JPH01192745A - スピンナーコート用ガラススラリー - Google Patents
スピンナーコート用ガラススラリーInfo
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- JPH01192745A JPH01192745A JP1634688A JP1634688A JPH01192745A JP H01192745 A JPH01192745 A JP H01192745A JP 1634688 A JP1634688 A JP 1634688A JP 1634688 A JP1634688 A JP 1634688A JP H01192745 A JPH01192745 A JP H01192745A
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はスピンナーによって半導体装置のPN接合部に
塗布することができるガラススラリーに関するものであ
る。
塗布することができるガラススラリーに関するものであ
る。
[従来技術とその問題点]
従来より電力用半導体装置、例えばダイオード、トラン
ジスタ、サイリスター、トライアック等のPN接合部を
保護するパシベーション材料として広くガラスが使用さ
れている。
ジスタ、サイリスター、トライアック等のPN接合部を
保護するパシベーション材料として広くガラスが使用さ
れている。
このガラスは組成系によって ZnO−8203−5i
O□系のいわゆる亜鉛系ガラスとPbO−B2O3−S
iO2系あるいはPbO−B2O3−B2O3−SiO
2系のいわゆる鉛系ガラスの2種類に分けられる。とこ
ろが亜鉛系ガラスは耐薬品性が悪いため半導体プロセス
上制約が多くコスト高になるため最近では鉛系ガラスが
広く使用されている。
O□系のいわゆる亜鉛系ガラスとPbO−B2O3−S
iO2系あるいはPbO−B2O3−B2O3−SiO
2系のいわゆる鉛系ガラスの2種類に分けられる。とこ
ろが亜鉛系ガラスは耐薬品性が悪いため半導体プロセス
上制約が多くコスト高になるため最近では鉛系ガラスが
広く使用されている。
ところでこの鉛系ガラスを半導体装置のPN接合部へ塗
布する方法としては各種の方法があるが、代表的な方法
として電気泳動法とスクリーン印刷法がある。電気泳動
法は、イソプロピルアルコール等の有機媒体中にガラス
粉末を懸濁させ、その中に少量の電解質を添加し、ガラ
ス粉末表面へ電荷を帯びさせた後、直流電圧を印加して
PN接合部、例えばメサ溝へ選択的゛にガラスを塗布す
る方法である。しかしながらこの方法はガラス粉末を有
機媒体中に懸濁させるため多くのガラス粉末が沈降して
有効ガラス量が少なくなること、使用する電解質の種類
あるいは添加量によって付着性が変化しやすく毎回作業
者がコントロールする必要があること、同一電着液内で
のシリコンウェハー間の付着量のばらつきを少なくする
ため1度に処理できる枚数が10〜20枚と少なく、且
つ装置も手動的なものでコスト高になること等の問題が
ある。
布する方法としては各種の方法があるが、代表的な方法
として電気泳動法とスクリーン印刷法がある。電気泳動
法は、イソプロピルアルコール等の有機媒体中にガラス
粉末を懸濁させ、その中に少量の電解質を添加し、ガラ
ス粉末表面へ電荷を帯びさせた後、直流電圧を印加して
PN接合部、例えばメサ溝へ選択的゛にガラスを塗布す
る方法である。しかしながらこの方法はガラス粉末を有
機媒体中に懸濁させるため多くのガラス粉末が沈降して
有効ガラス量が少なくなること、使用する電解質の種類
あるいは添加量によって付着性が変化しやすく毎回作業
者がコントロールする必要があること、同一電着液内で
