JPH01201144A - 散乱光検出装置 - Google Patents

散乱光検出装置

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JPH01201144A
JPH01201144A JP63026458A JP2645888A JPH01201144A JP H01201144 A JPH01201144 A JP H01201144A JP 63026458 A JP63026458 A JP 63026458A JP 2645888 A JP2645888 A JP 2645888A JP H01201144 A JPH01201144 A JP H01201144A
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JP
Japan
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scattered light
reflected
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concave mirror
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Application number
JP63026458A
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English (en)
Inventor
Kinya Kato
欣也 加藤
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は散乱光検出装置に関し、例えばディスク原板上
の異物、傷等を検査する欠陥検査装置に適用して好適な
ものである。
〔発明の概要〕
本発明は、被検物体から発生する散乱光を検出する散乱
光検出装置において、被検物体に照射した検出光に基づ
いて得た散乱光を同心反射光学系を介して光検出器に入
射するように構成したことにより、実用上迷光の影響を
受けずに高い精度で散乱光を検出し得る。
〔従来の技術〕
従来、ディスク基板の欠陥検査装置として、第5図に示
す構成の散乱光検出装置1が用いられている。
第5図において、レーザ光源2から射出されるレーザビ
ームLAIは、走査鏡3において反射されて走査レンズ
4によって被検物体としての透明ディスク基板50表面
に検出光として照射される。
ディスク基板5は紙面に対して垂直な面内を一定速度で
回転し、走査鏡3は矢印aに示す方向に回動することに
より、レーザビームLAIをディスク基板5の回転中心
位置から半径方向に徐々に移動させて行くようになされ
、かくしてディスク基板5の表面をレーザビームLAI
が2次元的に走査し得るようになされている。
ディスク基板5を透過した透過光LA2は、複数例えば
6枚のレンズを組合せてなる集光レンズ6によって光検
出器7の入射面7Aのほぼ中央領域に集光される(矢印
すで示すレーザビームLA1の全ての走査位置について
)。この実施例の場合、入射面7Aの中央領域に対向す
るように遮光板8が設けられ、この遮光板8によって集
光レンズ6の瞳を通る透過光LA2を光検出器7に入射
させないように遮光する。
かくしてディスク基板5に異物、傷等の欠陥がなければ
、ディスク基板5から集光レンズ6に向かう光は実線で
示す透過光LA2だけになり、これが遮光板8において
遮光されることにより、検出器7には検出すべき光が入
射しないことにより、検出器7からディスク基板5に欠
陥がないことを表す検出信号S0,1が得られる。
これに対してディスク基vi5に異物、傷等の欠陥があ
れば、レーザビームLAIがディスク基板5を透過する
際にその一部が当該欠陥によって散乱され、その結果デ
ィスク基板5から集光レンズ6に対して透過光LAの周
囲に破線で示すような散乱光LA3が生ずる。
この散乱光LA3は集光レンズ6によって検出器7の入
射面7Aに向かって集光されて遮光板8の周囲を通って
入射面7Aに入射する。
この結果検出器7は散乱光LA3の光エネルギーに相当
する検出信号5DTIを送出し、かくしてディスク基板
5の欠陥を検出することができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところが第5図の従来の構成においては、走査レンズ4
、ディスク基板5、集光レンズ6でなる屈折光学系を用
いてなるので各構成部品の表面においてレーザビームL
AI、透過光LA2の一部が反射し、これが迷光となっ
て散乱光LA3に混入することを避は得す、そのために
特に微小なごみ等の欠陥に対して良好なS/N比を有す
る検出信号5ortを得ることが困難な問題がある。
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、迷光の影
響をできるだけ受けないような検出信号を得ることがで
きるようにした散乱光検出装置を提案しようとするもの
である。
C問題点を解決するための手段〕 かかる問題点を解決するため第1の発明においては、検
出光ビームLAIIを被検物体13上に照射し、この被
検物体13から直接光LA13と共に得られる散乱光L
