良い。
[Example 2] Figures 9 and 10 show an example using a hydrogen ion conductive solid electrolyte such as Sb or O8. In the gas sensor 92 shown in FIG. 9, 94 is a printed film of Sb*Os (10μ
96 is a ventilation-limiting coating that covers only one of the electrodes. For example, a densely printed alumina or silica film may be used for the ventilation restriction [96].

第10図はその付帯回路の例であり、ガス感応部として
のSb!OS膜94の電極] 6,18を短絡し、R7
やCOによる短絡電流からこれらのガスを検出する。こ
の場合も、10 m5ec/ see程度の乍櫨時間の
電力パルスで、Sb*Os膜を活性化できろ。なおSb
*Os膜は、Zr0t膜等の他の固体電解質に変えても
良い。
Figure 10 shows an example of the auxiliary circuit, with Sb! as a gas sensing part! [Electrode of OS film 94] 6 and 18 are short-circuited, and R7
These gases are detected from the short circuit current caused by CO and CO. In this case as well, the Sb*Os film can be activated with a power pulse of about 10 m5ec/see. Note that Sb
*The Os film may be replaced with another solid electrolyte such as a Zr0t film.

[実施例3コ 第11図〜第13図に、接触酸化触媒を用いた実施例を
示す。第1I図において、センサ112の構造は第1図
のものと類似で、112は金’ili極、114.11
6はpt膜を用いたヒータで測温抵抗体として兼用する
。11Bはγ−アルミナ担体に2vt%のPL触媒を担
持させた酸化触媒FJ(膜厚的lOμm)、120はp
t触媒無担持のγ−アルミナ居(膜厚的lOμw+)で
ある。これらのものは、全て印刷で形成した。第12図
にセンサ112の断面図を示す。
[Example 3] Figures 11 to 13 show an example using a catalytic oxidation catalyst. In FIG. 1I, the structure of sensor 112 is similar to that of FIG. 1, 112 is a gold pole, 114.
6 is a heater using a PT film, which also serves as a temperature measuring resistor. 11B is an oxidation catalyst FJ (film thickness: lOμm) in which 2vt% PL catalyst is supported on a γ-alumina carrier; 120 is a p
t-catalyst-free γ-alumina (film thickness: lOμw+). All of these items were formed by printing. FIG. 12 shows a cross-sectional view of the sensor 112.

第13図に、付帯回路の例を示す。図において、132
は例えば10 m5ec/ seeのパルスを出力する
タイマーで、このパルスによりトランジスタTrをオン
させ、ヒータ114,116を発熱さ仕る。R5,R6
は抵抗で、ヒータ114,116とでブリッジ回路を構
成し、ブリッジ出力を差動増幅器134で増幅し、A/
D変換回路A/Dに入力する。そしてタイマー132か
ら、例えばトランジスタTrのオフ直前にサンプリング
信号を取り出し、A/D変換回路A/Dを動作させろ。
FIG. 13 shows an example of ancillary circuit. In the figure, 132
is a timer that outputs a pulse of, for example, 10 m5ec/see, which turns on the transistor Tr and causes the heaters 114 and 116 to generate heat. R5, R6
is a resistor, and constitutes a bridge circuit with heaters 114 and 116, and the bridge output is amplified by a differential amplifier 134, and the A/
Input to D conversion circuit A/D. Then, take out the sampling signal from the timer 132, for example, just before the transistor Tr is turned off, and operate the A/D conversion circuit A/D.

この実施例の場合、帥媒層118やγ−アルミナ層!2
0は、トランジスタTrのオンにより間欠的に加熱され
ろ。この加熱による触媒層118の活性化を利用し、可
燃性ガスを燃焼させる。この燃焼熱はヒータ!14に伝
え、ヒータ114の温度変化を検出出力として取り出す
。センサII2を連続加熱する場合(動作温度380℃
)、消費電力は約400mWattであった。実施例て
は、10秒毎に1回10m5ec幅で1.6Wattの
電力パルスを加え、センサ112を動作させた。消費電
力はI 、6 mWattである。差動増幅器134の
ゲインを、連続加熱時に1o00ppI11のイソブタ
ンに対し30mVの出力が得られろように定めた。実施
例では、looOppmのイソブタンに対し、40mV
の出力が得られた。
In this embodiment, the carrier layer 118 and the γ-alumina layer! 2
0 is intermittently heated by turning on the transistor Tr. The activation of the catalyst layer 118 by this heating is used to combust the combustible gas. This combustion heat is a heater! 14, and the temperature change of the heater 114 is extracted as a detection output. When continuously heating sensor II2 (operating temperature 380℃
), the power consumption was approximately 400 mWatt. In the example, the sensor 112 was operated by applying a power pulse of 1.6 Watt with a width of 10 m5 ec once every 10 seconds. The power consumption is I, 6 mWatt. The gain of the differential amplifier 134 was determined so that an output of 30 mV could be obtained for 1000 ppI11 of isobutane during continuous heating. In the example, 40 mV for isobutane of looOppm.
The output was obtained.