のシリコンウェハー間の付着量のばらつきを少なくする
ため1度に処理できる枚数が10〜20枚と少なく、且
つ装置も手動的なものでコスト高になること等の問題が
ある。
またスクリーン印刷法は、絹、ナイロンあるいはステン
レススチール等の材料で作ったスクリーン上にある粘度
をもった印刷用ガラスペーストを入れ、スキンと称する
ヘラ状のゴム板で加圧し、スクリーンのfに置かれた被
印刷物面に押し出し印刷を行う方法である。この方法に
おいては印刷用ガラスペースト中の有機媒体としてジエ
チレングリコールモノブチルエーテルとセルローズ類を
混ぜたもの、テレピノールとセルローズ類を混ぜたもの
等が多用されている。しかしながらこの方法は、スクリ
ーン表面の汚れが印刷用ガラスペーストに付着しやすい
こと、印刷時にシリコンウェハーのメサ溝から印刷ペー
ストがずれる恐れがあること、また印刷用ガラスペース
トの粘度が15000〜5(1000cpsと高いため
後工程でバインダーを飛ばすことが難しく、ボイドが発
生しやすくなり電気特性上好ましくないこと等の問題が
ある。
レススチール等の材料で作ったスクリーン上にある粘度
をもった印刷用ガラスペーストを入れ、スキンと称する
ヘラ状のゴム板で加圧し、スクリーンのfに置かれた被
印刷物面に押し出し印刷を行う方法である。この方法に
おいては印刷用ガラスペースト中の有機媒体としてジエ
チレングリコールモノブチルエーテルとセルローズ類を
混ぜたもの、テレピノールとセルローズ類を混ぜたもの
等が多用されている。しかしながらこの方法は、スクリ
ーン表面の汚れが印刷用ガラスペーストに付着しやすい
こと、印刷時にシリコンウェハーのメサ溝から印刷ペー
ストがずれる恐れがあること、また印刷用ガラスペース
トの粘度が15000〜5(1000cpsと高いため
後工程でバインダーを飛ばすことが難しく、ボイドが発
生しやすくなり電気特性上好ましくないこと等の問題が
ある。
[発明の目的]
本発明は上記問題点に鑑みなされたもので、シリコンウ
ェハーにフォトレジストを塗布するのに用いるスピンナ
ーによって作業性良く均一に半導体装置のPN接合部へ
塗布することが可能なガラススラリーを提供することを
目的とするものである。
ェハーにフォトレジストを塗布するのに用いるスピンナ
ーによって作業性良く均一に半導体装置のPN接合部へ
塗布することが可能なガラススラリーを提供することを
目的とするものである。
[発明の構成]
本発明のスピンナーコート用ガラススラリーは、PbO
−B2O3−SiO2系あるいはPbO−9203−S
i02系ガラス粉末とテレピノールあるいはジエチレン
グリコールモノブチルエーテルを含有する有機媒体とを
混合してなり、粘度が50〜700cpsであることを
特徴とする。
−B2O3−SiO2系あるいはPbO−9203−S
i02系ガラス粉末とテレピノールあるいはジエチレン
グリコールモノブチルエーテルを含有する有機媒体とを
混合してなり、粘度が50〜700cpsであることを
特徴とする。
スピンナーは、シリコンウェハーやセラミック基板等を
セットして、これを回転させながらこの上にフォトレジ
ストを滴下することによってシリコンウェハーにフォト
レジストを均一に塗布する装置である。スピンナーを用
いてガラススラリーをシリコンウェハーに均一に塗布す
るにはガラススラリーの粘度を調整することが要求され
、本発明者等は種々の研究を重ねた結果、ガラススラリ
ーの粘度が50〜700cpsの場合に良好な結果が得
られることを見い出した。すなわちガラススラリーの粘
度が5Qcpsより小さい場合は、回転するシリコンウ
ェハーの上にガラススラリーを滴下しても遠心力によっ
てガラススラリーが外部に飛び散りシリコンウェハーに
