JPH01202465A - 保護被覆材およびそれを利用したサーマルヘッド - Google Patents

保護被覆材およびそれを利用したサーマルヘッド

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JPH01202465A
JPH01202465A JP2562988A JP2562988A JPH01202465A JP H01202465 A JPH01202465 A JP H01202465A JP 2562988 A JP2562988 A JP 2562988A JP 2562988 A JP2562988 A JP 2562988A JP H01202465 A JPH01202465 A JP H01202465A
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JP
Japan
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layer
thermal head
heat
protective coating
coating material
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Pending
Application number
JP2562988A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaru Nikaido
勝 二階堂
Katsuhisa Honma
克久 本間
Tadayoshi Kinoshita
木下 忠良
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/335Structure of thermal heads

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  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、保護被覆材およびそれを利用したサーマルヘ
ッドに関する。
(従来の技術) 近年、サーマルヘッドは少音、省保守、低ランニングコ
スト等の利点を生かして、ファクシミリ。
ワードプロセッサ用プリンタ等の各種記録装置に多用さ
れるようになってきている。一方、これらの機器は小型
化、低価格化、低電力化が要請されており、このためサ
ーマルヘッドにも小型で安価で、かつ高効率のものが望
まれている。
この様な要望を満たすものとして、特開昭52−100
245号公報に記載されているように、保温層としてグ
レーズガラスの代りに熱伝導率の小さな樹脂例えばポリ
イミド樹脂やエポキシ樹脂を用いればよいことが従来よ
り提案されていた。しかしながら耐熱性や、付着力の面
でサーマルヘッドの動作に耐えられるものが得られず実
用化に至らなかった・ 最近本発明者らは、(式1)に示すような分子構造を有
する芳香族ポリイミド樹脂を開発するに至り、保温層と
して樹脂を用いるサーマルヘッドの実用化に目途をつけ
た。
この様なサーマルヘッドの一例を第2図を参照して説明
する。第2図において■は例えばFe−Cr合金よりな
る金属基板、■はビフェニルテトラカルボン酸二無水物
とp−フェニレンジアミンとの当モル混合物の開環重付
加反応時にp−フェニレンジアミンの0.05〜10m
ofi%をビスアミノシロキサンで置き換えて合成した
ポリアミック酸を塗布、焼き付けすることにより得られ
た(式−1)で示されるポリイミド樹脂層、■はポリイ
ミド樹脂層をCDEやAshingから保護するため、
抵抗層形成時の抵抗値制御を容易にするためワイヤーボ
ンディング性改善のために設けられた5102 + 5
iNt SxC等からなる下地層、(へ)はTa−3i
n2. Ti−5if2等からなる発熱抵抗体で、この
発熱抵抗体(イ)上には発熱部■となる開口部を形成す
る如く、All、 AQ−5L−Cu等からなる個別電
極(0及び共通電極■が形成され少なくともこの発熱部
0を被覆するように5i−0−N 。
5L3N4. SiC等からなる保護層■が形成されて
いる。
第2図において保護層(8)は1層として示しであるが
、酸化防止層と耐摩耗層を別々の層として設ける場合や
、酸化防止層廉耐摩耗層であっても、接着層を設ける必
要がある場合もある。
この様なサーマルヘッドは、耐熱性及び付着力の面では
充分にサーマルヘッドの動作に耐えられることは確認さ
れている。しかしながら1本サーマルヘッドをファクシ
ミリ等の装置に組み込んで走行テストを行なった結果、
走行中に異常な抵抗値変化を示し、印字に影響を及ぼす
現象が多々認められた。この様な異常な抵抗値変化を示
した特異点を詳細に調べた結果、サーマルヘッドと感熱
紙の間に巻き込まれた塵芥等の異物がサーマルヘッドの
