JPH01185498A - Ｘ線ガイドチューブ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、螢光Ｘ線分析計等Ｘ線照射装置において、Ｘ
線源からＸ線照射位置までＸ線をガイドするためのＸ線
ガイドチューブに関する。

〔従来の技術〕

従来のＸ線照射装置においては、例えば第３図に示すよ
うに、Ｘ線源３０のＸ線出口３１の前方に、ピンホール
３２．３３をそれぞれ開設してなる板体３４゜３５を適
宜の間隔をおいて設け、Ｘ線ａ３０から発せられるＸ線
３６を絞り込むようにしていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、上記従来技術の構成によれば、Ｘ線３６
を積極的に収束させるというよりも、発散し易い＞１３
６をできるだけ発散しないようにするといった程度の作
用しかなく、従って、このような手段では、Ｘ線被照射
体の被照射位置においてはＸ線のビーム径を清々１■程 ることができず、直径が１ｍより小さい例えば数１０ｘ
乃至数１００μといった極めて微小なＸ線ビームを形成
することができず、Ｘ線被照射体における微小領域を確
実に照射することが困難であり、又、Ｘ線の収束度がよ
くないため、Ｘ線被照射領域におけるＸ線のパワ、−１
も十分ではなかった。

本発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その
目的とするところは、ビーム径が極めて細くしかもＸ線
被照射領域において十分大きなパワーをもってＸ線を収
束させることができるＸ線ガイドチューブを提供するこ
とにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上述の目的を達成するため、本発明に係るＸ線ガイドチ
ューブは、チューブ本体の内面を回転楕円体面に形成し
、この回転楕円体の一方の焦点にＸ線源を設け、他方の
焦点にＸ線被照射体を設けると共に、前記Ｘ線源の近傍
に、このＸ線源からのＸ線が前記Ｘ線被照射体に直接到
達するのを防止する遮光体を設けである。

〔作用〕

上記構成によれば、内面を回転楕円体面に形成してなる
チューブ本体の前記回転楕円体の一方の焦点に配置しで
あるＸ線源からのＸ線のうち、前記内面によって全反射
されたＸ線のみが、前記回転楕円体の他方の焦点に配置
しであるＸ線被照射体に収束して到達するので、上記目
的は完全に達成される。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を、図面を参照しながら説明する
。

第１図は本発明の一実施例を示し、１は例えばガラス又
は鉛等よりなるＸ線ガイドチューブで、そのチューブ本
体ＩＡの内面１ａは楕円Ｐをその長軸Ｑを中心にして回
転させた回転楕円体面に形成されてあって、Ｆｌ、Ｆ、
は回転楕円体の焦点である。

２は一方の焦点Ｆ１に設置されるＸ線管又はＸ線ターゲ
ット等のＸ線源で、より厳密にはＸ線の発射口を焦点Ｆ
、に位置させである。３はＸｉ源２より所定の距離だけ
隔てて設けられたＸ線被照射体で、図外のホルダ機構に
よって所定の姿勢で保持されており、そのＸ線被照射領
域３Ａが他方の焦点Ｆ、に位置するようにしである。

そして、本実施例に示すＸ線ガイドチューブ１は、その
縦断面形状が完全な楕円ではなく、長軸Ｑの両端側は開
放されており、Ｘ線被照射体３側の空間を介して図外の
モニターによってＸ線被照射領域３Ａを観察できるよう
にしである。

４はＸ線源２とＸ線被照射体３との間であって、Ｘ線源
２により近接して設けられた鉛等よりなる遮光体で、Ｘ
線源２から発せられたＸ線がＸ線被照射体３にダイレク
トに到達しないようにするものである。つまり、この遮
光体４はＸ線源２　（焦点Ｆ１）と、Ｘ線ガイドチュー
ブ１のＸ線被照射体３側の端部Ｒ，Ｓとをそれぞれ結ぶ
線Ａ、　Ｂで形成される領域（以下、直線光領域という
）のＸ線がＸ線被照射体３にダイレクトに到達しないよ
うにし、Ｘ線源２から発せられたＸ線のうちＸ線ガイド
チューブ１の内面１ａによって全反射されたもののみが
Ｘ線被照射体３のＸ線被照射領域３Ａに収束して到達す
るようにするものである。そして、遮光体４の大きさは
上記直線光領域のＸ線がＸ線被照射体３にダイレクトに
到達しないような大きさに設定される。

