JPH01188836A - 有機非線形光学膜の作製方法 - Google Patents
有機非線形光学膜の作製方法Info
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- JPH01188836A JPH01188836A JP1259688A JP1259688A JPH01188836A JP H01188836 A JPH01188836 A JP H01188836A JP 1259688 A JP1259688 A JP 1259688A JP 1259688 A JP1259688 A JP 1259688A JP H01188836 A JPH01188836 A JP H01188836A
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- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 229920000015 polydiacetylene Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 19
- XTTIQGSLJBWVIV-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-nitroaniline Chemical compound CC1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1N XTTIQGSLJBWVIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 7
- LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diyne Chemical group C#CC#C LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- MVVPIAAVGAWJNQ-DOFZRALJSA-N Arachidonoyl dopamine Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCC(=O)NCCC1=CC=C(O)C(O)=C1 MVVPIAAVGAWJNQ-DOFZRALJSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- XIFJZJPMHNUGRA-UHFFFAOYSA-N n-methyl-4-nitroaniline Chemical compound CNC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 XIFJZJPMHNUGRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBEGHXKAFSLLGE-UHFFFAOYSA-N n-phenylnitramide Chemical compound [O-][N+](=O)NC1=CC=CC=C1 VBEGHXKAFSLLGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
（概 要〕
Ｌ Ｂ法を利用して有機非線形光学膜を作製する方法に
関し、 大面積で電気光学効果等の特性が良く、且つ、ミクロン
オーダの膜厚の厚い有機非線形光学膜を作製することを
目的とし、 基板上に下地層をＬＢ法により形成し、該下地層」−に
有機非線形光学物質をエピタキシャル成長させるように
構成する。
関し、 大面積で電気光学効果等の特性が良く、且つ、ミクロン
オーダの膜厚の厚い有機非線形光学膜を作製することを
目的とし、 基板上に下地層をＬＢ法により形成し、該下地層」−に
有機非線形光学物質をエピタキシャル成長させるように
構成する。
本発明は、有機非線形光学膜の作製方法に関し、特に、
ＬＢ法を利用して有機非線形光学膜を作製する方法に関
する。
ＬＢ法を利用して有機非線形光学膜を作製する方法に関
する。
従来、有機非線形光学；１りを作製する場合、無機材料
のエピタキシャル成長で使用されるような適当な格子定
数を有する結晶基板が存在しないために、例えば、有Ｊ
ａＭ Ｂ ［ｉ、 （Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｂｅａｍ
