JPH01191133A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/825—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antireflection means or visible-light filtering means, e.g. antihalation
- G03C1/83—Organic dyestuffs therefor
- G03C1/832—Methine or polymethine dyes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に関するものであ
り、更に詳しくは、ヘリウム−ネオンレーザ−を光源と
する印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料に関するもの
である。
り、更に詳しくは、ヘリウム−ネオンレーザ−を光源と
する印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料に関するもの
である。
近年印刷製版分野では、スキャナ一方式が広く用いられ
、中でも直接電気的に網点あるいは文字を形成するドツ
トジェネレータ一方式へ、主流が変ってきた。このドツ
トジェネレータ一方式のスキャナー光源には、従来出力
の高い、アルゴンレーザーが、用いられてきたが、この
光源は装置全体が崇ぼり、高価であるため最近は、より
コンパクトで安価な、ヘリウム−ネオン光源(632,
8n+m)を用いたドツトジェネレータ一方式のスキャ
ナー装置が、各社から開発されている。このスキャナー
に使用する感光材料には、種々の特性が要求される。即
ち各波長に対して高い分光感度を有し、かつ、高照度で
10−3〜10−7秒の露光が、行なわれるので、この
ような条件下においても、高感度かつ高コントラストで
あることが要求される。
、中でも直接電気的に網点あるいは文字を形成するドツ
トジェネレータ一方式へ、主流が変ってきた。このドツ
トジェネレータ一方式のスキャナー光源には、従来出力
の高い、アルゴンレーザーが、用いられてきたが、この
光源は装置全体が崇ぼり、高価であるため最近は、より
コンパクトで安価な、ヘリウム−ネオン光源(632,
8n+m)を用いたドツトジェネレータ一方式のスキャ
ナー装置が、各社から開発されている。このスキャナー
に使用する感光材料には、種々の特性が要求される。即
ち各波長に対して高い分光感度を有し、かつ、高照度で
10−3〜10−7秒の露光が、行なわれるので、この
ような条件下においても、高感度かつ高コントラストで
あることが要求される。
さらに、ファクシミリ分野では、速報性優先のため高温
迅速処理に耐えること、あるいは作業効率という点で、
明るい緑色のセーフラクト化に対する安全性が要求され
る。
迅速処理に耐えること、あるいは作業効率という点で、
明るい緑色のセーフラクト化に対する安全性が要求され
る。
ヘリウム−ネオンレーザ−光源を用い、また、10−s
〜10−?秒という高照度、短時間露光に対して、高感
度かつ高コントラストであるためには、ハロゲン化銀乳
剤感度あるいはこれに分光増悪を施したときの分光感度
が、高照度短時間露光で高いことが必要となる。このよ
うな目的に対してしばしば用いられる方法として、ハロ
ゲン化銀にイリジウム塩を導入し、乳剤感度を高める方
法が、特開昭48−60918号、同58−21175
3、同61−29837、同61−201233、ある
いは特公昭48−42172号に記載されている。また
、−船釣に、赤感性乳剤を得るための分光増感色素につ
いては特公昭43−4933号、同48−42172号
、同55−39818、特開昭50−62425号に記
載されている。
〜10−?秒という高照度、短時間露光に対して、高感
度かつ高コントラストであるためには、ハロゲン化銀乳
剤感度あるいはこれに分光増悪を施したときの分光感度
が、高照度短時間露光で高いことが必要となる。このよ
うな目的に対してしばしば用いられる方法として、ハロ
ゲン化銀にイリジウム塩を導入し、乳剤感度を高める方
法が、特開昭48−60918号、同58−21175
3、同61−29837、同61−201233、ある
いは特公昭48−42172号に記載されている。また
、−船釣に、赤感性乳剤を得るための分光増感色素につ
いては特公昭43−4933号、同48−42172号
、同55−39818、特開昭50−62425号に記
載されている。
しかしながら、このような高感度乳剤を用いることは、
実際の露光に対して高感度で、高コントラストである反
面、しばしば低照度感度をも高めてしまうために、前記
明るい緑色のセーフライトに対する安全性が著しく劣化
するという問題点が生じた。
実際の露光に対して高感度で、高コントラストである反
面、しばしば低照度感度をも高めてしまうために、前記
明るい緑色のセーフライトに対する安全性が著しく劣化
するという問題点が生じた。
上記問題点を解決する目的で、特定の波長域の光を吸収
する染料によって、写真乳剤層または、その他の層を着
色することが、しばしば行なわれる。これらの着色すべ
き層は、親水性コロイドから成る場合が、多く、したが
って、その着色のためには通常、水溶性染料を層中に含
有させる。
する染料によって、写真乳剤層または、その他の層を着
色することが、しばしば行なわれる。これらの着色すべ
き層は、親水性コロイドから成る場合が、多く、したが
って、その着色のためには通常、水溶性染料を層中に含
有させる。
この染料は下記のような条件を満足することが必要であ
る。
る。
<11 使用目的に応じた適正な分光吸収を有するこ
と。
と。
(2) 写真化学的に不活性であること。つまりハロ
ゲン化銀写真乳剤層の性能に化学的な意味での悪影響、
たとえば感度の低下、潜像退行、あるいはカブリを与え
ないこと。
ゲン化銀写真乳剤層の性能に化学的な意味での悪影響、
たとえば感度の低下、潜像退行、あるいはカブリを与え
ないこと。
(3) 写真処理過程において脱色されるが、溶解除
去されて、処理後の写真感光材料上に有害な着色を残さ
ないこと。
去されて、処理後の写真感光材料上に有害な着色を残さ
ないこと。
これらの条件をみたす染料を見出すために当業者により
多(の努力がなされている。
多(の努力がなされている。
これらの中で2個のピラゾロン核を有するオキソノール
染料は亜硫酸塩を含む現像液中で脱色される性質をもち
、写真乳剤に悪い作用を及ぼすことが少く有用な染料と
して感光材料の染料に用いられてきた。
染料は亜硫酸塩を含む現像液中で脱色される性質をもち
、写真乳剤に悪い作用を及ぼすことが少く有用な染料と
して感光材料の染料に用いられてきた。
例えばピラゾロン1位にスルホアリール基を有するもの
が、特公昭39−22069号、同51−46607号
、同55−10061号、同60−53304号、同5
1−1419号等に記載されており、ピラゾロン1位に
スルホアルキル基を有するものが、特開昭49−996
20号、特公昭55−10059号等に記載されている
。しかし、これらの系統に属する染料は写真乳剤そのも
のには影響が少くても分光増感された乳剤に対しては、
不必要な領域に分光増感したり、または増感色素を脱着
せしめることに起因すると思われる感度の低下をひきお
こす欠点を有している。
が、特公昭39−22069号、同51−46607号
、同55−10061号、同60−53304号、同5
1−1419号等に記載されており、ピラゾロン1位に
スルホアルキル基を有するものが、特開昭49−996
20号、特公昭55−10059号等に記載されている
。しかし、これらの系統に属する染料は写真乳剤そのも
のには影響が少くても分光増感された乳剤に対しては、
不必要な領域に分光増感したり、または増感色素を脱着
せしめることに起因すると思われる感度の低下をひきお
こす欠点を有している。
また近年行われるようになった現像処理の迅速化によっ
ては処理後に残るものがある。これを解決するために亜
硫酸イオンとの反応性の高い染料を用いることが提案さ
れているが、この場合には写真膜中での安定性が充分で
なく、経時によっては濃度の低下をおこし、所望の写真
的効果を得られないという欠点を有している。
ては処理後に残るものがある。これを解決するために亜
硫酸イオンとの反応性の高い染料を用いることが提案さ
れているが、この場合には写真膜中での安定性が充分で
なく、経時によっては濃度の低下をおこし、所望の写真
的効果を得られないという欠点を有している。
一方、ピラゾロン1位にスルホアラルキル基を有し、し
かもピラゾロン3位に特定の置換基を有するものは、特
開昭50−145125号、同50−147712号、
同52−20830号等に記載があるが、脱色性が悪く
、残色性が劣るという欠点を有していた。
かもピラゾロン3位に特定の置換基を有するものは、特
開昭50−145125号、同50−147712号、
同52−20830号等に記載があるが、脱色性が悪く
、残色性が劣るという欠点を有していた。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の目的は第1にセーフライト安全性のすぐれたヘ
リウム−ネオンレーザ−露光用のハロゲン化銀写真感光
材料を提供することにある。
リウム−ネオンレーザ−露光用のハロゲン化銀写真感光
材料を提供することにある。
第二に迅速現像処理に対しても脱色性のすぐれたハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供することにある。
ン化銀写真感光材料を提供することにある。
第三に、高照度の光源に対し高い感度を有するハロゲン
化銀写真感光材料を提供することにある。
化銀写真感光材料を提供することにある。
(発明の構成)
本発明の上記目的は、支持体上に下記一般式〔I〕で示
される化合物を少なくとも1種含有するハロゲン化銀乳
剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層又は他の親水性コロ
イド層の少なくとも1層中に下記一般式(n)で示され
る化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料によって達成された。
される化合物を少なくとも1種含有するハロゲン化銀乳
剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層又は他の親水性コロ
イド層の少なくとも1層中に下記一般式(n)で示され
る化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料によって達成された。
一般式[1)
式中、ZおよびZIは各々5員または6員の含窒素複素
環核を完成するに必要な非金属原子群を表わす。Rおよ
びR9は各々アルキル基、置換アルキル基、またはアリ
ール基を表わす。QおよびQ、は−緒になって4−チア