A14を検出する散乱光検出装置10において、同一の
光学軸LO上に配設された凹面鏡16と中央部に非反射
領域17Aをもつ凸面鏡17を有する同心反射光学系1
8を具え、直接光LA13を凹面鏡16において反射さ
せて凸面鏡17の非反射領域17Aに入射すると共に、
散乱光LA14を凹面+!16において反射させて凸面
鏡17の反射面17Bに入射し、当該反射面17Bの反
射光LA15を再度凹面鏡16において反射させて光検
出器25に入射するようにする。
また第2の発明においては、第1の発明の構成に加えて
、検出光ビームLAIIとして走査光ビームを用い、こ
の走査光ビームの走査方向が同心反射光学系18の光軸
LOを含む面に対してほぼ直交するようにする。
〔作用〕
被検物体13から射出した直接光LA13は凸面鏡17
の非反射領域17Aにおいて反射されないことにより光
検出器25に到達できないのに対して、散乱光LA14
は順次凹面鏡16、凸面鏡17、凹面鏡16において反
射されて光検出器25に入射される。
かくして反射光学系だけの簡易な構成によって実用上迷
光の影響を受けずに散乱光を検出し得る。
また第2の発明においては、走査光ビームLA11の走
査軌跡を反射光学系の収差発生の少ない領域に形成する
ことができることにより、散乱光をさらに一段と高精度
に検出し得る。
〔実施例〕
以下図面について、本発明の一実施例を詳述する。
第1図及び第2図は本発明の一実施例を示すもので、散
乱光検出装置10においてレーザ光源(図示せず)から
射出された検出光ビームLAIIは、回動軸11Aを中
心にして矢印Cの方向に回動する振動@11において反
射されてテレセントリック走査レンズ12を通って被検
物体としてのディスク基板13の表面に入射される。
ディスク基板13は回転軸13Aの周りを矢印dの方向
に回転するのに対して、走査レンズ12を通ってディス
ク基板130表面に照射される検出光ビームLAIIの
走査軌跡SCNがディスク基+N13の半径方向に形成
され、これによりディスク基板13の被検領域を2次元
的に走査し得るようになされている。
ここで走査レンズ12からディスク基板13に照射され
る検出光ビームLAIIの入射方向は、ディスク基板1
3の表面に対して斜めに入射するように設定され、かく
して検出光ビームLAIIの一部がディスク基板13の
表面において反射光LA12として反射され、残る光成
分がディスク基板13を直接透過光LA13として透過
する。
この実施例の場合反射光LA12は光吸収体14におい
て吸収され、かくして迷光にならないようになされてい
る。
これに対して直接透過光LA13はディスク基板13の
下方に設けられた反射鏡15において反射されて凹面鏡
16に入射される。
この凹面鏡16は中心部に非反射領域17Aを有する凸
面!17と共に同心反射光学系18を構成している。
同心反射光学系18は第3図(A)に示すような基本的
構成を有する。すなわち凹面鏡16の反射面16A及び
凸面鏡17の反射面17Bは同一の光学軸LO上に同心
的に配設され、かつ共通の中心0からそれぞれ半径2R
及びRの球面を形成している。このような同心反射光学
系はオフナー型と呼ばれており、例えば特開昭48−1
2039号公報に開示されている。
同心反射光学系18への入射光の主光線LA21 (す
なわち直接透過光LA’13は、ディスク基板13上の
点POIを通って光学軸LOとほぼ平行な方向から反射
面16A上の点Plに照射され、反射面16Aにおいて
折り返し反射され、続いて焦面位置にある凸面鏡17の
反射面17Bの中心点P2において折り返し反射され、
さらに反射面16Aの点P3において折り返し反射され
て射出光LA22として点PO1と共通な点PO2を通
って射出される。
なお実際の散乱光検出装置10においては、反射面17
Bの中心点P2を含む中央部に非反射領域17Aが形成
されているので中心点P2で主光線の反射は生じないが
、原理的説明として当該主光線の射出光LA22が生じ
たものとして破線で示す。
ここで反射面16Aの点P3における射出光LA22の
反射条件は、反射面16A上の点P1における入射光の
主光線LA21の反射条件に対して光学軸LOを中心と
して対称になるので、反射光LA22は光学軸LOとほ
ぼ平行になり、かつ光学軸LOからの距離Lllが互い
に等しくなる。
これに対してディスク基十反13から射出される散乱光
LA14のように主光線LA21を中心にして周囲に射
出する散乱光としての入射光LA23は、入射光の主光
、vlLA21を中心として凹面鏡16の反射面16A
、凸面鏡17の反射面17B、凹面鏡16の反射面16
Aにおいて順次反射されて主光線LA22上の点PO2
に結像する。
この実施例の場合、凹面鏡16は反射面16Aを上方に
向けるようにほぼ水平方向に保持され、この反射面16
Aと対向する焦点面位置に凸面鏡17の反射面17Bが
配設されている。
このように構成すると、検出光ビームLAII及び直接
透過光LA13について、凸面鏡17の反射面は振動鏡
11と共役になっており、かくして振動鏡11のスキャ
ン動作によってレーザビームLAIIが走査軌跡SCN
上を移動した時、直接透過光LA13が常に凸面鏡17
のほぼ中央位置に結像する。