保護膜に亀裂(クラック)を生じさせ、亀裂が発熱抵抗
体まで達した場合に、特異点が生じることが判った。 
しかも、i、 O,上にグレーズガラスを形成した高抵
抗基体を用いた場合、あるいは金属基体上にガラス層を
形成した高抵抗基体を用いた場合には、他の構成が同じ
場合でも、この様な現象は認められず、保温層として樹
脂を用いた場合に特有であることが判った。これはガラ
ス層を保温層に用いた場合、硬度が高く、また、保護膜
と同様の変形しかないために保護膜の局部的な変形が阻
止されるのに対し、ポリイミド等の樹脂を用いた場合に
は軟かく弾性が大きく変形能が保護膜より著しく大きい
ため、保護膜に局所的な集中荷重が加わった場合、ポリ
イミド層は大きく変形するが、保護膜はこの変形に追随
できず、保護膜が割れてしまうためと考えられた。
このため1種々の保護膜材料についてテストを行なった
が、Ta2O,や5in2は硬度に乏しく、S、t3 
N4 zSiC,Al2O3は靭性に乏しく、いずれも
クラックが発生し、使用に耐えるものではなかった。唯
一。
亀裂の発生を防止できたのが特開昭60−4077号公
報、 62−3968号公叩に示された高硬度、高靭性
の5i−All−0−Nを主体とするサイアロン膜であ
る。 しかしながら、このサイアロン膜はArのみの雰
囲気でもスパッタリングレートが遅い上、この雰囲気中
ではANが金属成分として析出しやすく絶縁性に乏しい
という問題があった。これはArに5%〜10%程度0
2またはN2を添加することにより改善されるが、更に
スパッタリングレートが落ちるという問題が生じる。
(発明が解決しようとする課題) この様に、ポリイミド樹脂等の樹脂層上に多数の発熱抵
抗体を形成してなるサーマルヘッドでは、ポリイミド樹
脂の低い熱拡散率により熱効率に優れ、また曲げ加工が
可能で小型化し易いという長所を有する反面、樹脂層が
軟かいために塵芥等の巻き込みにより保護層に局所的応
力が加わった時、樹脂層は大きく変形するが、保護層は
この変形に追随できず、亀裂が生じ、これが発熱抵抗体
層まで達すると、抵抗値異常を起こし、印字性能を劣化
させてしまうという課題があった。
本発明は上述の課題を解決するためになされたもので、
高硬度かつ高靭性でしかも量産性に優れた保護被覆材を
提供することを第1の目的とする。
さらに、本発明の第2の目的は、この保護被覆材を用い
たサーマルヘッドを提供することにある。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 本発明の保護被覆材は、 窒化珪素のターゲット、若しくは窒化珪素と酸化珪素と
の混合ターゲットのいずれかのスパッタリング面に。
YzOa l ZrO,、La、03. AQ203.
 MgO,CaOからなる小ターゲットを少なくとも1
種類載置Q、不活性ガス雰囲気、若しくはN2とO2と
の少なくとも一方を含む不活性ガス雰囲気中でスパッタ
リングにより形成した5i−10−N (但し、MはY
、 Zr。
La、Aρ、 Mg、 Caの中から選ばれた少なくと
も一種類の物質)であることを特徴とする保護被覆材で
ある。
また、本発明のサーマルヘッドは、 高抵抗基体と、 この高抵抗基体上に配置された発熱抵抗体層と、この発
熱抵抗体層に電気的に接続する様に前記高抵抗基体上に
配置され、かつこの発熱抵抗体層の一部を開孔する様に
配置された電極層と、少なくとも前記発熱抵抗体層を被
覆する様に配置した保護層とを少なくとも備えたサーマ
ルヘッドにおいて、 前記保護層は請求項1記載の保護被覆材からなることを
特徴とするサーマルヘッドである。
(作用) 本発明の保護被覆材およびサーマルヘッドの保護層は、 ■ Si、N、もしくはSi、 N4とSin、の混合
ターゲットを主体として用いているので、スパッタリン
グレートが早く、また02やN2を添加してもスパッタ
リングレートの低下がなく、量産性に優れ、高硬度であ
る。
■ Si、 N4もしくはSi、 N4とSin、の混
合ターゲットにY、01等の酸化物を混合したターゲッ
ト0ではなく、Si、 N、もしくはSi3N4と5i
n2の混合ターゲット上にY2O3等の酸化物の小ター
ゲットを載置した構造でのスパッタリング法を用いてい
るため、Ar中のスパッタでも添加物が金属成分として
析出することなく1発熱抵抗体上に絶縁性の膜を別に設
ける必要がなく、スパッタリングレートも、Si、N、
もしくはSi3N、とSin、の混合ターゲットを用い
た場合と同等である。
■ 5i−Nもしくは5i−0−Nからなる膜に、Y、
 Zr。
La、 AQ、 Mg、 Caの少なくとも一種を含ん
でいるので、靭性に優れている。
(実施例) 以下1本発明の実施例を第1図を参照しながら説明する
この実施例のサーマルヘッドは、Fe−Cr合金からな
る金属基板上■にビフェニルテトラカルボン酸二無水物