ゾリジノン、5−チアゾリジノンまたは4−イミダゾリ
ジノン核を完成するに必要な非金属原子群を表わす、L
、LlおよびR2は各々メチン基または置換メチン基を
表わす。n、およびn、は各々0または1を表わす、X
はアニオンを表わす0mは0または1を表わし、分子内
塩を形成するときはmwQである。
環核を完成するに必要な非金属原子群を表わす。Rおよ
びR9は各々アルキル基、置換アルキル基、またはアリ
ール基を表わす。QおよびQ、は−緒になって4−チア
ゾリジノン、5−チアゾリジノンまたは4−イミダゾリ
ジノン核を完成するに必要な非金属原子群を表わす、L
、LlおよびR2は各々メチン基または置換メチン基を
表わす。n、およびn、は各々0または1を表わす、X
はアニオンを表わす0mは0または1を表わし、分子内
塩を形成するときはmwQである。
(II)
Q+ + Xt + CHz + p+Y+)at
Q! + )h÷CHt±pzYz)at式中R+、R
zは各々アルキル基、アリール基、シアノ基、−COO
Rs 、 C0NRsRa、’ COR’l 、 5
OtRt 、 5ORt、S O! N Rs Rい一
0Rs 、 NR5R5、N R& COR? 、N
Rs CON Rs Rb又はNRa5OzRt(ここ
にRs 、R,はは水素原子、アルキル基又は了り−ル
基を表わし、R1はアルキル基又はアリール基を表わし
、R3とRh又はR4とR1は連結して5又は6員環を
形成しても良い、)を表わし、R,、R4は各々水素原
子又はアルキル基を表わす。Q、 、Q、は各々アリー
ル基を表わし、x、 、XIは結合もしくは2価の連結
基を表わし、Y+、Yzは各々スルホ基又はカルボキシ
ル基を表わし、L、 、Lよ、L、は各々メチン基を表
わす。nは0.1又は2、ml。
Q! + )h÷CHt±pzYz)at式中R+、R
zは各々アルキル基、アリール基、シアノ基、−COO
Rs 、 C0NRsRa、’ COR’l 、 5
OtRt 、 5ORt、S O! N Rs Rい一
0Rs 、 NR5R5、N R& COR? 、N
Rs CON Rs Rb又はNRa5OzRt(ここ
にRs 、R,はは水素原子、アルキル基又は了り−ル
基を表わし、R1はアルキル基又はアリール基を表わし
、R3とRh又はR4とR1は連結して5又は6員環を
形成しても良い、)を表わし、R,、R4は各々水素原
子又はアルキル基を表わす。Q、 、Q、は各々アリー
ル基を表わし、x、 、XIは結合もしくは2価の連結
基を表わし、Y+、Yzは各々スルホ基又はカルボキシ
ル基を表わし、L、 、Lよ、L、は各々メチン基を表
わす。nは0.1又は2、ml。
m2はl又は2、I)l 、pzは0,1.2.3又は
4、Q+ 1qzは1.2又は3を表わす。 続いて、
一般式([)で表わされる化合物について詳細に説明す
る。
4、Q+ 1qzは1.2又は3を表わす。 続いて、
一般式([)で表わされる化合物について詳細に説明す
る。
本発明に用いられる増感色素の上記一般式(1)におい
て、ZまたはZlによって完成される含窒素複素環核と
して次に挙げるものを用いうる。
て、ZまたはZlによって完成される含窒素複素環核と
して次に挙げるものを用いうる。
チアゾール核(例えばチアゾール、4−メチルチアゾー
ル、4−フェニルチアゾール、4.5−ジメチルチアゾ
ール、4,5−ジ−フェニルチアゾールなど)、ベンゾ
チアゾール核(例えばベンゾチアゾール、5−クロルベ
ンゾチアゾール、6−クロルベンゾチアゾール、5−メ
チルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチアゾール、
5−ブロモベンゾチアゾール、6−ブロモベンゾチアゾ
ール、5−ヨードベンゾチアゾール、6−ヨードベンゾ
チアゾール、5−フェニルベンゾチアソール、5−メト
キシベンゾチアゾール、6−メトキシベンゾチアゾール
、5−エトキシベンゾチアゾール、5−エトキシカルボ
ニルベンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾチアゾー
ル、5−カルボキシベンゾチアゾール、5−フルオロベ
ンゾチアゾール、5−ジメチルアミノベンゾチアゾール
、5−アセチルアミノベンゾチアゾール、5−トリフロ
ロメチルベンゾチアゾール、5,6−シメチルベンゾチ
アゾール、5−ヒドロキシ−6−メチルベンゾチアゾー
ル、5−エトキシ−6−メチルベンゾチアゾール、テト
ラヒドロベンゾチアゾールなど)、ナフトチアゾール核
(例えばナフト〔2゜1−d〕チアゾール、ナフト(1
,2−d)チアゾール、ナフト(2,3−d)チアゾー
ル、5−メトキシナフト(1,2−d)チアゾール、7
−ニトキシナフト(2,1−d)チアゾール、8−メト
キシナフト(2,1−d)チアゾール、5−メトキシナ
フト(2,3−d)チアゾールなど)、セレナゾール核
(例えば4−メチルセレナゾール、4−フェニルセレナ
ゾールなど)、ベンゾセレナゾール核(例えばベンゾセ
レナゾール、5−クロルベンゾセレナゾール、5−フェ
ニルベンゾセレナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾ
ール、5−メチルベンゾセレナゾール、5−ヒドロキシ
ベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(例
えばナフト(2,1−d)セレナゾール、ナフト(1,
2−d)セレナゾールなど)、オキサゾール核(例えば
オキサゾール、4−メチルオキサゾール、5−メチルオ
キサゾール、4,5−ジメチルオキサゾールなど)、ベ
ンズオキサゾール核(例えばベンズオキサゾール、5−
フルオロベンズオキサゾール、5−クロロベンズオキサ
ゾール、5−ブロモベンズオキサゾール、5−トリフル
オロメチルベンズオキサゾール、5−メチルベンズオキ
サゾール、5−メチル−6−フェニルベンズオキサゾー
ル、5,6−シメチルベンズオキサゾール、5−メトキ
シベンズオキサゾール、5゜6−シメトキシベンズオキ
サゾール、5−フェニルベンズオキサゾール、5−カル
ボキシベンズオキサゾール、5−メトキシカルボニルベ
ンズオキサゾール、5−アセチルベンズオキサゾール、
5−ヒドロキシベンズオキサゾールなど)、ナフトオキ
サゾール核(例えばナフト(2,1−d)オキサゾール
、ナフト(1,2−d)オキサゾール、ナフト(2,3
−d)オキサゾールなど)、2−キノリン核、イミダゾ
ール核、ベンズイミダゾール核、3.3’−ジアルキル
インドレニン核、2−ピリジン核、チアゾリン核、など
を用いることができる。とくに好ましくは、Z及びZ、
の少くとも1つがチアゾール核、チアゾリン核、オキサ
ゾール核、ベンツオキサゾール核の場合である。
ル、4−フェニルチアゾール、4.5−ジメチルチアゾ
ール、4,5−ジ−フェニルチアゾールなど)、ベンゾ
チアゾール核(例えばベンゾチアゾール、5−クロルベ
ンゾチアゾール、6−クロルベンゾチアゾール、5−メ
チルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチアゾール、
5−ブロモベンゾチアゾール、6−ブロモベンゾチアゾ
ール、5−ヨードベンゾチアゾール、6−ヨードベンゾ
チアゾール、5−フェニルベンゾチアソール、5−メト
キシベンゾチアゾール、6−メトキシベンゾチアゾール
、5−エトキシベンゾチアゾール、5−エトキシカルボ
ニルベンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾチアゾー
ル、5−カルボキシベンゾチアゾール、5−フルオロベ
ンゾチアゾール、5−ジメチルアミノベンゾチアゾール
、5−アセチルアミノベンゾチアゾール、5−トリフロ
ロメチルベンゾチアゾール、5,6−シメチルベンゾチ
アゾール、5−ヒドロキシ−6−メチルベンゾチアゾー
ル、5−エトキシ−6−メチルベンゾチアゾール、テト
ラヒドロベンゾチアゾールなど)、ナフトチアゾール核
(例えばナフト〔2゜1−d〕チアゾール、ナフト(1
,2−d)チアゾール、ナフト(2,3−d)チアゾー
ル、5−メトキシナフト(1,2−d)チアゾール、7
−ニトキシナフト(2,1−d)チアゾール、8−メト
キシナフト(2,1−d)チアゾール、5−メトキシナ
フト(2,3−d)チアゾールなど)、セレナゾール核
(例えば4−メチルセレナゾール、4−フェニルセレナ
ゾールなど)、ベンゾセレナゾール核(例えばベンゾセ
レナゾール、5−クロルベンゾセレナゾール、5−フェ
ニルベンゾセレナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾ
ール、5−メチルベンゾセレナゾール、5−ヒドロキシ
ベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(例
えばナフト(2,1−d)セレナゾール、ナフト(1,
2−d)セレナゾールなど)、オキサゾール核(例えば
オキサゾール、4−メチルオキサゾール、5−メチルオ
キサゾール、4,5−ジメチルオキサゾールなど)、ベ
ンズオキサゾール核(例えばベンズオキサゾール、5−
フルオロベンズオキサゾール、5−クロロベンズオキサ
ゾール、5−ブロモベンズオキサゾール、5−トリフル
オロメチルベンズオキサゾール、5−メチルベンズオキ
サゾール、5−メチル−6−フェニルベンズオキサゾー
ル、5,6−シメチルベンズオキサゾール、5−メトキ
シベンズオキサゾール、5゜6−シメトキシベンズオキ
サゾール、5−フェニルベンズオキサゾール、5−カル
ボキシベンズオキサゾール、5−メトキシカルボニルベ
ンズオキサゾール、5−アセチルベンズオキサゾール、
5−ヒドロキシベンズオキサゾールなど)、ナフトオキ
サゾール核(例えばナフト(2,1−d)オキサゾール
、ナフト(1,2−d)オキサゾール、ナフト(2,3
−d)オキサゾールなど)、2−キノリン核、イミダゾ
ール核、ベンズイミダゾール核、3.3’−ジアルキル
インドレニン核、2−ピリジン核、チアゾリン核、など
を用いることができる。とくに好ましくは、Z及びZ、
の少くとも1つがチアゾール核、チアゾリン核、オキサ
ゾール核、ベンツオキサゾール核の場合である。
上記一般式中RまたはR1で表わされるアルキル基とし
ては炭素原子の数が5以下のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基など)、
置換アルキル基としてはアルキルラジカルの炭素数が5
以下の置換アルキル基(例えばヒドロキシアルキル基(
例えば2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピ
ル基、4−ヒドロキシブチル基6など)、カルボキシア
ルキル基(例えばカルボキシメチル基、2−カルボキシ
エチル基、3−カルボキシプロピル基、4−カルポキシ
ブチル基、2−(2−カルボキシエトキシ)エチル基、
など)、スルホアルキル基(例えば2−スルホエチル基
、3−スルホプロピル基、3−スルホブチル基、4−ス
ルホブチル基、2−ヒドロキシ−3−スルホプロピル!