7発明の効果] この発明では、以下の効果が得られる。7 Effects of invention] This invention provides the following effects.

(1)ガスセンサの消費電力を減少できる。(1) Power consumption of the gas sensor can be reduced.

(2)ガスセンサの構造は公知のものを使用てき、消費
電力の軽減に伴うセンサ構造の複雑化がない。
(2) A known structure of the gas sensor can be used, and the sensor structure does not become complicated due to reduction in power consumption.

(3)ガスセンサに用いる基板自体は昇温せず、センサ
の組み立てが容易になり、また基板の保持強度を改善で
きる。
(3) The temperature of the substrate itself used in the gas sensor does not rise, making it easier to assemble the sensor and improving the holding strength of the substrate.

(4)基板とヒータとの間に断熱層を設ければ、基板へ
の熱損失を抑え、消費電力を更に減少できる。
(4) If a heat insulating layer is provided between the substrate and the heater, heat loss to the substrate can be suppressed and power consumption can be further reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、実施例に用いたガスセンサの断面図である。 第2図は、実施例に用いたガスセンサの要部拡大断面図
である。 第3図は、実施例に用いたガスセンサの全体構造を現す
平面図である。 第・1図は、実施例の回路図である。 第5図は、変形例の回路図である。 第6図1)〜4)は実施例の波形図で、第6図1)は電
力パルスの波形図、第6図2)はガス感応部の温度変化
を示す波形図、第6図3)はガスセンサの出力を示す波
形図、第6図4)は変形した電力パルスの波形図である
。 第7図は、1100ppのエタノールへの実施例の応答
特性を現す特性図である。 第8図は、実施例でのセンサ抵抗と電力パルスとの関係
を示す特性図である。 第9図は、第2の実施例に用いたガスセンサの断面図で
ある。 第1O図は、第2の実施例の回路図である。 第1!図は、第3の実施例に用いたガスセンサの断面図
である。 第12図は、第11図の刈−■方向断面図である。 第13図は、第3の実施例の回路図である。 図において、2.92,112  ガスセンサ、4 基
板、6 断熱層、 12.114.116  ヒータ、 14 絶縁層、20,94,118  ガス感応部。 第1図 第2図 、第3図 1f16 図 第7図 T(min) 第9図 第10 m 第11図 瓜 第12 va 第13図
FIG. 1 is a sectional view of a gas sensor used in an example. FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of the main parts of the gas sensor used in the example. FIG. 3 is a plan view showing the overall structure of the gas sensor used in the example. FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment. FIG. 5 is a circuit diagram of a modified example. Figures 6 1) to 4) are waveform diagrams of the example, Figure 6 1) is a waveform diagram of power pulses, Figure 6 2) is a waveform diagram showing temperature changes in the gas sensing section, and Figure 6 3). 6 is a waveform diagram showing the output of the gas sensor, and FIG. 6 (4) is a waveform diagram of a modified power pulse. FIG. 7 is a characteristic diagram showing the response characteristics of the example to 1100 pp of ethanol. FIG. 8 is a characteristic diagram showing the relationship between sensor resistance and power pulse in the example. FIG. 9 is a sectional view of the gas sensor used in the second example. FIG. 1O is a circuit diagram of the second embodiment. 1st! The figure is a sectional view of the gas sensor used in the third example. FIG. 12 is a sectional view in the cutting direction of FIG. 11. FIG. 13 is a circuit diagram of the third embodiment. In the figure, 2.92,112 gas sensor, 4 substrate, 6 heat insulation layer, 12.114.116 heater, 14 insulation layer, 20,94,118 gas sensitive section. Figure 1 Figure 2, Figure 3 1f16 Figure 7 Figure T (min) Figure 9 Figure 10 m Figure 11 Melon 12 va Figure 13