塗布されに<<、塗布されたとしてもガラス膜のむらを
生じやすい、また700Cpsより大きい場合はガラス
スラリーの流動性が悪くなり、シリコンウェハーに均一
に塗布されにくくなる。
セットして、これを回転させながらこの上にフォトレジ
ストを滴下することによってシリコンウェハーにフォト
レジストを均一に塗布する装置である。スピンナーを用
いてガラススラリーをシリコンウェハーに均一に塗布す
るにはガラススラリーの粘度を調整することが要求され
、本発明者等は種々の研究を重ねた結果、ガラススラリ
ーの粘度が50〜700cpsの場合に良好な結果が得
られることを見い出した。すなわちガラススラリーの粘
度が5Qcpsより小さい場合は、回転するシリコンウ
ェハーの上にガラススラリーを滴下しても遠心力によっ
てガラススラリーが外部に飛び散りシリコンウェハーに
塗布されに<<、塗布されたとしてもガラス膜のむらを
生じやすい、また700Cpsより大きい場合はガラス
スラリーの流動性が悪くなり、シリコンウェハーに均一
に塗布されにくくなる。
ガラススラリーの粘度は、ガラス粉末の粒径に大きく影
響を受けるものであり、上記の粘度を得るためにはガラ
ス粉末の粒度分布による平均径が4.0μm以下である
ことが必要である。
響を受けるものであり、上記の粘度を得るためにはガラ
ス粉末の粒度分布による平均径が4.0μm以下である
ことが必要である。
またガラススラリーの粘度はガラス粉末の粒径以外にも
ガラス粉末と有機媒体との混合割合にも影響され、ガラ
ス粉末30〜70重量%と有機媒体30〜70重量%の
割合に混合することが必要であるが、各々50%の割合
に混合することが最も好ましい。
ガラス粉末と有機媒体との混合割合にも影響され、ガラ
ス粉末30〜70重量%と有機媒体30〜70重量%の
割合に混合することが必要であるが、各々50%の割合
に混合することが最も好ましい。
テレピノールやジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル等の溶媒を含有する有機媒体は、上記したようにスク
リーン印刷法においてはよく用いられるが、本発明にお
いてもスピンナーコートが可能であること、焼成後10
μm以下の薄いガラス膜厚を得ることが可能であること
等の理由からこれらの有機媒体を用いる。ガラススラリ
ーをシリコンウェハーに均一に塗布するためには有機媒
体の粘度が40〜200cpsであるのが好ましく、ガ
ラス膜厚を厚くしたい場合やスラリーの粘度を上げたい
場合にバインダー成分としてアクリル樹脂、−エチルセ
ルロース等をθ〜20%混合することが可能である。
ル等の溶媒を含有する有機媒体は、上記したようにスク
リーン印刷法においてはよく用いられるが、本発明にお
いてもスピンナーコートが可能であること、焼成後10
μm以下の薄いガラス膜厚を得ることが可能であること
等の理由からこれらの有機媒体を用いる。ガラススラリ
ーをシリコンウェハーに均一に塗布するためには有機媒
体の粘度が40〜200cpsであるのが好ましく、ガ
ラス膜厚を厚くしたい場合やスラリーの粘度を上げたい
場合にバインダー成分としてアクリル樹脂、−エチルセ
ルロース等をθ〜20%混合することが可能である。
本発明において用いるガラス粉末は、より具体的にはP
bO−5iO□系ガラス粉末の場合、Pb045〜55
%、B2O3−SiO2 35〜45%、A1□0.
1〜15%からなり、またPbO−[1203−SiO
□系ガラメガラス粉末、PbO40〜70%、B2O3
−SiO2 20〜50%、^120. 0〜20%、
82030〜15%からなることが好ましい。
bO−5iO□系ガラス粉末の場合、Pb045〜55
%、B2O3−SiO2 35〜45%、A1□0.