この実施例の場合凸面鏡17のほぼ中央位置には、開口
でなる非反射領域17Aが穿設され、これにより凹面鏡
16において反射された直接透過光LA13が非反射領
域17Aを通って光吸収体19に入射することにより、
迷光を生じさせない状態で吸収される。
このようにしてディスク基板13に欠陥がない場合には
、レーザビームしA11のうちディスク基板13を透過
した直接透過光LA13が凸面鏡17の反射領域17B
で反射されることなく開口でなる非反射領域17Aを通
って光吸収体19に吸収される。
これに対してディスク基板13にごみ、傷等の欠陥があ
ると、ディスク基板13を透過した光の一部が当該欠陥
によって散乱されることにより、直接透過光LA13の
周囲に散乱光LA14が生じ、これが反射鏡15、凹面
鏡16において順次反射されて凸面鏡17の反射面17
Bに入射する。
ここで凸面鏡17に入射した散乱光LA14は直接透過
光LA13の周囲に光路をもつことにより、非反射領域
17Aの周囲にある反射面17Bにおいて反射される。
この反射光LA14は再度凹面鏡16Aにおいて反射さ
れて水平方向に折り曲げられた後スリット22を通って
反射鏡23に入射し、この反射鏡23によって垂直方向
下方に折り曲げられた後凹面鏡24において反射されて
光検出器25に入射される。
ここで光検出器25の受光面25Aは凹面鏡24の焦点
面に配設されていることにより、振動鏡11に対して共
役になっている。これにより同様にして振動鏡11に対
して共役になっている凸面鏡17の反射面17Bにおい
て反射された反射光LA14が受光面25Aに集光し、
かくして光検出器25から反射光LA15(従って散乱
光LA14)の光量に対応する検出信号SI、1□を得
ることができる。
従って第1図及び第2図の構成によれば、被検物体とし
てのディスク基板工3にごみ、傷等の欠陥があれば、こ
の欠陥に基づいて散乱光LA14が生じ、この散乱光L
A14に基づいて光検出器25の受光面25A上に当該
散乱光による像が形成されることにより、光検出器25
から欠陥があったことを表す検出信号SDT□を得るこ
とができる。
これに対してディスク基板13に欠陥がなければ、散乱
光LA14が発生しないことにより光検出器25の受光
面25Aに入射する反射光LAI5が凸面鏡17から得
られなくなり、かくして検出信号SOT□は欠陥がない
状態を表すことになる。
この実施例の場合、光検出器25は第4図に示すように
、3つの円形光電検出素子31.32.33をその中心
を正三角形の頂点位置に配設したと同様の構成を有し、
これにより欠陥の種別を判定し得るようになされている
すなわちディスク基板13上に微細なごみが付着した場
合、散乱光LA14が比較的等方的に発生する傾向にあ
る。その結果光検出器25の受光面25Aには第4図(
Aンに示すようにほぼ円形の散乱光の像34Aが形成さ
れる。かくして3つの光電検出素子31〜33からほぼ
同一レベルの検出信号が得られ、これによりディスク基
板13に生じた欠陥はごみであることを判別し得る。
これに対してディスク基板13に傷が生じた場合、散乱
光LA14は等方的に生じることなく方向性が強くなる
傾向にある。
その結果光検出器25の受光面25Aには例えば第4図
(B)又は第4図(C)に示すように、傷の方向に応じ
て直線的な散乱光の像34B又は34Cが形成される。
この結果光電検出素子31〜33から得られる検出信号
の信号レベルが不均等になり、かかる不均等な検出信号
に基づいてディスク基板13上に欠陥が生じていること
、かつその欠陥が傷に基づくものであることを判別し得
る。
かくするにつき、第3図(A)について上述したように
ディスク基板13上の点POIに対して同心反射光学系
18の光学軸LOと垂直な面に対して直角に主光線とな
る入射光LA21(すなわち直接透過光LA13)が入
射したとき、当該入射点PO1と共役な点PO2にスリ
ット22を形成するようにすれば、同心反射光学系18
によって倍率が1で、球面収差、コマ収差、歪曲収差を
実用上無視し得るような射出光LA22及びLA24を
得ることができる。
因に第3図(A)のように構成すれば、点PO1及びP
O2を中心として所定の幅LRXの領域において実用上
球面収差、コマ収差、歪曲収差を無視し得る程度に小さ
くし得、か(して第3図(B)に示すように、光学軸L
Oを中心として半径LRの位置に幅LIIXの環状の収
差補正領域31を形成し得ることを意味し、この収差補
正領域31内に走査軌跡SCN (第1図)を設定すれ
ば、実用上倍率が1で、しかも球面収差、コマ収差、歪
曲収差がない簡易な構成の反射光学系を得ることができ
る。
実際上第1図及び第2図の構成においては、テレセント
リック走査レンズ12は、点POIにおいて同心反射光
学系18の光学軸LOとほぼ平行な方向にレーザビーム
LAIIを入射するように走査する。
第1図及び第2図の構成によれば、迷光の影響を受ける
ことなく散乱光の検出をし得る。
因に同心反射光学系18以後の検出光学系は、屈折光学
系を用いていないので、表面反射による迷光を発生させ
ないようにし得ると共に、スリット22のような簡易な
構成の絞りを用いることができる。
かくして全体として簡易な構成によって高い精度で散乱
光の検出をし得る散乱光検出装置を実現し得る。