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板上にヒータとガス感応部とを積層したガスセ
ンサによりガスを検出する方法において、ヒータには幅
1秒以下でデューティ比1/10以下の電力パルスを加
えて、ガス感応部を間欠的に加熱し、 この加熱によりガス感応部を間欠的に活性化して、ガス
を検出することを特徴とする、ガス検出方法。
(1) In a method of detecting gas using a gas sensor in which a heater and a gas sensing section are stacked on a substrate, a power pulse with a width of 1 second or less and a duty ratio of 1/10 or less is applied to the heater to intermittently activate the gas sensing section. 1. A gas detection method, characterized in that the gas is detected by heating the gas and intermittently activating the gas sensitive part by this heating.
(2)前記電力パルスの幅を50m秒以下、電力パルス
の間隔を500m秒以上としたことを特徴とする、請求
項1に記載のガス検出方法。
(2) The gas detection method according to claim 1, wherein the width of the power pulse is 50 msec or less, and the interval between the power pulses is 500 msec or more.
(3)前記電力パルスの幅を20m秒以下、電力パルス
の間隔を0.8秒以上、電力パルスのデューティ比を1
/40以下としたことを特徴とする、請求項2に記載の
ガス検出方法。
(3) The width of the power pulse is 20 msec or less, the interval between power pulses is 0.8 seconds or more, and the duty ratio of the power pulse is 1
3. The gas detection method according to claim 2, wherein the gas detection method is 40% or less.
(4)前記電力パルスの幅を、ガス感応部の温度が定常
値に達するのに必要な時間よりも短いものとし、かつ電
力パルスと電力パルスの間にガス感応部を室温付近まで
自然放冷させることを特徴とする、請求項1に記載のガ
ス検出方法。
(4) The width of the power pulse is shorter than the time required for the temperature of the gas sensitive part to reach a steady value, and the gas sensitive part is allowed to cool naturally to around room temperature between power pulses. The gas detection method according to claim 1, characterized in that:
(5)電力パルスと電力パルスとの間は、ヒータに電力
を加えないことを特徴とする、請求項1に記載のガス検
出方法。
(5) The gas detection method according to claim 1, characterized in that no power is applied to the heater between power pulses.
(6)電力パルスによるガス感応部の昇温時の特性から
ガスを検出することを特徴とする、請求項1に記載のガ
ス検出方法。
(6) The gas detection method according to claim 1, characterized in that the gas is detected based on the characteristics when the temperature of the gas sensitive section is increased by a power pulse.
(7)電力パルスと電力パルスとの間の、ガス感応部の
冷却時の特性からガスを検出することを特徴とする、請
求項1に記載のガス検出方法。
(7) The gas detection method according to claim 1, characterized in that the gas is detected from the characteristics of the gas sensitive section during cooling between the power pulses.
(8)前記ガス感応部を膜状の金属酸化物半導体とした
ことを特徴とする、請求項1に記載のガス検出方法。
(8) The gas detection method according to claim 1, wherein the gas sensing portion is a film-like metal oxide semiconductor.
(9)前記ガス感応部を膜状の接触酸化触媒としたこと
を特徴とする、請求項1に記載のガス検出方法。
(9) The gas detection method according to claim 1, wherein the gas sensing portion is a film-like catalytic oxidation catalyst.
(10)前記ガス感応部を膜状の固体電解質としたこと
を特徴とする、請求項1に記載のガス検出方法。
(10) The gas detection method according to claim 1, wherein the gas sensing section is a membrane-like solid electrolyte.
(11)基板上に膜状のヒータを設けると共に、このヒ
ータ上に膜状のガス感応部を積層して、ヒータからガス
感応部への熱伝導を高め、 ヒータへの各電力パルスにより、基板の温度上昇以前に
ガス感応部を温度上昇させると共に、この電力パルスを
間欠的に加えて、ガス感応部を間欠的に加熱し、 この加熱によりガス感応部を活性化してガスを検出する
ガス検出方法。
(11) A film-like heater is provided on the substrate, and a film-like gas sensitive part is laminated on this heater to enhance heat conduction from the heater to the gas sensitive part, and each power pulse to the heater Gas detection involves raising the temperature of the gas sensing part before the temperature rises, and intermittently applying this power pulse to intermittently heat the gas sensing part, and activating the gas sensing part by this heating to detect gas. Method.
(12)前記基板とヒータとの間に断熱層を設けたこと
を特徴とする、請求項11に記載のガス検出方法。
(12) The gas detection method according to claim 11, characterized in that a heat insulating layer is provided between the substrate and the heater.
(13)断熱層をガラス層としたことを特徴とする、請
求項12に記載のガス検出方法。
(13) The gas detection method according to claim 12, wherein the heat insulating layer is a glass layer.
(14)基板上にヒータとガス感応部とを積層したガス
センサを用いたガス検出装置において、幅が1秒以下で
デューティ比が1/10以下の出力パルスを発するパル
ス発生手段と、 この出力パルスにより動作するスイッチと、スイッチの
動作時にガスセンサのヒータに電力を加えるための電源
とを設けたことを特徴とする、ガス検出装置。
(14) In a gas detection device using a gas sensor in which a heater and a gas sensing part are laminated on a substrate, a pulse generating means for emitting an output pulse having a width of 1 second or less and a duty ratio of 1/10 or less; What is claimed is: 1. A gas detection device comprising: a switch operated by the switch; and a power source for applying power to a heater of a gas sensor when the switch is operated.
(15)ガス感応部の出力のピーク値をサンプリングす
るためのピークホールド手段を設けたことを特徴とする
、請求項14に記載のガス検出装置。
(15) The gas detection device according to claim 14, further comprising a peak hold means for sampling the peak value of the output of the gas sensing section.
(16)ガス感応部の特定の時点での出力をサンプリン
グするための、サンプリング手段を設けたことを特徴と
する、請求項14に記載のガス検出装置。
(16) The gas detection device according to claim 14, further comprising sampling means for sampling the output of the gas sensing section at a specific point in time.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0517556U (en) * 1991-08-15 1993-03-05 いすゞ自動車株式会社 NOx sensor
JPH09269306A (en) * 1996-04-02 1997-10-14 New Cosmos Electric Corp Heat ray type semiconductor gas detection element and gas detector
WO2002046734A1 (en) * 2000-12-07 2002-06-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Gas sensor and detection method and device for gas.concentration
JP2005265545A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Tdk Corp Gas sensor
JP2006017681A (en) * 2004-07-05 2006-01-19 Noritz Corp Humidity detector
JP2006504973A (en) * 2002-11-01 2006-02-09 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド Gas sensor
CN101975803A (en) * 2010-09-16 2011-02-16 郑州炜盛电子科技有限公司 Planar gas sensor and manufacturing method thereof
JP2019132721A (en) * 2018-01-31 2019-08-08 日本特殊陶業株式会社 Gas sensor element, gas sensor and gas detection device
CN113484472A (en) * 2021-07-05 2021-10-08 郑州水伟环境科技有限公司 Intelligent multi-channel gas self-adaptive calibration detection chip