1〜15%からなり、またPbO−[1203−SiO
□系ガラメガラス粉末、PbO40〜70%、B2O3
−SiO2 20〜50%、^120. 0〜20%、
82030〜15%からなることが好ましい。
[実施例]
以下実施例に基づいて本発明を説明する。
次表は有機媒体とガラス粉末を混合してなるガラススラ
リーを示すものである。
リーを示すものである。
ガラス粉末としてはPb045%、820310%、S
iO□41.5%、^1□o、3.5%からなり、平均
粒径が4μm以下のものを用い、それを各有機媒体と表
の割合に混合してガラススラリーを作製し、各ガラスス
ラリーについて粘度、スピンコード特性を測定した。
iO□41.5%、^1□o、3.5%からなり、平均
粒径が4μm以下のものを用い、それを各有機媒体と表
の割合に混合してガラススラリーを作製し、各ガラスス
ラリーについて粘度、スピンコード特性を測定した。
試料N[L I〜6は本発明の実施例、試料N[L7及
び8は比較例である。
び8は比較例である。
表のスピンクー1〜特性は、ガラススラリーをスピンナ
ーにセラ1− したシリコンウェハー上に滴下させ、ス
ピン速度2000rp+sで20秒回転させた時のガラ
ススラリーの広がり、均一性を評価したものである。実
験の結果、有機媒体の混合割合が30〜70重量%で粘
度が60〜600c psの本発明の実施例(試料NI
L I〜6)のガラススラリーは均一にシリコンウェハ
ーに塗布されていたが、有機媒体が80重量%で粘度が
45 cpsの試料N[L7のガラススラリーはスピン
後ガラス膜のむらを生じ、才な有機媒体が20重量%で
粘度が1o00cpsの試料阻♂のガラススラリーはシ
リコンウェハー上に充分広がらなかった。
ーにセラ1− したシリコンウェハー上に滴下させ、ス
ピン速度2000rp+sで20秒回転させた時のガラ
ススラリーの広がり、均一性を評価したものである。実
験の結果、有機媒体の混合割合が30〜70重量%で粘
度が60〜600c psの本発明の実施例(試料NI
L I〜6)のガラススラリーは均一にシリコンウェハ
ーに塗布されていたが、有機媒体が80重量%で粘度が
45 cpsの試料N[L7のガラススラリーはスピン
後ガラス膜のむらを生じ、才な有機媒体が20重量%で
粘度が1o00cpsの試料阻♂のガラススラリーはシ
リコンウェハー上に充分広がらなかった。
[発明の効果]
以上のように本発明のガラススラリーは、ガラス粉末と
有機媒体の種類、両者の混合割合等を規制することによ
り50〜700cpsの粘度を有しているためシリコン
ウェハーにフォトレジストを塗布するのに用いるスピン
ナーによって作業性良く均一に半導体装置のPN接合部
へ塗布することが可能である。
有機媒体の種類、両者の混合割合等を規制することによ
り50〜700cpsの粘度を有しているためシリコン
ウェハーにフォトレジストを塗布するのに用いるスピン
ナーによって作業性良く均一に半導体装置のPN接合部
へ塗布することが可能である。
Claims (3)
- (1)PbO−SiO_2系ガラスあるいはPbO−B
_2O_3−SiO_2系ガラス粉末とテレピノールあ
るいはジエチレングリコールモノブチルエーテルを含有
する有機媒体とを混合してなり、粘度が50〜700c
psであることを特徴とするスピンナーコート用ガラス
スラリー。 - (2)ガラス粉末30〜70重量%と有機媒体30〜7
0重量%とからなることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のスピンナーコート用ガラススラリー。 - (3)ガラス粉末の粘度分布による平均径が4.0μm
以下であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
のスピンナーコート用ガラススラリー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1634688A JPH01192745A (ja) | 1988-01-26 | 1988-01-26 | スピンナーコート用ガラススラリー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1634688A JPH01192745A (ja) | 1988-01-26 | 1988-01-26 | スピンナーコート用ガラススラリー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01192745A true JPH01192745A (ja) | 1989-08-02 |
JPH0530777B2 JPH0530777B2 (ja) | 1993-05-10 |
Family
ID=11913817
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1634688A Granted JPH01192745A (ja) | 1988-01-26 | 1988-01-26 | スピンナーコート用ガラススラリー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01192745A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0535474A2 (de) * | 1991-10-01 | 1993-04-07 | Flachglas Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung einer einfachgekrümmten oder einer doppeltgekrümmten Verbundglasscheibe, insbesondere für Kraftfahrzeuge |
-
1988
- 1988-01-26 JP JP1634688A patent/JPH01192745A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0535474A2 (de) * | 1991-10-01 | 1993-04-07 | Flachglas Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung einer einfachgekrümmten oder einer doppeltgekrümmten Verbundglasscheibe, insbesondere für Kraftfahrzeuge |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0530777B2 (ja) | 1993-05-10 |
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