このようにするにつき、被検物体となるディスク基板1
3に対して斜めの方向から検出光ビームLAIIを入射
するようにしたことにより、ディスク基板13以後の光
学系に検出光ビームLAIlに基づく迷光を透過させな
いようにできる。
なお、上記の実施例においては、反射光学系16.17
を被検物体としてのディスク基板13に対して、光源と
反対側に配置し、ディスク基板13を透過する光を検出
する構成としたが、これに限らず光源と反射光学系16
.17とをディスク基板13に対して同じ側に配置して
ディスク基板13からの反射光を検出する構成とするこ
ともできる。
この場合、上記実施例における直接透過光を直接反射光
と読み変えればよく、同様に高精度の検出を行なうこと
が可能になる。この明細書においては直接透過光及び直
属射光を直接光と呼ぶ。
〔発明の効果〕
上述のように本発明によれば、実用上極めて簡易な構成
によって迷光の影響を有効に抑制することにより、高い
精度で散乱光の検出をし得る散乱光検出装置を容易に実
現し得る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による散乱光検出装置の一実施例を示す
斜視図、第2図はその光路の説明に供する路線的側面図
、第3図は第1図の同心反射光学系18の基本構成の説
明に供する路線図、第4図は第1図の光検出器25の詳
細構成を示す路線図、第5図は従来の散乱光検出装置を
示す光路図である。 11・・・・・・振動鏡、12・・・・・・テレセント
リック走査レンズ、13・・・・・・ディスク基板、1
4.19・・・・・・光吸収体、15.21.23・・
・・・・反射鏡、16.24・・・・・・凹面鏡、17
・・・・・・凸面鏡、18・・・・・・同心反射光学系
、22・・・・・・スリット、25・・・・・・光検出
器。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)検出光ビームを被検物体上に照射し、上記被検物
    体からの直接光と共に得られる散乱光を検出する散乱光
    検出装置において、 同一の光学軸上に配設された凹面鏡と中央部に非反射領
    域をもつ凸面鏡とを有する同心反射光学系を具え、 上記直接光を上記凹面鏡において反射させて上記凸面鏡
    の上記非反射領域に入射すると共に、上記散乱光を上記
    凹面鏡において反射させて上記凸面鏡の反射面に入射し
    、当該反射面の反射光を再度上記凹面鏡において反射さ
    せて光検出器に入射する ことを特徴とする散乱光検出装置。
  2. (2)走査光ビームを被検物体に照射し、上記被検物体
    からの直接光と共に得られる散乱光を検出する散乱光検
    出装置において、 同一の光学軸上に配設された凹面鏡と中央部に非反射領
    域をもつ凸面鏡とを有する同心反射光学系を具え、 上記直接光を上記凹面鏡において反射させて上記凸面鏡
    の上記非反射領域に入射すると共に、上記散乱光を上記
    凹面鏡において反射させて上記凸面鏡の反射面に入射し
    、当該反射面の反射光を再度上記凹面鏡において反射さ
    せて光検出器に入射し、 上記走査光ビームの走査軌跡が上記同心反射光学系の上
    記光学軸を含む面に対してほぼ直交することを特徴とす
    る散乱光検出装置。
JP63026458A 1988-02-05 1988-02-05 散乱光検出装置 Pending JPH01201144A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006200917A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Olympus Corp 座標検出装置及び被検体検査装置
JP2008514958A (ja) * 2004-09-28 2008-05-08 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド テレセントリック光学素子を有するサイトメータ

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008514958A (ja) * 2004-09-28 2008-05-08 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド テレセントリック光学素子を有するサイトメータ
JP4733136B2 (ja) * 2004-09-28 2011-07-27 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド テレセントリック光学素子を有するサイトメータ
JP2006200917A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Olympus Corp 座標検出装置及び被検体検査装置
JP4653500B2 (ja) * 2005-01-18 2011-03-16 オリンパス株式会社 座標検出装置及び被検体検査装置

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