而して、上記構成のＸｆｉガイドチューブ１において、
内面１ａを回転楕円体面に形成してなるチューブ本体Ｉ
Ａの回転楕円体の一方の焦点Ｆ１に配置しであるＸ線源
２からのＸ線のうち、直線光領域を進むＸ線は遮光体４
によって遮られ、前記直線光領域以外の領域を進むＸ線
が前記内面１ａによって全反射され、この反射されたＸ
線のみが、前記回転楕円体の他方の焦点Ｆ２に配置しで
あるｘ′４ＩＡ被照射体３のＸ線被照射領域３Ａに収束
して到達するので、Ｘ線被照射領域３Ａに対して大きな
パワーを有するＸ線ビームを集中して照射することがで
きる。

そして、Ｘ線被照射領域３ＡにおけるＸ線ビームの径は
Ｘ線源１２における発射時におけるＸ線ビームの径に略
等しく、従って、Ｘ線源２の発射口の径を小さくするこ
とにより極めて微小なビーム径にすることができるが、
通常、Ｘ線源２の発射口の径は０．１ｍ〜１龍程度であ
るので、Ｘ線被照射領域３ＡにおけるＸｖＡビームの径
も数１００ｆ＠程度となる。

第２図は本発明の他の実施例を示すもので、Ｘ線源２を
Ｘ線被照射体３・から遠ざかるように、−方の焦点Ｆ、
から後退した位置に設け、Ｘ線源２と焦点Ｆ１との間に
、内面の縦断面形状が先細りのテーパに形成された例え
ばパイレックスガラス又は鉛ガラス等よりなるチューブ
体５を設け、Ｘ線ｆ１２から発せられたＸ線を十分に絞
り込み、この絞り込んだＸ線をＸ線被照射体３側に向け
て発するようにしたもので、このように構成した場合、
Ｘ線被照射領域３ＡにおけるＸ線ビームの径を数ｐ〜数
１０．ｗにすることができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明に係るＸ線ガイドチューブ
は、チューブ本体の内面を回転楕円体面に形成し、この
回転楕円体の一方の焦点にＸ線源を設け、他方の焦点に
Ｘ線被照射体を設けると共に、前記Ｘ線源の近傍に、こ
のＸ線源からのＸ線が前記Ｘ線被照射体に直接到達する
のを防止する遮光体を設けであるので、ビーム径が極め
て細くしかもＸ線被照射領域において十分大きなパワー
をもつＸ線を得ることができる。従って、Ｘ線被照射体
の極めて微細な部分に対してもＸ線照射することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一例を示す断面図、第２図は本発明の
他の実施例を示す断面図である。 第３図は従来技術を示す説明図である。 １・・・Ｘ線ガイドチューブ、ＩＡ・・・チューブ本体
、１ａ・・・内面、２・・・Ｘ線源、４・・・遮光体、
Ｆ＋、Ｆｘ・・・焦点。 出　願　人　　　株式会社　堀場製作所代　理　人　　
　弁理士　　藤本英夫

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. Ｘ線源から出力されたＸ線をガイドするＸ線ガィドチュ
   ーブにおいて、そのチューブ本体の内面を回転楕円体面
   に形成し、この回転楕円体の一方の焦点にＸ線源を設け
   、他方の焦点にＸ線被照射体を設けると共に、前記Ｘ線
   源の近傍に、このＸ線源からのＸ線が前記Ｘ線被照射体
   に直接到達するのを防止する遮光体を設けたことを特徴
   とするＸ線ガイドチューブ。