ＩＥｐｉｔａｘｙ）法を利用して有機非線形光学物質を
ガラス等の基板」二に大面積に渡ってエピタキシャル成
長さ一已ることが困難であった。そのため、従来、有機
非線形光学膜は、例えば、Ｌ Ｂ法（Ｌａｎｇｍｕｉｒ
−旧ｏｄｌ；ｃｔｔ’５ｔａｃｈｎ １ｑｕｅ）を利用
して作製されている。この従来のＬ［３法を利用した有
機非線形光学膜の作製方法は、例えば、２−メチル−４
−ニトロアニリン（ＭＮＡ）等の有機非線形光学物質を
アセトン等の）容斉りで？容かし、そのＭＮＡ力（）容
かされたアセトン溶液を水の上に広げ、そして、ＭＮＡ
膜を一層づつ基板上に積層して有機非線形光学膜を作製
するものである。
のエピタキシャル成長で使用されるような適当な格子定
数を有する結晶基板が存在しないために、例えば、有Ｊ
ａＭ Ｂ ［ｉ、 （Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｂｅａｍ
ＩＥｐｉｔａｘｙ）法を利用して有機非線形光学物質を
ガラス等の基板」二に大面積に渡ってエピタキシャル成
長さ一已ることが困難であった。そのため、従来、有機
非線形光学膜は、例えば、Ｌ Ｂ法（Ｌａｎｇｍｕｉｒ
−旧ｏｄｌ；ｃｔｔ’５ｔａｃｈｎ １ｑｕｅ）を利用
して作製されている。この従来のＬ［３法を利用した有
機非線形光学膜の作製方法は、例えば、２−メチル−４
−ニトロアニリン（ＭＮＡ）等の有機非線形光学物質を
アセトン等の）容斉りで？容かし、そのＭＮＡ力（）容
かされたアセトン溶液を水の上に広げ、そして、ＭＮＡ
膜を一層づつ基板上に積層して有機非線形光学膜を作製
するものである。
上述したように、従来技術においては、例えば、有機Ｍ
３Ｃ法を利用して有機非線形光学物質をガラス等の４＋
Ｉｉ上に大面積に渡ってエピタキシャル成長させること
が困難であった。
３Ｃ法を利用して有機非線形光学物質をガラス等の４＋
Ｉｉ上に大面積に渡ってエピタキシャル成長させること
が困難であった。
ところで、例えば、有機非線形光学膜を非線形光学素子
に使用するためには、膜厚をミクロンオーダの厚さにす
る必要がある。具体的に、５μｍの有機非線形光学膜を
ＬＢ法により作製する場合、例えば、単分子層が１０人
の有機非線形光学薄膜（ＬＢ膜）を５，０００層だけ積
層しなければならない。しかし、非線形光学特性（例え
ば、電気光学効果）の良い有機非線形光学膜を作製する
には、Ｌ Ｂ膜の積層は数十層程度が限度であり、膜厚
の厚い有機非線形光学膜を作製することが困難であると
いう課題があった。すなわち、数百層のＩ＝ Ｂ膜を積
層して有機非線形光学膜を作製する場合、多くの手間と
時間を要するだけでなく、膜の格子欠陥によって非線形
光学特性が低くなるために、Ｌｉ２法で作製された有機
非線形光学膜を非線形光学素子に利用するには問題があ
った。
に使用するためには、膜厚をミクロンオーダの厚さにす
る必要がある。具体的に、５μｍの有機非線形光学膜を
ＬＢ法により作製する場合、例えば、単分子層が１０人
の有機非線形光学薄膜（ＬＢ膜）を５，０００層だけ積
層しなければならない。しかし、非線形光学特性（例え
ば、電気光学効果）の良い有機非線形光学膜を作製する
には、Ｌ Ｂ膜の積層は数十層程度が限度であり、膜厚
の厚い有機非線形光学膜を作製することが困難であると
いう課題があった。すなわち、数百層のＩ＝ Ｂ膜を積
層して有機非線形光学膜を作製する場合、多くの手間と
時間を要するだけでなく、膜の格子欠陥によって非線形
光学特性が低くなるために、Ｌｉ２法で作製された有機
非線形光学膜を非線形光学素子に利用するには問題があ
った。
本発明は、−上述した従来の有機非線形光学膜の作製方
法が有する問題点に鑑み、大面積で電気光学効果等の特
性が良（、［Ｌつ、ミクロンオーダの膜厚の厚い有機非
線形光学１模を作製することを目的とする。
法が有する問題点に鑑み、大面積で電気光学効果等の特
性が良（、［Ｌつ、ミクロンオーダの膜厚の厚い有機非
線形光学１模を作製することを目的とする。
本発明によれば、基板上に下地層をＬＢ法により形成し
、該下地層上に有機非線形光学物質をエピタキシャル成
長させることを特徴とする有機非線形光学膜の作製方法
が提供される。
、該下地層上に有機非線形光学物質をエピタキシャル成
長させることを特徴とする有機非線形光学膜の作製方法
が提供される。
上述した構成を存する本発明の有機非線形光学膜の作製
方法によれば、ＬＢ法により基板上に下地層が形成され