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55920U (en) * 1978-06-08 1980-01-07
JPS5618752A (en) * 1979-07-25 1981-02-21 Ricoh Co Ltd Driving method for sensor
JPS61201149A (en) * 1985-03-04 1986-09-05 Ricoh Co Ltd Sensor driving method
JPS61209347A (en) * 1985-03-13 1986-09-17 Shinkosumosu Denki Kk Hot wire type semiconductive gas alarm

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55920U (en) * 1978-06-08 1980-01-07
JPS5618752A (en) * 1979-07-25 1981-02-21 Ricoh Co Ltd Driving method for sensor
JPS61201149A (en) * 1985-03-04 1986-09-05 Ricoh Co Ltd Sensor driving method
JPS61209347A (en) * 1985-03-13 1986-09-17 Shinkosumosu Denki Kk Hot wire type semiconductive gas alarm

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0517556U (en) * 1991-08-15 1993-03-05 いすゞ自動車株式会社 NOx sensor
JPH09269306A (en) * 1996-04-02 1997-10-14 New Cosmos Electric Corp Heat ray type semiconductor gas detection element and gas detector
WO2002046734A1 (en) * 2000-12-07 2002-06-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Gas sensor and detection method and device for gas.concentration
JP2006504973A (en) * 2002-11-01 2006-02-09 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド Gas sensor
JP2005265545A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Tdk Corp Gas sensor
JP4639618B2 (en) * 2004-03-17 2011-02-23 Tdk株式会社 Gas sensor
JP2006017681A (en) * 2004-07-05 2006-01-19 Noritz Corp Humidity detector
CN101975803A (en) * 2010-09-16 2011-02-16 郑州炜盛电子科技有限公司 Planar gas sensor and manufacturing method thereof
JP2019132721A (en) * 2018-01-31 2019-08-08 日本特殊陶業株式会社 Gas sensor element, gas sensor and gas detection device
CN113484472A (en) * 2021-07-05 2021-10-08 郑州水伟环境科技有限公司 Intelligent multi-channel gas self-adaptive calibration detection chip

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