、2− (3−スルホプロポキシ)エチル基、2−アセ
トキシ−3−スルホプロピル基、3−メトキシ−2−(
3−スルホプロポキシ)プロピル基、2− (3−スル
ホプロポキシ)エトキシエチル基、2−ヒドロキシ−3
−(3′−スルホプロポキシ)プロピル基など)、アラ
ルキル基(アルキルラジカルの炭素数は1〜5が好まし
く、アリール基は好ましくはフェニル基であり、例えば
ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェ
ニルブチル基、p−トリルプロピル基、p−メトキシフ
ェネチル基、p−クロルフェネチル基、p−カルボキシ
ベンジル基、p−スルホフェネチル基、p−スルホベン
ジル基など)、アリーロキシアルキル基(アルキルラジ
カルの炭素数は1〜5が好ましく、アリーロキシ基のア
リール基は好ましくはフェニル基であり、例えばフェノ
キシエチル基、フェノキシプロピル基、フェノキシブチ
ル基、p−メチルフェノキシエチル基、p−メトキシフ
ェノキシプロピル基など)、ビニルメチル基、など)な
ど了り−ル基としてはフェニル基などを表わす。
ては炭素原子の数が5以下のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基など)、
置換アルキル基としてはアルキルラジカルの炭素数が5
以下の置換アルキル基(例えばヒドロキシアルキル基(
例えば2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピ
ル基、4−ヒドロキシブチル基6など)、カルボキシア
ルキル基(例えばカルボキシメチル基、2−カルボキシ
エチル基、3−カルボキシプロピル基、4−カルポキシ
ブチル基、2−(2−カルボキシエトキシ)エチル基、
など)、スルホアルキル基(例えば2−スルホエチル基
、3−スルホプロピル基、3−スルホブチル基、4−ス
ルホブチル基、2−ヒドロキシ−3−スルホプロピル!
、2− (3−スルホプロポキシ)エチル基、2−アセ
トキシ−3−スルホプロピル基、3−メトキシ−2−(
3−スルホプロポキシ)プロピル基、2− (3−スル
ホプロポキシ)エトキシエチル基、2−ヒドロキシ−3
−(3′−スルホプロポキシ)プロピル基など)、アラ
ルキル基(アルキルラジカルの炭素数は1〜5が好まし
く、アリール基は好ましくはフェニル基であり、例えば
ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェ
ニルブチル基、p−トリルプロピル基、p−メトキシフ
ェネチル基、p−クロルフェネチル基、p−カルボキシ
ベンジル基、p−スルホフェネチル基、p−スルホベン
ジル基など)、アリーロキシアルキル基(アルキルラジ
カルの炭素数は1〜5が好ましく、アリーロキシ基のア
リール基は好ましくはフェニル基であり、例えばフェノ
キシエチル基、フェノキシプロピル基、フェノキシブチ
ル基、p−メチルフェノキシエチル基、p−メトキシフ
ェノキシプロピル基など)、ビニルメチル基、など)な
ど了り−ル基としてはフェニル基などを表わす。
LSL、 、Lzはメチン基または置換メチン基R′
−C−を表わす。R′はアルキル基(例えばメチル基、
エチル基など)、置換アルキル基(例えばアルコキシア
ルキル基(例えば2−エトキシエチル基など)、カルボ
キシアルキル基(例えば2−カルボキシエチル基など)
、アルコキシカルボニルアルキル基(例えば2−メトキ
シカルボニルエチル基など)、アラルキル基(例えばベ
ンジル基、フェネチル基など)、など)、アリール基(
例えばフェニル基、p−メトキシフェニル基、p−クロ
ルフェニル基、0−カルボキシフェニル基など)などを
表わす。またLとR,RxとR5がそれぞれメチン鎖で
結合して含窒素複素環を形成していてもよい、QとQI
とが形成するチアゾリノン核またはイミダゾリノン核の
3位の窒素原子に付いている置換基としては例えばアル
キル基(炭素数は1〜8が好ましく例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基など)、アリル基、アラルキル基(
アルキル基、ラジカルの炭素数は1〜5が好ましく、例
えばベンジル基、p−カルボキシフェニルメチル基など
)、了り−ル基(炭素数総計が6〜9が好ましく、例え
ばフェニル基、p−カルボキシフェニル基など)、ヒド
ロキシアルキル基(アルキルラジカルの炭素数は1〜5
が好ましく、例えば2−ヒドロキシエチル基など)、カ
ルボキシアルキル基(アルキルラジカルの炭素数は1〜
5が好まし゛く、例えばカルボキシメチル基など)、ア
ルコキシカルボニルアルキル基(アルコキシ部分のアル
キルラジカルは炭素数1〜3が好ましく、またアルキル
部分の炭素数は1〜5が好ましく、例えばメトキシカル
ボニルエチル基など)などを挙げることができる。
エチル基など)、置換アルキル基(例えばアルコキシア
ルキル基(例えば2−エトキシエチル基など)、カルボ
キシアルキル基(例えば2−カルボキシエチル基など)
、アルコキシカルボニルアルキル基(例えば2−メトキ
シカルボニルエチル基など)、アラルキル基(例えばベ
ンジル基、フェネチル基など)、など)、アリール基(
例えばフェニル基、p−メトキシフェニル基、p−クロ
ルフェニル基、0−カルボキシフェニル基など)などを
表わす。またLとR,RxとR5がそれぞれメチン鎖で
結合して含窒素複素環を形成していてもよい、QとQI
とが形成するチアゾリノン核またはイミダゾリノン核の
3位の窒素原子に付いている置換基としては例えばアル
キル基(炭素数は1〜8が好ましく例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基など)、アリル基、アラルキル基(
アルキル基、ラジカルの炭素数は1〜5が好ましく、例
えばベンジル基、p−カルボキシフェニルメチル基など
)、了り−ル基(炭素数総計が6〜9が好ましく、例え
ばフェニル基、p−カルボキシフェニル基など)、ヒド
ロキシアルキル基(アルキルラジカルの炭素数は1〜5
が好ましく、例えば2−ヒドロキシエチル基など)、カ
ルボキシアルキル基(アルキルラジカルの炭素数は1〜
5が好まし゛く、例えばカルボキシメチル基など)、ア
ルコキシカルボニルアルキル基(アルコキシ部分のアル
キルラジカルは炭素数1〜3が好ましく、またアルキル
部分の炭素数は1〜5が好ましく、例えばメトキシカル
ボニルエチル基など)などを挙げることができる。
Xで表わされる陰イオンの例として、ハロゲンイオン(
沃素イオン、臭素イオン、塩素イオンなど)、過塩素酸
イオン、チオシアン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオ
ン、p−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン
、エチル硫酸イオンなどを挙げうる。
沃素イオン、臭素イオン、塩素イオンなど)、過塩素酸
イオン、チオシアン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオ
ン、p−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン
、エチル硫酸イオンなどを挙げうる。
一般式〔I〕で表わされる増感色素の中で、次式一般式
(1−A)で表わされる色素がとくに好ましい。
(1−A)で表わされる色素がとくに好ましい。
一般式(1−A)
、721.・−Zz−・2.。
Z2及びZ、は、同じでも異なってもよく、各々チアゾ
ール核、ベンゾチアゾール核又はベンズオキサゾール核
を完成するに必要な非金属原子群を表わす。Roは炭素
数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基など)、アリル基又はアラルキル基(アルキル
ラジカルの炭素数は1〜5が好ましく、例えばベンジル
基、p−カルボキシフェニルメチル基など)を表わす。
ール核、ベンゾチアゾール核又はベンズオキサゾール核
を完成するに必要な非金属原子群を表わす。Roは炭素
数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基など)、アリル基又はアラルキル基(アルキル
ラジカルの炭素数は1〜5が好ましく、例えばベンジル
基、p−カルボキシフェニルメチル基など)を表わす。
R,R,、LSL、及びL!は一般式(1)におけると
同義である。
同義である。
以下に一般式(r)で表わされる化合物の具体例を示す
。但し本発明で用いる化合物は、これらに限定されるも
のではない。
。但し本発明で用いる化合物は、これらに限定されるも
のではない。
一般式〔同で示される化合物の例示
ド
にtHs にzHs
■−
■=
■−
!−7
■=
にzHs L;HzLlltにHzSU3−C
z 11 s Cz Hs ■− ■ −11 Br− l−15 ド ■−16 ■− ■−17 ■ −18 CtHs CtHs ■− ■−19 CtHs CtHs 一 ■−20 Cz!is CtHs ド ■−22 ト ■−23 ■− !−25 C112CII zcII□Cll2SO3−GzHs
Br−Ct II s
Cz t(s ■ −28 ■ −29 C2H5CJs !−30 C2115l 1 CzHs CzHs ■ −31 C2H4l 1 Czlls CIIzCHzCHi一 ■ −32 C,H,l 1 Czlls CJs ■ −33 ■− ■ −34 CzHs Cz)Is ■− ■ −35 ■−36 q ■ −38 CzHs CJsまた、
本発明で用いる上記一般式〔I〕で示される化合物を、
ハロゲン化銀乳剤に添加する場合の使用量については、
ハロゲン化銀の種類、化合物の種類によって異なるが、
通常ハロゲン化銀1モルあたり5■から500+egの
広範囲にわたり、適宜効果の得られる最適量を任意に選
択することができる。
z 11 s Cz Hs ■− ■ −11 Br− l−15 ド ■−16 ■− ■−17 ■ −18 CtHs CtHs ■− ■−19 CtHs CtHs 一 ■−20 Cz!is CtHs ド ■−22 ト ■−23 ■− !−25 C112CII zcII□Cll2SO3−GzHs
Br−Ct II s
Cz t(s ■ −28 ■ −29 C2H5CJs !−30 C2115l 1 CzHs CzHs ■ −31 C2H4l 1 Czlls CIIzCHzCHi一 ■ −32 C,H,l 1 Czlls CJs ■ −33 ■− ■ −34 CzHs Cz)Is ■− ■ −35 ■−36 q ■ −38 CzHs CJsまた、
本発明で用いる上記一般式〔I〕で示される化合物を、
ハロゲン化銀乳剤に添加する場合の使用量については、
ハロゲン化銀の種類、化合物の種類によって異なるが、
通常ハロゲン化銀1モルあたり5■から500+egの
広範囲にわたり、適宜効果の得られる最適量を任意に選
択することができる。
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
合せを用いてもよい、また、増感色素とともに、それ自
身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を実質的