、その下地層上に有機非線形光学物質がエピタキシャル
成長される。これにより、大面積で電気光学効果等の特
性が良く、且つ、ミクロンオーダの膜厚の厚い有機非線
形光学膜を作製することができる。
方法によれば、ＬＢ法により基板上に下地層が形成され
、その下地層上に有機非線形光学物質がエピタキシャル
成長される。これにより、大面積で電気光学効果等の特
性が良く、且つ、ミクロンオーダの膜厚の厚い有機非線
形光学膜を作製することができる。
以下、図面を参照して本発明に係る有機非線形光学膜の
作製方法について説明する。
作製方法について説明する。
第１図は本発明により作製された有機非線形光学膜を示
す図である。同図に示されるように、本発明により作製
された有機非線形光学１１りは、ガラス等の基板１上に
下地層２が形成され、さらに、下地層２上に有機非線形
光学膜３が形成されている。下地層２は、例えば、２−
メチル−４−ニトロアニリンのポリジアセチレン系物質
（ＭＮＡＤＡ）等の物質で構成され、Ｌ Ｂ法により基
板ｌ上に１〜１０層程度積層して形成されるようになさ
れている。また、有機非線形光学膜３は、例えば、下地
層２を構成しているポリジアセチレン系物質が含む基と
同族の基を有する物質、例えば、２−メチル−４−ニト
ロアニリン（ＭＮＡ）で構成され、例えば、有１ＭＢ１
？、法により下地層２」二にエピタキシャル成長される
。ここで、ＭＮＡは下地層２のＭＮＡＤＡが含む基と同
族の基を有しているので、下地層２上に非線形光学特性
の良好な有機非線形光学膜３を形成することができる。
す図である。同図に示されるように、本発明により作製
された有機非線形光学１１りは、ガラス等の基板１上に
下地層２が形成され、さらに、下地層２上に有機非線形
光学膜３が形成されている。下地層２は、例えば、２−
メチル−４−ニトロアニリンのポリジアセチレン系物質
（ＭＮＡＤＡ）等の物質で構成され、Ｌ Ｂ法により基
板ｌ上に１〜１０層程度積層して形成されるようになさ
れている。また、有機非線形光学膜３は、例えば、下地
層２を構成しているポリジアセチレン系物質が含む基と
同族の基を有する物質、例えば、２−メチル−４−ニト
ロアニリン（ＭＮＡ）で構成され、例えば、有１ＭＢ１
？、法により下地層２」二にエピタキシャル成長される
。ここで、ＭＮＡは下地層２のＭＮＡＤＡが含む基と同
族の基を有しているので、下地層２上に非線形光学特性
の良好な有機非線形光学膜３を形成することができる。
ここで、有機非線形光学膜３を構成する有機非線形光学
物質は、下地層２を構成するポリジアセチレン系物質が
含む基と同族の基を有していなくともよいが、有機非線
形光学膜３を構成する有機非線形光学物質は、下地層２
を構成する物質の格子定数に近似する格子定数を有して
いる必要がある。
物質は、下地層２を構成するポリジアセチレン系物質が
含む基と同族の基を有していなくともよいが、有機非線
形光学膜３を構成する有機非線形光学物質は、下地層２
を構成する物質の格子定数に近似する格子定数を有して
いる必要がある。
ところで、下地層２をＬＢ法で基板ｌ上に形成する場合
、下地層２を構成するポリジアセチレン系物Ｍ（ジアセ
チレン系物質）が有する二色性を利用して、そのポリジ
アセチレン系物質の分子配列が揃っている個所を基板１
上に積層すれば、品質の良い下地層２を基板１上に形成
することができる。
、下地層２を構成するポリジアセチレン系物Ｍ（ジアセ
チレン系物質）が有する二色性を利用して、そのポリジ
アセチレン系物質の分子配列が揃っている個所を基板１
上に積層すれば、品質の良い下地層２を基板１上に形成
することができる。
第２図は本発明において基板上に下地層をＬＢ法で形成
する装置を概略的に示す図である。同図に示されるよう
に、水槽２１内には水２３が入れられている。水槽２１
内の一側には固定バリア２４ａが水面の一端を規定する
ように設けられ、また、水面の他端を規定するように移
動バリア２４ｂが固定バリア２４ａと平行して設けられ
ている。この可動バリア２４ａおよび移動バリア２４ｂ
により規定された水面上には、ＬＢ膜となる溶液（例え
ば、ＭＮＡＤＡ等のジアセチレン系物質をアセトン等の
溶媒で？容力１した？容ン（Ｗ）２２力（広げられるよ
うになされている。水槽２１の下方には、蛍光灯等の光
源２５が設けられていて、溶液２２を下方から照らすよ
うになされている。水面に広げられた溶液２２の上方に
は偏光面が回転可能とされた偏光子２６が設けられ、さ
らに、偏光子２６の上方には光検出器２７が設けられて