とP−フェニレンアミンとの等モル混合物との等モル混
合物の開環重付加反応時にp−フェニレンジアミンの5
 moQ% をビスアミノシロキサンで置き換えて合成
したポリアミック酸を有機溶剤に溶かしたポリアミック
酸ワニスを塗布焼き付けすることにより得られた(式−
1)で表わされる芳香族ポリイミド樹脂からなる略5〜
50μs、好ましくは10〜30.の耐熱樹脂層■が形
成されており、その上にp−CVDにより形成した1〜
5μs(好ましくは2〜4趣)の5iN(31)及び1
μs程度の5iC(32)の二層よりなる下地層(3)
が形成され。
この下地層■上には、Ta−3iO□からなる発熱抵抗
体(イ)、 AQよりなる個別電極0及び共通電極■が
形成され、少なくともこの発熱部■を被覆するように5
1−M−0−N (但し、 MはY、 Zr、 La、
 Al、 Mg、 Caの少なくとも一種)よりなる酸
化防止層及び耐摩耗層を兼ねた保護層(8)が形成され
ている。このサーマルヘッドは個別電極0と共通電極■
との間に所定の時間間隔でパルス電圧を印加することに
より発熱部0の発熱抵抗体(イ)が発熱し印字記録が行
なわれる。
このサーマルヘッドは、例えば次のようにして製造され
る。
まず、例えばCrを18重量%含有する厚さ0.5mm
程度のFe合金からなる金属基板■をレベリング後、所
定の寸法に切断し、ぼり取り後、有機溶剤中にて脱脂洗
浄後、50℃〜70℃に保持した希硫酸中に浸漬し、表
面に形成されている酸化物層を除去するとともに表面を
ミクロ的に荒すための活性化処理を行なう。この後、純
水中にて洗浄、乾燥後前述したポリアミック酸をN−メ
チル−2−ピロリドン等の溶剤を用いて所定の粘度に調
整して、ロールコータ−やスピンオンコーターを用いて
、金属基板ω上に所定の膜厚に塗布し、焼成炉を用いて
50℃で1時間、80℃で30分1次いで120℃で3
0分。
250℃で1時間、450℃で1時間の加熱を行ない溶
剤成分を除去するとともに、脱水環化反応を進行させて
成膜し、耐熱樹脂層■を形成する。
しかる後、この耐熱樹脂層■上に、SiH4ガスとN2
ガス及びSiH,ガスとCH4ガスを用いて、基板温度
150〜300℃でプラズマCVDで連続してSiN層
(31)及びSiC層(32)よりなる下地膜■を形成
した。
この後、Ta−5iOzからなる発熱抵抗体に)、更に
AIlからなる個別電極0及び共通電極■を形成し、次
いで発熱部0となる開口が形成されるようにマスキング
後、ウェットエツチングやドライエツチングにより所定
のパターンが形成される。この後、マスキング膜を除去
し、この発熱部■を被覆するようにSi、 N、ターゲ
ットもしくはSi、 N4とSin、例えば80vt%
Si、 N4−20wt%5in2の混合ターゲット上
に、Y2O3,ZrO2,La2O3,Al、Ol、 
MgO,CaOからなる小ターゲットを少なくとも一種
、所定の面積比で載置し、不活性ガス雰囲気例えばAr
中もしくはN2及び02の少なくとも一方を含むAr中
でのスパッタリングを行ない、1〜7−好ましくは2μ
s、4μsの51−M−0−N (但し、 MはY、 
Zr、 La、 Al1. M(、Caの少なくとも一
種)からなる保ff p!J(8)を形成する。
このサーマルヘッドを用いて■薄膜用超微少ヌープ硬度
計を用いた硬度評価、■膜破壊時に発生するアコーステ
ィックエミッションを検知するセンサーを持ったスクラ
ッチ試験機を用いた膜破壊強度の測定、■実機を用いて
、プラテン圧160g/国印加エネルギー0.23++
J/dat、  パルス幅2.2msで10bの走行テ
ストを行なった。この結果を次表に示す。層厚は比較例
中のSiOz(2m)+Ta203(34)を除いて全
て3pである。
前夫より明らかなように本発明に係る保護被覆材は、高
硬度、高靭性で保温層として樹脂を使用した場合に発生
し易い亀裂(クラック)を防止することができるととも
に量産性に優れる。
尚、本実施例では支持体として金属基板を用いた場合に
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、セラミック基板等でも構わない。また保温層とし
てグレーズガラスを用いた場合にも、優れた効果を得る
ことができる。さらに、下地層■は、SiO,、5i−
0−N、 5i−N、 SiC,I−Carbonの少
なくとも一種類から構成されていれば良い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す模式斜視図、第2図は
従来例である。 1・・・金属基板    2・・・耐熱樹脂層3・・・
下地層     4・・・発熱抵抗体5・・・発熱部 
    6・・・個別電極7・・・共通電極 8・・・酸化防止層兼耐摩耗層(保護層)第1図 第2図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)窒化珪素のターゲット、若しくは窒化珪素と酸化