に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質を乳剤
中に含んでもよく、例えば特開昭54−18726に記
載された方法に従って強色増感させても良い。
合せを用いてもよい、また、増感色素とともに、それ自
身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を実質的
に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質を乳剤
中に含んでもよく、例えば特開昭54−18726に記
載された方法に従って強色増感させても良い。
次に一般式(II)で表わされる染料について詳細に説
明する。
明する。
R+、Rよ、Rs 、Rh及びR1で表わされるアルキ
ル基としては、炭素数1〜Bのアルキル基(例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル
、イソブチル、t−ブチル、n−アミル、n−ヘキシル
、n−オクチル、イソアミル)が好ましく、置換基〔例
えばフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、フェニル基
、水酸基、シアノ基、アルコキシ基(例えばメトキシ、
エトキシ、ヒドロキシエトキシ)、了り−ルオキシ基(
例えばフェノキシ、p−メトキシフェノキシ)、カルボ
キシル基、スルホ基、アミノ基、置換アミノ基(例えば
ジメチルアミノ、ジエチルアミノ)〕を有していても良
い。
ル基としては、炭素数1〜Bのアルキル基(例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル
、イソブチル、t−ブチル、n−アミル、n−ヘキシル
、n−オクチル、イソアミル)が好ましく、置換基〔例
えばフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、フェニル基
、水酸基、シアノ基、アルコキシ基(例えばメトキシ、
エトキシ、ヒドロキシエトキシ)、了り−ルオキシ基(
例えばフェノキシ、p−メトキシフェノキシ)、カルボ
キシル基、スルホ基、アミノ基、置換アミノ基(例えば
ジメチルアミノ、ジエチルアミノ)〕を有していても良
い。
R3、R4で表わされるアルキル基としては炭素数4以
下のアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル
)が好ましい。
下のアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル
)が好ましい。
R1、R1、R2、Rh及びR1で表わされるアリール
基としては、フェニル基、ナフチル基が好ましく、置換
基〔例えばフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、スル
ホ基、カルボキシル基、水酸基、シアノ基、炭素数1〜
4のアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル
)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ)、アリ
ールオキシ基(例えばフェノキシ)〕を有していても良
い。
基としては、フェニル基、ナフチル基が好ましく、置換
基〔例えばフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、スル
ホ基、カルボキシル基、水酸基、シアノ基、炭素数1〜
4のアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル
)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ)、アリ
ールオキシ基(例えばフェノキシ)〕を有していても良
い。
Q、、 Qxで表わされるアリール基としては、フェニ
ル基、ナフチル基が好ましく、スルホ基、カルボキシル
基以外の置換基〔例えば炭素数1〜4のアルキル基(例
えばメチル、エチル)、アルコキシ基(例えばメトキシ
、エトキシ、ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素
)、カルバモイル(Mえばメチルカルバモイル、エチル
カルバモイル)、スルファモイル(例えばエチルスルフ
ァモイル)、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル
!(例、tばメタンスルホニル)、アリールスルホニル
基(例えばベンゼンスルホニル)、アミノ基(例えばジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ)、アシルアミノ基(例
えばアセチルアミノ)、スルホンアミド基(例えばメタ
ンスルホンアミド)、水酸基〕を有していても良い。
ル基、ナフチル基が好ましく、スルホ基、カルボキシル
基以外の置換基〔例えば炭素数1〜4のアルキル基(例
えばメチル、エチル)、アルコキシ基(例えばメトキシ
、エトキシ、ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素
)、カルバモイル(Mえばメチルカルバモイル、エチル
カルバモイル)、スルファモイル(例えばエチルスルフ
ァモイル)、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル
!(例、tばメタンスルホニル)、アリールスルホニル
基(例えばベンゼンスルホニル)、アミノ基(例えばジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ)、アシルアミノ基(例
えばアセチルアミノ)、スルホンアミド基(例えばメタ
ンスルホンアミド)、水酸基〕を有していても良い。
XI、XIで表わされる2価の連結基としては、例えば
−〇−1−NRI−1−NR8CO−1SOx−1N
Rs S Oz−を挙げることができ、R3は水素原子
、炭素数5以下のアルキル基(例えばメチル、エチル、
n−プロピル、n−ブチル、n−アミル、イソブチル)
又は炭素数5以下の置換アルキル基〔置換基としては、
炭素数3以下のアルコキシ基(例えばメトキシ、エトキ
シ)、スルホ基、カルボキシル基、シアノ基、水酸基、
アミノ基(例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ)、
カルバモイル基(例えばヒドロキシエチルアミノカルボ
ニル、エチルアミノカルボニル)又はスルファモイル基
(例えばエチルアミノスルホニル)〕を表わす。
−〇−1−NRI−1−NR8CO−1SOx−1N
Rs S Oz−を挙げることができ、R3は水素原子
、炭素数5以下のアルキル基(例えばメチル、エチル、
n−プロピル、n−ブチル、n−アミル、イソブチル)
又は炭素数5以下の置換アルキル基〔置換基としては、
炭素数3以下のアルコキシ基(例えばメトキシ、エトキ
シ)、スルホ基、カルボキシル基、シアノ基、水酸基、
アミノ基(例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ)、
カルバモイル基(例えばヒドロキシエチルアミノカルボ
ニル、エチルアミノカルボニル)又はスルファモイル基
(例えばエチルアミノスルホニル)〕を表わす。
R2とR4又はR8とR1が連結して形成される5又は
6員環としては、例えばピペリジン環、モルホリン環、
ピロリジン環、ピロリドン環を挙げることができる。
6員環としては、例えばピペリジン環、モルホリン環、
ピロリジン環、ピロリドン環を挙げることができる。
L+ 、1−t 1Lsで表わされるメチン基は、置換
基(例えばメチル、エチル、シアノ、フェニル、塩素原
子、スルホエチル)を有していても良い。
基(例えばメチル、エチル、シアノ、フェニル、塩素原
子、スルホエチル)を有していても良い。
上記一般式(n)において、スルホ基、カルボキシル基
及びピラゾロン環のエノール部分は遊離型でも塩型(例
えはNa塩、K塩、(CzllshNH塩、ピリジニウ
ム塩、アンモニウム塩)を形成していても良い。
及びピラゾロン環のエノール部分は遊離型でも塩型(例
えはNa塩、K塩、(CzllshNH塩、ピリジニウ
ム塩、アンモニウム塩)を形成していても良い。
上記一般式(n)において好ましいものは、Rz、Ra
が水素原子又はメチル基を表わし、Q+ 、Qgがフェ
ニル基又は置換フェニル基〔置換基として炭素数4以下
のアルキル基、炭素数4以下のアルコキシ基、ハロゲン
原子(例エバフッ素、塩素、臭素)、炭素数6以下のジ
アルキルアミノ基、水酸基が好ましい、〕を表わし、X
I、X8が結合もしくは一〇−又は−NRs (Rs
は上記で定義されているとおりである。)を表わすもの
である。より好ましくは上記条件のもとてm、wm、x
lであり、特に好ましいものはml−ml−1であり且
つR1、R,がアルキル基、アリール基、シアノ基、−
〇〇〇R5、CON R5RイCOR? 、S 0zR
t、S Ot N Rs Rh又は−N Rh S O
z R? (Rs 1R1、R?は上記で定義されて
いるとおりである。)を表わすものである。
が水素原子又はメチル基を表わし、Q+ 、Qgがフェ
ニル基又は置換フェニル基〔置換基として炭素数4以下
のアルキル基、炭素数4以下のアルコキシ基、ハロゲン
原子(例エバフッ素、塩素、臭素)、炭素数6以下のジ
アルキルアミノ基、水酸基が好ましい、〕を表わし、X
I、X8が結合もしくは一〇−又は−NRs (Rs
は上記で定義されているとおりである。)を表わすもの
である。より好ましくは上記条件のもとてm、wm、x
lであり、特に好ましいものはml−ml−1であり且
つR1、R,がアルキル基、アリール基、シアノ基、−
〇〇〇R5、CON R5RイCOR? 、S 0zR
t、S Ot N Rs Rh又は−N Rh S O
z R? (Rs 1R1、R?は上記で定義されて
いるとおりである。)を表わすものである。
以下に、一般式(11)で表わされる化合物の具体例を
示す、但し、本発明で用いる化合物はこれらに限定され
るものではない。
示す、但し、本発明で用いる化合物はこれらに限定され
るものではない。
一般式(II)で示される化合物の例示。
ct+t C■。
■−2
■−4
n−7
C1,CH。
■−8
■−10
■−11
■−12
■−13
■−16
CIl□ CH。
+1−17 CH3I
CH,cut
I
SO,Na SO3
Nal−18 ■−19 SO,Na SO,
Na■−20 ■−21 0(Cllz) asO3Na 0(C1lz
) 4sO3Na■−22 CH。
Nal−18 ■−19 SO,Na SO,
Na■−20 ■−21 0(Cllz) asO3Na 0(C1lz
) 4sO3Na■−22 CH。
ピ
■−23
cu! CH2
l
5U3Na bす、Na■
−24 ■−25 I CHz GHz■−26 CH,CH2 CIl□ CI。
−24 ■−25 I CHz GHz■−26 CH,CH2 CIl□ CI。
■−27
CHI CL
0(C1lz) aSO3Na 0(C1lz