いる。そして、水面上に広げられた溶液２２中に基板ｌ
を浸し、その後、静かに上昇させることにより基板１上
に溶？ｐｊ、２２に溶けている物質の膜を積層させるよ
うになされている。
する装置を概略的に示す図である。同図に示されるよう
に、水槽２１内には水２３が入れられている。水槽２１
内の一側には固定バリア２４ａが水面の一端を規定する
ように設けられ、また、水面の他端を規定するように移
動バリア２４ｂが固定バリア２４ａと平行して設けられ
ている。この可動バリア２４ａおよび移動バリア２４ｂ
により規定された水面上には、ＬＢ膜となる溶液（例え
ば、ＭＮＡＤＡ等のジアセチレン系物質をアセトン等の
溶媒で？容力１した？容ン（Ｗ）２２力（広げられるよ
うになされている。水槽２１の下方には、蛍光灯等の光
源２５が設けられていて、溶液２２を下方から照らすよ
うになされている。水面に広げられた溶液２２の上方に
は偏光面が回転可能とされた偏光子２６が設けられ、さ
らに、偏光子２６の上方には光検出器２７が設けられて
いる。そして、水面上に広げられた溶液２２中に基板ｌ
を浸し、その後、静かに上昇させることにより基板１上
に溶？ｐｊ、２２に溶けている物質の膜を積層させるよ
うになされている。
第３図は第２図のＬＢ法による下地層の形成を説明する
ための図であり、第４図は下地層の一例としてのジアセ
チレン系物質の二色性を示す図である。
ための図であり、第４図は下地層の一例としてのジアセ
チレン系物質の二色性を示す図である。
上述の基板ｌ上に下地層２をＬ １３法で形成する装置
は、可動バリア２４ｂの移動により溶液２２が広がって
いる領域を規定することができ、溶’ｔ（１２２におけ
る有機分子の配列を、例えば、第３図（ａ）〜（ｃ）に
示されるように変化させることができる。
は、可動バリア２４ｂの移動により溶液２２が広がって
いる領域を規定することができ、溶’ｔ（１２２におけ
る有機分子の配列を、例えば、第３図（ａ）〜（ｃ）に
示されるように変化させることができる。
ここで、基板１上に形成する下地層２としては、高い非
線形光学特性が期待できる第３図（ａ）のような分子配
列が好ましいのはいうまでもない。
線形光学特性が期待できる第３図（ａ）のような分子配
列が好ましいのはいうまでもない。
ところで、ジアセチレン系物質等の非線形光学物質は二
色性を有しているために、偏光子２６の偏向面を所定の
方向にして、光源２５から溶液２２に照射された光を偏
光子２６を介して光検出器２７で検出することにより、
溶液２２における有機非線形光学物質の分子配列が揃っ
ている個所を選択して基板１上に積層することができる
。すなわち、第４図に示されるように、ジアセチレン系
分子等の非線形光学物質は二色性を有しているため、例
えば、約５６０ｎｍおよび６０５ｎｍの波長の光に対し
て、所定の偏向面を有する光はポリジアセチレン系分子
が溶けている溶液２２゛を殆ど透過しない（第４図中の
曲線Ａを参照）ことになる。そして、水面上に広げられ
た？８ ？（９，２２の中から光検出器２７で検出され
る光強度が低い部分を選択し、その選択された部分の中
に基板１を浸し、その後、基板ｌを静かに上界させるこ
とにより基板１上に分子配列の揃ったＬＢ膜を積層する
ことができる。ここで、第４図中の曲線Ｂは、曲線Ａを
検出したときの偏光子２６を９０°だけ偏向面を回転さ
せた場合の光学膜り度特性を示すものである。
色性を有しているために、偏光子２６の偏向面を所定の
方向にして、光源２５から溶液２２に照射された光を偏
光子２６を介して光検出器２７で検出することにより、
溶液２２における有機非線形光学物質の分子配列が揃っ
ている個所を選択して基板１上に積層することができる
。すなわち、第４図に示されるように、ジアセチレン系
分子等の非線形光学物質は二色性を有しているため、例
えば、約５６０ｎｍおよび６０５ｎｍの波長の光に対し
て、所定の偏向面を有する光はポリジアセチレン系分子
が溶けている溶液２２゛を殆ど透過しない（第４図中の
曲線Ａを参照）ことになる。そして、水面上に広げられ
た？８ ？（９，２２の中から光検出器２７で検出され
る光強度が低い部分を選択し、その選択された部分の中
に基板１を浸し、その後、基板ｌを静かに上界させるこ
とにより基板１上に分子配列の揃ったＬＢ膜を積層する
ことができる。ここで、第４図中の曲線Ｂは、曲線Ａを
検出したときの偏光子２６を９０°だけ偏向面を回転さ
せた場合の光学膜り度特性を示すものである。