    珪素との混合ターゲットのいずれかのスパッタリング面
    に、 Y_2O_3、ZrO_2、La_2O_3、Al_2
    O_3、MgO、CaOからなる小ターゲットを少なく
    とも1種類載置し、 不活性ガス雰囲気、若しくはN_2とO_2との少なく
    とも一方を含む不活性ガス雰囲気中でスパッタリングに
    より形成したSi−M−O−N(但し、MはY、Zr、
    La、Al、Mg、Caの中から選ばれた少なくとも一
    種類の物質)であることを特徴とする保護被覆材。
  2. (2)高抵抗基体と、 この高抵抗基体上に配置された発熱抵抗体層と、この発
    熱抵抗体層に電気的に接続する様に前記高抵抗基体上に
    配置され、かつこの発熱抵抗体層の一部を開孔する様に
    配置された電極層と、少なくとも前記発熱抵抗体層を被
    覆する様に配置した保護層とを少なくとも備えたサーマ
    ルヘッドにおいて、 前記保護層は請求項1記載の保護被覆材からなることを
    特徴とするサーマルヘッド。
  3. (3)前記高抵抗基体は、その材質が金属あるいはセラ
    ミックからなる基板と、 この基板上に配置されたポリイミド樹脂、ポリアミド樹
    脂、ポリアミドイミド樹脂のいずれからなる耐熱性樹脂
    から構成された保温層と、 前記保温層上に配置されたSiO_2、Si−O−N、
    Si−N、SiC、I−Carbonの少なくとも一種
    類からなる下地層とから構成されていることを特徴とす
    る請求項2記載のサーマルヘッド。
JP2562988A 1988-02-08 1988-02-08 保護被覆材およびそれを利用したサーマルヘッド Pending JPH01202465A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0549528A1 (de) * 1991-12-20 1993-06-30 Alusuisse-Lonza Services Ag Verfahren zur Herstellung von Substraten enthaltend eine Überzugsschicht
US5590969A (en) * 1992-09-28 1997-01-07 Tdk Corporation Wear-resistant protective film for thermal printing heads
WO1997028965A1 (fr) * 1996-02-08 1997-08-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Tete d'impression par transfert thermique, procede de production de cette tete, enregistreur, agglomere et cible

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0549528A1 (de) * 1991-12-20 1993-06-30 Alusuisse-Lonza Services Ag Verfahren zur Herstellung von Substraten enthaltend eine Überzugsschicht
US5590969A (en) * 1992-09-28 1997-01-07 Tdk Corporation Wear-resistant protective film for thermal printing heads
WO1997028965A1 (fr) * 1996-02-08 1997-08-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Tete d'impression par transfert thermique, procede de production de cette tete, enregistreur, agglomere et cible
US6201557B1 (en) 1996-02-08 2001-03-13 Kabushiki Kaisha Toshiba Thermal printing head, process for producing thermal printing head, recorder, sinter and target
CN1078850C (zh) * 1996-02-08 2002-02-06 株式会社东芝 热敏打印头、相应的制造方法、记录装置、烧结体及靶

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