) 4SOsNa■−28 SO,Na SO,Na■
−29 0CH30CH3 ■−31 閣 C11□ ■ ■−32 CHz 0(CHz)zS ■ CH。
) 4SOsNa■−28 SO,Na SO,Na■
−29 0CH30CH3 ■−31 閣 C11□ ■ ■−32 CHz 0(CHz)zS ■ CH。
5O=Na
CH2
■
’+0sNa 0(CHz) 、、SO
=Na■−37 ■−39 ■−40 ■−44 ■−45 SOJa SO,Na■−47 ■−48 1 z ■ 1 寸 の # 2 ■−50 ■−51 CIl、
CLl
)CH,CI。
=Na■−37 ■−39 ■−40 ■−44 ■−45 SOJa SO,Na■−47 ■−48 1 z ■ 1 寸 の # 2 ■−50 ■−51 CIl、
CLl
)CH,CI。
1I ″″
; 1
−O
の 0
…
■−54
■−55
OCHzCIIzSOJ 0C
HzCIIzSOJ■−56 ■−57 ■−58 SOJ S03に■−59 ■−60 一般式(n)で表わされる染料は特開昭50−1451
25号、同50−147712号、同59−11164
0号、同62−273527号、特願昭62−7948
3号、同62−110333号に記載されているかもし
くは類似の方法で合成することができる。
HzCIIzSOJ■−56 ■−57 ■−58 SOJ S03に■−59 ■−60 一般式(n)で表わされる染料は特開昭50−1451
25号、同50−147712号、同59−11164
0号、同62−273527号、特願昭62−7948
3号、同62−110333号に記載されているかもし
くは類似の方法で合成することができる。
上記染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えば
メタノール、エタノール、プロパツールなど)、アセト
ン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明のハロゲン化銀乳剤層か、あるい
は非感光性の親水性コロイド層用塗布液中に添加される
。
メタノール、エタノール、プロパツールなど)、アセト
ン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明のハロゲン化銀乳剤層か、あるい
は非感光性の親水性コロイド層用塗布液中に添加される
。
これらの染料は2種以上組合せて用いることもできる。
具体的な染料の使用量は、一般に10−”g/m〜2
g / td、特に10−”g/n(〜1 g/ldの
範囲が好ましい。
g / td、特に10−”g/n(〜1 g/ldの
範囲が好ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、一般式(I[
)で表わされる染料以外に、他の染料と化合物(II)
とを組合せて用いることができる0組合せて用いられる
好ましい染料は、特開昭59−154439、同59−
208548、同59−211034、同60−643
46、に記載されているが、その中から、いくつか例を
次にあげる。
)で表わされる染料以外に、他の染料と化合物(II)
とを組合せて用いることができる0組合せて用いられる
好ましい染料は、特開昭59−154439、同59−
208548、同59−211034、同60−643
46、に記載されているが、その中から、いくつか例を
次にあげる。
SOJ
本発明に用いられる写真感光材料の写真乳剤層にはハロ
ゲン化銀として臭化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀、塩臭化
銀及び塩化銀のいずれを用いてもよい、好ましいハロゲ
ン化銀は15 mo1%以下、特に好ましくは0.5
mo1%から5 so1%までの沃化銀を含む沃臭化銀
、および20+mo1%以上の臭化銀を含む塩臭化銀で
ある。
ゲン化銀として臭化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀、塩臭化
銀及び塩化銀のいずれを用いてもよい、好ましいハロゲ
ン化銀は15 mo1%以下、特に好ましくは0.5
mo1%から5 so1%までの沃化銀を含む沃臭化銀
、および20+mo1%以上の臭化銀を含む塩臭化銀で
ある。
ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズは特に問わないが3
μm以下が好ましく特に好ましくは0.2μm以上2μ
m以下である。
μm以下が好ましく特に好ましくは0.2μm以上2μ
m以下である。
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子の形状は、立方体
、八面体、十四面体、板状体、球状体のいずれでもよく
、これらの各種形状の混合したものであってもよいが、
立方体、14面体、平板状体粒子が好ましい。
、八面体、十四面体、板状体、球状体のいずれでもよく
、これらの各種形状の混合したものであってもよいが、
立方体、14面体、平板状体粒子が好ましい。
粒子サイズ分布は、多分散、単分散のいずれでもよいが
、好ましくは変動係数20%以下の単分散、更には15
%以下の単分散とするのが好ましい。
、好ましくは変動係数20%以下の単分散、更には15
%以下の単分散とするのが好ましい。
ここで変動係数は
粒径の平均値
として定義される。
本発明に用いられる写真乳剤はP、 Glafkide
s著Chis+ie et Physique Pho
tographique (PaulMon te 1
社刊、1967年) 、G、F、 Duffin著Ph
otographic Emulsion Che
mistry (The FocalPress刊
、1966年) % V、L、 Zelikman a
t al。
s著Chis+ie et Physique Pho
tographique (PaulMon te 1
社刊、1967年) 、G、F、 Duffin著Ph
otographic Emulsion Che
mistry (The FocalPress刊
、1966年) % V、L、 Zelikman a
t al。
著阿aking and Coating Photo
graphic Emulsion(The Foca
l Press刊、1964年)などに記載された方法
を用いて調製することができる。即ち、酸性法、中性法
、アンモニア法等のいずれでもよく、又可溶性銀塩と可
溶性ハロゲン塩を反応させる形式としては、片側混合法
、同時混合法、それらの組合せなどのいずれを用いても
よい。
graphic Emulsion(The Foca
l Press刊、1964年)などに記載された方法
を用いて調製することができる。即ち、酸性法、中性法
、アンモニア法等のいずれでもよく、又可溶性銀塩と可
溶性ハロゲン塩を反応させる形式としては、片側混合法
、同時混合法、それらの組合せなどのいずれを用いても
よい。
粒子を銀イオン過剰の下において形成させる方法(いわ
ゆる逆混合法)を用いることもできる。
ゆる逆混合法)を用いることもできる。
同時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成され
る液層中のpAgを一定に保つ方法、即ち、いわゆるコ
ンドロールド・ダブルジェット法を用いることもできる
。
る液層中のpAgを一定に保つ方法、即ち、いわゆるコ
ンドロールド・ダブルジェット法を用いることもできる
。
この方法によると、結晶形が規則的で粒子サイズが均一
に近いハロゲン化銀乳剤が得られる。
に近いハロゲン化銀乳剤が得られる。
また、粒子サイズを均一にするためには、英国特許1,
535,016号、特公昭4B−36890、同52−
16364号に記載されているように、硝酸銀やハロゲ
ン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に応じて変化さ
せる方法や、米国特許4,242.445号、特開昭5
5−158124号に記載されているように水溶液の濃
度を変化させる方法を用いて、臨界飽和度を越えない範
囲において早く成長させることが好ましい。
535,016号、特公昭4B−36890、同52−
16364号に記載されているように、硝酸銀やハロゲ
ン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に応じて変化さ
せる方法や、米国特許4,242.445号、特開昭5
5−158124号に記載されているように水溶液の濃
度を変化させる方法を用いて、臨界飽和度を越えない範
囲において早く成長させることが好ましい。
また、平板状粒子の場合には、特公昭47−11.38
6号特願昭61−48950等に記載されているような
粒径および/あるいは厚みの均一な粒子を使用すること
が好ましい。
6号特願昭61−48950等に記載されているような
粒径および/あるいは厚みの均一な粒子を使用すること
が好ましい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層とが異なるハロゲン組成
を有する、いわゆるコア/シェル型構造を有してもよい
、特に沃臭化銀の場合、コアの沃化銀比率がシェルの沃
化銀比率よりも0.5mo1%以上、高いことが好まし
く、さらには2mo1%以上高いことがより好ましい。
を有する、いわゆるコア/シェル型構造を有してもよい
、特に沃臭化銀の場合、コアの沃化銀比率がシェルの沃
化銀比率よりも0.5mo1%以上、高いことが好まし
く、さらには2mo1%以上高いことがより好ましい。
ハロゲン化銀粒子形成又は物理熟成の過程において、カ
ドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩
又はその錯塩、ロジウム塩又はその錯塩、鉄塩又は鉄錯
塩などを、共存させることが有利に行なわれる。
ドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩
又はその錯塩、ロジウム塩又はその錯塩、鉄塩又は鉄錯
塩などを、共存させることが有利に行なわれる。
ハロゲン化銀乳剤は、通常は化学増感される。
化学増感のためには、例えばH,Fr1eser [“
Die Grundlagender Photogr
aphishen Prozessewit Silb
er−halogeniden”(Akades+is
cheVerlagsgesellschaft、 1
968) 675〜734頁に記載の方法を用いること
ができる。
Die Grundlagender Photogr
aphishen Prozessewit Silb
er−halogeniden”(Akades+is
cheVerlagsgesellschaft、 1
968) 675〜734頁に記載の方法を用いること
ができる。
すなわち、活性ゼラチンや銀と反応しうる硫黄を含む化
合物(例えは、チオ硫酸塩、チオ尿素類、メルカプト化
合物類、ローダニン類)を用いる硫黄増感法;還元性物
質(例えば、第一すず塩、アミン類、ヒドラジン誘導体
、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物)を還元