このように、下地層２を構成する有機物質が有する二色
性を利用し、その有機物質の分子配列が揃っている溶液
２２の個所を選択して基板ｌ上に積層すれば、格子欠陥
の少ない下地層２を形成することができる。
性を利用し、その有機物質の分子配列が揃っている溶液
２２の個所を選択して基板ｌ上に積層すれば、格子欠陥
の少ない下地層２を形成することができる。
第５図は基板に形成された下地層上にＭＮＡ膜をエピタ
キシャル成長させる様子を示す図である。
キシャル成長させる様子を示す図である。
同図に示されるように、例えば、基板Ｉに形成されたＭ
ＮＡＤＡより成る下地層２上には、ＭＮＡｌｌり３が有
機ＭＢＥ法によりエピタキシャル成長させられるように
なされている。ずなわち、るつぼ５内のＭＮＡ６は、ヒ
ータ線５ａにより加熱され、高真空状態において下地層
２上にＭＮＡ膜°３がエピタキシャル成長される。ここ
で、下地層２は、高い非線形光学特性を有している必要
はなく、また、膜厚も［、Ｂ膜を１〜１０層程度積帰す
れば十分である。すなわち、エピタキシャル成長される
ＭＮＡ膜３が大面積で電気光学効果等の特性が良好であ
り、且つ、ミクロンオーダの膜厚の厚い有機非線形光学
膜であればよい。
ＮＡＤＡより成る下地層２上には、ＭＮＡｌｌり３が有
機ＭＢＥ法によりエピタキシャル成長させられるように
なされている。ずなわち、るつぼ５内のＭＮＡ６は、ヒ
ータ線５ａにより加熱され、高真空状態において下地層
２上にＭＮＡ膜°３がエピタキシャル成長される。ここ
で、下地層２は、高い非線形光学特性を有している必要
はなく、また、膜厚も［、Ｂ膜を１〜１０層程度積帰す
れば十分である。すなわち、エピタキシャル成長される
ＭＮＡ膜３が大面積で電気光学効果等の特性が良好であ
り、且つ、ミクロンオーダの膜厚の厚い有機非線形光学
膜であればよい。
ごごで、下地層２に対するＭ Ｎ Ａ ＩＩＡ ３のエ
ピタ：トシャル成長は、有ＪａＭＢＥ法を利用する以外
に、例えば、蒸着法、ＣＶＤ法、イオンブレーティング
法またはクラスターイオンビーム蒸着法等の気相成長法
を利用することができる。また、下地層２上にエピタキ
シャル成長される有機非線形光学膜３は、ＭＮＡ膜に限
定されるものではなく、種々の有機非線形光学物質を使
用することができる。
ピタ：トシャル成長は、有ＪａＭＢＥ法を利用する以外
に、例えば、蒸着法、ＣＶＤ法、イオンブレーティング
法またはクラスターイオンビーム蒸着法等の気相成長法
を利用することができる。また、下地層２上にエピタキ
シャル成長される有機非線形光学膜３は、ＭＮＡ膜に限
定されるものではなく、種々の有機非線形光学物質を使
用することができる。
上記の下地層２として使用するジアセチレン系物質（ポ
リジアセチレン系物質のモノマー）としては、例えば、
下記の表１に示す物質がある。
リジアセチレン系物質のモノマー）としては、例えば、
下記の表１に示す物質がある。
以下余白
また、上記の有機非線形光学膜３に使用する有機非線形
光学膜質としては、例えば、以下に示ず物ｒｒがある。
光学膜質としては、例えば、以下に示ず物ｒｒがある。
以下余白
（ＭＮＡ） （ＭＮＭＡ） （ＤＡＮ）
（ＭＡＰ） 。
（ＭＡＰ） 。
（ＮＢＡ−ＮＰ） （ＰＯＭ）
（ＰＮＰ）〔メロシアニン） （Ｐ−
ＮＡＩ （ＵＲＥＡ）（ＮＰＰ） しＨｚｕｎ 〔発明の効果］ 以上、詳述したように、本発明に係る有機非線形光学膜
の作製方法は、基板上に下地層をＬＢ法により形成し、
その下地層上に有機非線形光学物質をエピタキシャル成
長させるごとによって、大面積で電気光学効果等の特性
が良く、且つ、ミクロンオーダの膜厚の厚い有機非線形
光学膜を作製することができる。
（ＰＮＰ）〔メロシアニン） （Ｐ−
ＮＡＩ （ＵＲＥＡ）（ＮＰＰ） しＨｚｕｎ 〔発明の効果］ 以上、詳述したように、本発明に係る有機非線形光学膜
の作製方法は、基板上に下地層をＬＢ法により形成し、
その下地層上に有機非線形光学物質をエピタキシャル成
長させるごとによって、大面積で電気光学効果等の特性
が良く、且つ、ミクロンオーダの膜厚の厚い有機非線形
光学膜を作製することができる。
第１図は本発明により作製された有機非線形光学膜を示
す図、 第２図は本発明において基板上に下地層をＬＢ法で形成
する装置を概略的に示す図、 第３図は第２図のＬＢ法による下地層の形成を説明する
ための図、 第４図は下地層の一例としてのジアセチレン系分子の二
色性を示す歯、 第５図は基板に形成された下地層上にＭＮＡ［をエピタ
キシャル成長させる様子を示す図である。 （符号の説明） ゝ° １・・・基板、 ２・・・下地層、 ３・・・有機非線形光学膜、 ５・・・るつぼ、 ５ａ・・・ヒータ線、 ６・・・ＭＮＡ。
す図、 第２図は本発明において基板上に下地層をＬＢ法で形成
する装置を概略的に示す図、 第３図は第２図のＬＢ法による下地層の形成を説明する
ための図、 第４図は下地層の一例としてのジアセチレン系分子の二
色性を示す歯、 第５図は基板に形成された下地層上にＭＮＡ［をエピタ
キシャル成長させる様子を示す図である。 （符号の説明） ゝ° １・・・基板、 ２・・・下地層、 ３・・・有機非線形光学膜、 ５・・・るつぼ、 ５ａ・・・ヒータ線、 ６・・・ＭＮＡ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板上に下地層をＬＢ法により形成し、該下地層上
に有機非線形光学物質をエピタキシャル成長させること
を特徴とする有機非線形光学膜の作製方法。 ２、前記下地層はポリジアセチレン系物質で構成され、
該下地層上にエピタキシャル成長される有機非線形光学
物質は、該ポリジアセチレン系物質が含む基と同族の基
を有している特許請求の範囲第１項に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63012596A JP2728091B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 有機非線形光学膜の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63012596A JP2728091B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 有機非線形光学膜の作製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01188836A true JPH01188836A (ja) | 1989-07-28 |
| JP2728091B2 JP2728091B2 (ja) | 1998-03-18 |
Family
ID=11809730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63012596A Expired - Lifetime JP2728091B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 有機非線形光学膜の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2728091B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0398026A (ja) * | 1989-09-11 | 1991-04-23 | Rikagaku Kenkyusho | 有機非線形光学材料 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62160427A (ja) * | 1986-01-09 | 1987-07-16 | Toray Ind Inc | 有機非線形光学材料およびその製造方法 |
-
1988
- 1988-01-25 JP JP63012596A patent/JP2728091B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62160427A (ja) * | 1986-01-09 | 1987-07-16 | Toray Ind Inc | 有機非線形光学材料およびその製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0398026A (ja) * | 1989-09-11 | 1991-04-23 | Rikagaku Kenkyusho | 有機非線形光学材料 |
| JPH0670697B2 (ja) * | 1989-09-11 | 1994-09-07 | 理化学研究所 | 有機非線形光学材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2728091B2 (ja) | 1998-03-18 |
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