増感法;貴金属化合物(例えば、金錯塩のほかPt、I
r、Pdなどの周期律表■族の金属の錯塩)を用いる貴
金属増感法などを単独または組み合わせて用いることが
できる。
合物(例えは、チオ硫酸塩、チオ尿素類、メルカプト化
合物類、ローダニン類)を用いる硫黄増感法;還元性物
質(例えば、第一すず塩、アミン類、ヒドラジン誘導体
、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物)を還元
増感法;貴金属化合物(例えば、金錯塩のほかPt、I
r、Pdなどの周期律表■族の金属の錯塩)を用いる貴
金属増感法などを単独または組み合わせて用いることが
できる。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえばオ
キサプリンチオンのようなチオケト化合物ニアザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a、7)テ
トラザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベン
ゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼ
ンスルフオン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安
定剤として知られた多くの化合物を加えることができる
。
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえばオ
キサプリンチオンのようなチオケト化合物ニアザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a、7)テ
トラザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベン
ゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼ
ンスルフオン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安
定剤として知られた多くの化合物を加えることができる
。
本発明の写真感光材料の写真乳剤層には感度上昇、コン
トラスト上昇、または現像促進の目的で、たとえばポリ
アルキレンオキシドまたはそのエーテル、エステル、ア
ミンなどの誘導体、チオエーテル化合物、チオモルフォ
リン類、四級アンモニウム塩化合物、ウレタン誘導体、
尿素誘導体、イミダゾール誘導体、やジヒドロキシベン
ゼン類や3−ピラゾリドン類等の現像主薬を含んでも良
い。
トラスト上昇、または現像促進の目的で、たとえばポリ
アルキレンオキシドまたはそのエーテル、エステル、ア
ミンなどの誘導体、チオエーテル化合物、チオモルフォ
リン類、四級アンモニウム塩化合物、ウレタン誘導体、
尿素誘導体、イミダゾール誘導体、やジヒドロキシベン
ゼン類や3−ピラゾリドン類等の現像主薬を含んでも良
い。
なかでもジヒドロキシベンゼン11(ハイドロキノン、
2−メチルハイドロキノン、カテコールなど)や3−ピ
ラゾリドン類(1−フェニル−3−ピラゾリドン、l−
フェニル−4−メチル−4−化ドロキシメチルー3−ピ
ラゾリドンなど)が好ましく、通常5g/n?以下で用
いられる。ジヒドロキシベンゼン類の場合は、0.01
〜1 g/rrrがより好ましく、3−ピラゾリドン類
の場合は、0.01〜0.2g/nrがより好ましい。
2−メチルハイドロキノン、カテコールなど)や3−ピ
ラゾリドン類(1−フェニル−3−ピラゾリドン、l−
フェニル−4−メチル−4−化ドロキシメチルー3−ピ
ラゾリドンなど)が好ましく、通常5g/n?以下で用
いられる。ジヒドロキシベンゼン類の場合は、0.01
〜1 g/rrrがより好ましく、3−ピラゾリドン類
の場合は、0.01〜0.2g/nrがより好ましい。
本発明の写真乳剤及び非感光性の親水性コロイドには無
機または有機の硬膜剤を含有してよい。
機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えば活性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイ
ル−へキサヒドロ−5−)リアジン、ビス(ビニルスル
ホニル)メチルエーテル、N、N−メチレンビス−〔β
−(ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕など)、活
性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ
−3−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸R(ムコクロ
ル酸など)°、N−カルバモイルピリジニウム塩類((
1−モルホリ)カルボニル−3−ピリジニオ)メタンス
ルホナートなど)、ハロアミジニウム塩類(L−(1−
クロロ−1−ピリジノメチレン)ピロリジニウム、2−
ナフタレンスルホナートなど)を単独または組合せて用
いることができる。なかでも、特開昭53−41220
、同53−57257、同59−162546、同60
−80846に記載の活性ビニル化合物および米国特許
3゜325.287号に記載の活性ハロゲン化物が好ま
しい。
ル−へキサヒドロ−5−)リアジン、ビス(ビニルスル
ホニル)メチルエーテル、N、N−メチレンビス−〔β
−(ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕など)、活
性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ
−3−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸R(ムコクロ
ル酸など)°、N−カルバモイルピリジニウム塩類((
1−モルホリ)カルボニル−3−ピリジニオ)メタンス
ルホナートなど)、ハロアミジニウム塩類(L−(1−
クロロ−1−ピリジノメチレン)ピロリジニウム、2−
ナフタレンスルホナートなど)を単独または組合せて用
いることができる。なかでも、特開昭53−41220
、同53−57257、同59−162546、同60
−80846に記載の活性ビニル化合物および米国特許
3゜325.287号に記載の活性ハロゲン化物が好ま
しい。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)専権々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよ例えばサポニン(ステロイド系)、
アルキレンオキサイド誘導体(例えばポリエチレングリ
コール、ポリエチレングリコール/ポリプロピレングリ
コール縮金物、ポリエチレングリコールアルキルエーテ
ル類又はポリエチレングリコールアルキルアリールエー
テル類、ポリエチレングリコールエステル類、ポリエチ
レングリコールアルキルエーテル類、ポリアルキレング
リコールアルキルアミン又はアミド類、シリコーンのポ
リエチレンオキサイド付加物類)、グリシドール誘導体
(例えばアルケニルコハク酸ポリグリセリド、アルキル
フェノールポリグリセリド)、多価アルコールの脂肪酸
エステル類、糖のアルキルエステル類などの非イオン性
界面活性剤;アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォ
ン酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナ
フタレンスルフォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、ア
ルキルリン酸エステル類、N−アシル−N−アルキルタ
ウリン類、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキル
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンアルキルリン酸エステル類などのような
、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基
、リン酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性
剤;アミノ酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノ
アルキル硫酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン
類、アミンオキシド類などの両性界面活性剤;アルキル
アミン塩類、脂肪族あるいは芳香族第4級アンモニウム
塩類、ピリジニウム、イミダゾリウムなどの複素環第4
級アンモニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホス
ホニウム又はスルホニウム塩類などのカチオン界面活性
剤を用いることができる。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)専権々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよ例えばサポニン(ステロイド系)、
アルキレンオキサイド誘導体(例えばポリエチレングリ
コール、ポリエチレングリコール/ポリプロピレングリ
コール縮金物、ポリエチレングリコールアルキルエーテ
ル類又はポリエチレングリコールアルキルアリールエー
テル類、ポリエチレングリコールエステル類、ポリエチ
レングリコールアルキルエーテル類、ポリアルキレング
リコールアルキルアミン又はアミド類、シリコーンのポ
リエチレンオキサイド付加物類)、グリシドール誘導体
(例えばアルケニルコハク酸ポリグリセリド、アルキル
フェノールポリグリセリド)、多価アルコールの脂肪酸
エステル類、糖のアルキルエステル類などの非イオン性
界面活性剤;アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォ
ン酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナ
フタレンスルフォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、ア
ルキルリン酸エステル類、N−アシル−N−アルキルタ
ウリン類、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキル
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンアルキルリン酸エステル類などのような
、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基
、リン酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性
剤;アミノ酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノ
アルキル硫酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン
類、アミンオキシド類などの両性界面活性剤;アルキル
アミン塩類、脂肪族あるいは芳香族第4級アンモニウム
塩類、ピリジニウム、イミダゾリウムなどの複素環第4
級アンモニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホス
ホニウム又はスルホニウム塩類などのカチオン界面活性
剤を用いることができる。
また、帯電防止のためには特開昭60−80849号な
どに記載された含フッ素系界面活性剤を用いることが好
ましい。
どに記載された含フッ素系界面活性剤を用いることが好
ましい。
本発明の写真感光材料には写真乳剤層その他の親水性コ
ロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグネシウム
、ポリメチルメタクリレート等のマット剤を含むことが
できる。
ロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグネシウム
、ポリメチルメタクリレート等のマット剤を含むことが
できる。
本発明で用いられる感光材料には寸度安定性の目的で水
不溶または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことがで
きる。たとえばアルキル(メタ)アクリレート、アルコ
キシアクリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ
)アクリレート、などの単独もしくは組合わせ、または
これらとアクリル酸、メタアクリル酸、などの組合せを
単量体成分とするポリマーを用いることができる。
不溶または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことがで
きる。たとえばアルキル(メタ)アクリレート、アルコ
キシアクリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ
)アクリレート、などの単独もしくは組合わせ、または
これらとアクリル酸、メタアクリル酸、などの組合せを
単量体成分とするポリマーを用いることができる。
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如キセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如キセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石炭処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵
素分解物も用いることができる。
本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層には、アルキル
アクリレートの如きポリマーラテックスを含有せしめる
ことができる。
アクリレートの如きポリマーラテックスを含有せしめる
ことができる。
本発明の感光材料の支持体としてはセルローストリアセ
テート、セルロースジアセテート、ニトロセルロース、
ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート紙、バライ
タ塗覆紙、ポリオレフィン被覆紙などを用いうろことが
できる。
テート、セルロースジアセテート、ニトロセルロース、
ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート紙、バライ
タ塗覆紙、ポリオレフィン被覆紙などを用いうろことが
できる。
本発明の感光材料の写真処理には、公知の方法のいずれ
も用いることができる。処理液には公知のものを用いる
ことができる。処理温度は普通18℃から50℃の間に
選ばれるが、18℃より低い温度または50℃をこえる
温度としてもよい。
も用いることができる。処理液には公知のものを用いる
ことができる。処理温度は普通18℃から50℃の間に
選ばれるが、18℃より低い温度または50℃をこえる
温度としてもよい。
黒白写真処理する場合に用いる現像液は、知られている
現像主薬を含むことができる。現像主薬としては、ジヒ
ドロキシベンゼンM(たとえばハイドロキノン)、3−
ピラゾリドン類(たとえば1−フェニル−3−ピラゾリ
ドン)、アミノフェノールM(たとえばN−メチル−p
−アミノフェノール)、l−フェニル−3−ピラゾリン
類、アスコルビン酸、及び米国特許4,067.872
号に記載の1.2,3.4−テトラヒドロキノリン環と
イントレン環とが縮合したような複素環化合物類などを
、単独もしくは組合せて用いることができる。現像液に
は一般にこの他公知の保恒剤、アルカリ剤、pHl1衝
剤、カプリ防止剤などを含み、さらに必要に応じ溶解助
剤、色調剤、現像促進剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟
化剤、硬膜剤、粘性付与剤などを含んでもよい。
現像主薬を含むことができる。現像主薬としては、ジヒ
ドロキシベンゼンM(たとえばハイドロキノン)、3−
ピラゾリドン類(たとえば1−フェニル−3−ピラゾリ
ドン)、アミノフェノールM(たとえばN−メチル−p
−アミノフェノール)、l−フェニル−3−ピラゾリン
類、アスコルビン酸、及び米国特許4,067.872
号に記載の1.2,3.4−テトラヒドロキノリン環と
イントレン環とが縮合したような複素環化合物類などを
、単独もしくは組合せて用いることができる。現像液に
は一般にこの他公知の保恒剤、アルカリ剤、pHl1衝
剤、カプリ防止剤などを含み、さらに必要に応じ溶解助
剤、色調剤、現像促進剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟
化剤、硬膜剤、粘性付与剤などを含んでもよい。
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。
とができる。
定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸塩のほか、定
着剤としての効果が知られている有機硫黄化合物を用い
ることができる。
着剤としての効果が知られている有機硫黄化合物を用い
ることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩を含んで
もよい。
もよい。
本発明の感光材料は、自動現像機を用いて処理すること
が好ましく、迅速処理などが可能となる。
が好ましく、迅速処理などが可能となる。
このとき現像工程としては、30〜45℃、5〜60秒
、定着工程としては30〜45℃、5〜30秒、水洗工
程としては30〜45℃、5〜30秒の条件で行なうこ
とが好ましい。また、この場合、定着浴としては多価金
属を含む酸性硬膜定着浴を用いることが好ましい。
、定着工程としては30〜45℃、5〜30秒、水洗工
程としては30〜45℃、5〜30秒の条件で行なうこ
とが好ましい。また、この場合、定着浴としては多価金
属を含む酸性硬膜定着浴を用いることが好ましい。
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本
発明がこれらによって限定されるものではない。
発明がこれらによって限定されるものではない。
実施例1゜
〔乳剤の調整〕
沃化カリウムと臭化カリウムの混合水溶液と硝酸銀の水
溶液を、l、 8−ジヒドロキシ−3,6−シチアオ
クタンを含有するゼラチン水溶液に激しく攪拌し、75
℃で15分間1)Agが7.7になるようにコントロー
ルしながら添加し、6モル%の沃化銀を含み、平均粒径
0.28μの単分散立方体沃臭化銀を得た。この沃臭化
銀乳剤をコアとして第一回目と同じ沈殿環境のもとに、
溶液のpAgが7.4になるようにコントロールしなか
らに、1rc16と(NH*)sRhcz、を含有する
臭化カリウム水溶液と硝酸銀の水溶液を添加し、最4%
的にKs[rCj!、と(NH<)+RhCj’sをハ
ロゲン化vA1モルあたりそれぞれ10−7モル含有す
る平均粒径が0.45μの単分散立方体コア/シェル沃
臭化銀乳剤(平均沃化銀含有率1.5モル%)を得た。
溶液を、l、 8−ジヒドロキシ−3,6−シチアオ
クタンを含有するゼラチン水溶液に激しく攪拌し、75
℃で15分間1)Agが7.7になるようにコントロー
ルしながら添加し、6モル%の沃化銀を含み、平均粒径
0.28μの単分散立方体沃臭化銀を得た。この沃臭化
銀乳剤をコアとして第一回目と同じ沈殿環境のもとに、
溶液のpAgが7.4になるようにコントロールしなか
らに、1rc16と(NH*)sRhcz、を含有する
臭化カリウム水溶液と硝酸銀の水溶液を添加し、最4%
的にKs[rCj!、と(NH<)+RhCj’sをハ
ロゲン化vA1モルあたりそれぞれ10−7モル含有す
る平均粒径が0.45μの単分散立方体コア/シェル沃
臭化銀乳剤(平均沃化銀含有率1.5モル%)を得た。
水洗、脱塩後この乳剤に銀1モルあたり、3■量のチオ
硫酸ナトリウムおよび4■量の塩化金酸を加え65℃で
70分加熱し化学増感処理を施し、安定剤として4−ヒ
ドロキシ−6メチルー1.3.3a、7−チトラザイン
デンの1%溶液を30■加えた。
硫酸ナトリウムおよび4■量の塩化金酸を加え65℃で
70分加熱し化学増感処理を施し、安定剤として4−ヒ
ドロキシ−6メチルー1.3.3a、7−チトラザイン
デンの1%溶液を30■加えた。
この乳剤を用いて、これに分光増感色素として3〜エチ
ル−2〔3−エチルーベンゾチアゾリニリデンーメチリ
デン)−5−(3−エチル−4−メチルーチアゾリニリ
デンーエチリデン)−ローダニンヨード塩と、4,4′
−ビス(ジ−ナフトキシ−ピリミジルアミノ))スチル
ベン−2,2′−ジスルホン酸−ジナトリウム塩をハロ
ゲン化銀1モルあたり各々20曙添加し、一般式(1)
の化合物および比較化合物を表1のように添加した。
ル−2〔3−エチルーベンゾチアゾリニリデンーメチリ
デン)−5−(3−エチル−4−メチルーチアゾリニリ
デンーエチリデン)−ローダニンヨード塩と、4,4′
−ビス(ジ−ナフトキシ−ピリミジルアミノ))スチル
ベン−2,2′−ジスルホン酸−ジナトリウム塩をハロ
ゲン化銀1モルあたり各々20曙添加し、一般式(1)
の化合物および比較化合物を表1のように添加した。
さらにカブリ防止剤として1−フェニル−5−メルカプ
トテトラゾールを銀1モルあたり50■、可塑剤として
ポリエチルアクリレートラテックスをゼラチンバインダ
ー比25%、硬膜剤として2−ビス(ビニルスルホニル
アセトアミド)エタンを120g/rrf加え、ポリエ
ステル支持体上に銀4.5g10fになる様に塗布した
。ゼラチンは4.7g/rdであった。
トテトラゾールを銀1モルあたり50■、可塑剤として
ポリエチルアクリレートラテックスをゼラチンバインダ
ー比25%、硬膜剤として2−ビス(ビニルスルホニル
アセトアミド)エタンを120g/rrf加え、ポリエ
ステル支持体上に銀4.5g10fになる様に塗布した
。ゼラチンは4.7g/rdであった。
この上に保護層としてゼラチン1.5 g / rd、
マント剤として粒径3〜4μのポリメチルメタクリレー
ト60■/−、カブリ防止剤として、ハイドロキノン1
50■/d、塗布助剤としてドデシルベンゼンスルフオ
ン酸ナトリウム塩、下記構造式■のフッ素系界面活性剤
を添加した層を同時塗布した。゛ ■ C,Fl?5OtNCHICOOKCs H7 このようにして得られた試料を633nmに発光極大を
持つHe−Neレーザー光でウェッジ露光し、下記組成
の現像液lと定着液としてLF−308(富士写真フィ
ルム株式会社製)を用いて、富士フィルム類、プロセッ
サーFG−360Fで35℃、30秒現像し、定着、水
洗、乾燥して評価した。なお感度、セーフライト安全性
残色の評価は次のようにして求めた。
マント剤として粒径3〜4μのポリメチルメタクリレー
ト60■/−、カブリ防止剤として、ハイドロキノン1
50■/d、塗布助剤としてドデシルベンゼンスルフオ
ン酸ナトリウム塩、下記構造式■のフッ素系界面活性剤
を添加した層を同時塗布した。゛ ■ C,Fl?5OtNCHICOOKCs H7 このようにして得られた試料を633nmに発光極大を
持つHe−Neレーザー光でウェッジ露光し、下記組成
の現像液lと定着液としてLF−308(富士写真フィ
ルム株式会社製)を用いて、富士フィルム類、プロセッ
サーFG−360Fで35℃、30秒現像し、定着、水
洗、乾燥して評価した。なお感度、セーフライト安全性
残色の評価は次のようにして求めた。
1)感度:t!lA度1.5を与える露光量の逆数の相
対値 2)セーフライト安全性:20W電球の緑色セフライト
(富士セーフライトフィルター隘4)下1mの距離にお
いて、3分放置後、現像しカブリ濃度の上昇を測定した
。
対値 2)セーフライト安全性:20W電球の緑色セフライト
(富士セーフライトフィルター隘4)下1mの距離にお
いて、3分放置後、現像しカブリ濃度の上昇を測定した
。
3)残色性:上記の方法で現像処理、定着、水洗、乾燥
したサンプルをつくり、未露光部分の色味を視覚的に評
価した。「5」が最もよく、「1」が最も悪い品質を表
わす。
したサンプルをつくり、未露光部分の色味を視覚的に評
価した。「5」が最もよく、「1」が最も悪い品質を表
わす。
第1表より明らかなように本発明の試料2〜4、は感度
セーフライト安全性、残色いずれも良好な性能を示す。
セーフライト安全性、残色いずれも良好な性能を示す。
〔第1表〕
(比較化合物)
a)
S03K 503K
b)
実施例2゜
螢光増白剤として、2,5−ビス(5′−ターシャリブ
チルベンゾオキザゾリル(2))チオフェン4gをドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム1.0gと共に酢酸
エチルに溶解し、ゼラチン中に分散させたものを上記螢
光増白剤が塗布時に20■/nf含有されるように添加
し、硬膜剤50*/d加え紙支持体上に銀11.9g/
rrrになるように塗布した以外は実施例1と全く同様
にして試料を準備した。実施例1と同じ露光・処理した
結果を第2表に示す、第2表から本発明は紙支持体の場
合でも有効なことが理解される。
チルベンゾオキザゾリル(2))チオフェン4gをドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム1.0gと共に酢酸
エチルに溶解し、ゼラチン中に分散させたものを上記螢
光増白剤が塗布時に20■/nf含有されるように添加
し、硬膜剤50*/d加え紙支持体上に銀11.9g/
rrrになるように塗布した以外は実施例1と全く同様
にして試料を準備した。実施例1と同じ露光・処理した
結果を第2表に示す、第2表から本発明は紙支持体の場
合でも有効なことが理解される。
〔第2表〕
〔現像液処方〕
水 72〇−
エチレンジアミン四酢酸二ナ トリウム塩 4g水酸化ナト
リウム 44g亜硫酸ソーダ
45g炭酸ソーダ
26.4gホウ酸 1.
6g臭化カリウム 1gハイ
ドロキノン 36gジエチレング
リコール 39g5−メチル−ベンゾトリ
ア ゾール 0.2gピラゾン
0.7g水を加えて
11特許出願人 富士写真フィルム株
式会社手続補正書(廻り 五。
エチレンジアミン四酢酸二ナ トリウム塩 4g水酸化ナト
リウム 44g亜硫酸ソーダ
45g炭酸ソーダ
26.4gホウ酸 1.
6g臭化カリウム 1gハイ
ドロキノン 36gジエチレング
リコール 39g5−メチル−ベンゾトリ
ア ゾール 0.2gピラゾン
0.7g水を加えて
11特許出願人 富士写真フィルム株
式会社手続補正書(廻り 五。
昭和63年μ月を日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に下記一般式〔 I 〕で示される化合物を少な
くとも1種含有するハロゲン化銀乳剤層を有し、該ハロ
ゲン化銀乳剤層又は他の親水性コロイド層の少なくとも
1層中に下記一般式〔II〕で示される化合物を含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、ZおよびZ_1は各々5員または6員の含窒素複
素環核を完成するに必要な非金属原子群を表わす。Rお
よびR_1は各々アルキル基、置換アルキル基、または
アリール基を表わす。QおよびQ_1は一緒になって4
−チアゾリジノン、5−チアゾリジノンまたは4−イミ
ダゾリジノン核を完成するに必要な非金属原子群を表わ
す。L、L_1およびL_2は各々メチン基または置換
メチン基を表わす。n_1およびn_2は各々0または
1を表わす。Xはアニオンを表わす。mは0または1を
表わし、分子内塩を形成するときはm=0である。 (II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R_1、R_2は各々アルキル基、アリール基、シ
アノ基、−COOR_5、−CONR_5R_6、−C
OR_7、−SO_2R_7、−SOR_7、−SO_
2NR_5R_6、−OR_5、−NR_5R_6、−
NR_6COR_7、−NR_5CONR_5R_6又
は−NR_6SO_2R_7(ここにR_5、R_6は
は水素原子、アルキル基又はアリール基を表わし、R_
7はアルキル基又はアリール基を表わし、R_5とR_
6又はR_6とR_7は連結して5又は6員環を形成し
ても良い。)を表わし、R_3、R_4は各々水素原子
又はアルキル基を表わす。Q_1、Q_2は各々アリー
ル基を表わし、X_1、X_2は結合もしくは2価の連
結基を表わし、Y_1、Y_2は各々スルホ基又はカル
ボキシル基を表わし、L_1、L_2、L_3は各々メ
チン基を表わす。nは0、1又は2、m_1、m_2は
1又は2、p_1、p_2は0、1、2、3又は4、q
_1、q_2は1、2又は3を表わす。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63016255A JPH0687133B2 (ja) | 1988-01-27 | 1988-01-27 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
US07/938,584 USH1336H (en) | 1988-01-27 | 1992-09-02 | Silver halide photographic material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63016255A JPH0687133B2 (ja) | 1988-01-27 | 1988-01-27 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01191133A true JPH01191133A (ja) | 1989-08-01 |
JPH0687133B2 JPH0687133B2 (ja) | 1994-11-02 |
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ID=11911454
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63016255A Expired - Fee Related JPH0687133B2 (ja) | 1988-01-27 | 1988-01-27 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0687133B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04366943A (ja) * | 1991-06-14 | 1992-12-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
EP0666500A1 (en) * | 1994-02-02 | 1995-08-09 | Agfa-Gevaert N.V. | Photographic material for frequency modulation screening |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50145125A (ja) * | 1974-05-10 | 1975-11-21 | ||
JPS50147712A (ja) * | 1974-05-17 | 1975-11-27 | ||
JPS6193448A (ja) * | 1984-10-12 | 1986-05-12 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1988
- 1988-01-27 JP JP63016255A patent/JPH0687133B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50145125A (ja) * | 1974-05-10 | 1975-11-21 | ||
JPS50147712A (ja) * | 1974-05-17 | 1975-11-27 | ||
JPS6193448A (ja) * | 1984-10-12 | 1986-05-12 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04366943A (ja) * | 1991-06-14 | 1992-12-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
EP0666500A1 (en) * | 1994-02-02 | 1995-08-09 | Agfa-Gevaert N.V. | Photographic material for frequency modulation screening |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0687133B2 (ja) | 1994-11-02 |
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