JPH01173746A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- JPH01173746A JPH01173746A JP62333438A JP33343887A JPH01173746A JP H01173746 A JPH01173746 A JP H01173746A JP 62333438 A JP62333438 A JP 62333438A JP 33343887 A JP33343887 A JP 33343887A JP H01173746 A JPH01173746 A JP H01173746A
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
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- H01L2924/01079—Gold [Au]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は半導体装置の製造方法に関し、特に内部電極
と外部リードと(!−金属細線を用いて接続する工程に
おける製造装置上の改良に関するものである。
と外部リードと(!−金属細線を用いて接続する工程に
おける製造装置上の改良に関するものである。
第2図は従来の上記工程における半導体装置の製造方法
と示す平面図であり、半導体チップ・6)を搭載した金
属フレーム21の外部リードi31、及びダイパラFと
フレーム枠の接続リード41を、フレーム押jll+で
押し付は金属フレーム12)を固定する。第3図は上記
製造方法の餠面図であり、外部リード131、及びダイ
パラFとフレーム枠の接続リード(41を、ヒートブロ
ック(61とフレーム押えII+にてはさみ込み、固定
する。
と示す平面図であり、半導体チップ・6)を搭載した金
属フレーム21の外部リードi31、及びダイパラFと
フレーム枠の接続リード41を、フレーム押jll+で
押し付は金属フレーム12)を固定する。第3図は上記
製造方法の餠面図であり、外部リード131、及びダイ
パラFとフレーム枠の接続リード(41を、ヒートブロ
ック(61とフレーム押えII+にてはさみ込み、固定
する。
次に従来の製造方法について説明する。半導体チップ6
1の内部電極と外部リード(31とゲ金寓細蝋を用いて
接続する工程では、接続方法として熱圧着あるいは鞠音
波併用熱圧着方式?用いるが、金属細線を接続する祿、
被接続面(ボンディング面)が台座のヒートブロック(
6)より浮いた状態であると、圧接する荷重や超音波振
動が十分伝わらず、あるいは、ボンディング面の温度が
1分でないために接合に十分な合金形成が得られず、接
合部が剥れるという間苗点があった。また金ボールボン
デインングにおいては外部リード(3)のポンディング
面の高さが上下にばらつくことにより金ボール底生時、
電気トーチと金線との距離が不安定となり、スパーク不
発、すなわち金ボールの不生成が発生するという間顧が
あった。従って従来の製造装置では、フレームリードを
ヒートブロック161 トフレーム押えIllではさみ
、固定してhた。
1の内部電極と外部リード(31とゲ金寓細蝋を用いて
接続する工程では、接続方法として熱圧着あるいは鞠音
波併用熱圧着方式?用いるが、金属細線を接続する祿、
被接続面(ボンディング面)が台座のヒートブロック(
6)より浮いた状態であると、圧接する荷重や超音波振
動が十分伝わらず、あるいは、ボンディング面の温度が
1分でないために接合に十分な合金形成が得られず、接
合部が剥れるという間苗点があった。また金ボールボン
デインングにおいては外部リード(3)のポンディング
面の高さが上下にばらつくことにより金ボール底生時、
電気トーチと金線との距離が不安定となり、スパーク不
発、すなわち金ボールの不生成が発生するという間顧が
あった。従って従来の製造装置では、フレームリードを
ヒートブロック161 トフレーム押えIllではさみ
、固定してhた。
1次、ヒートブロック(6)とフレーム押えIllの材
質は、一般VC硬い材料、例えば5u13420を使用
していた。
質は、一般VC硬い材料、例えば5u13420を使用
していた。
従来の製造方法のフレーム押えとヒートブロックに、一
般r(Sueなどの硬い材料であるため、フレーム押え
とヒートブロックの相対位置が平行でない場合、7レー
ム押えとヒートブロックでフレームリードをはさんだ際
、フレームリートトフレーム押え、あるいはヒートブロ
ックとの間に間隙が生じ、フレームリードがヒートブロ
ックから浮いた状態となり、ポンディング不良、すなわ
ち、上記の接合部の剥れや金ポールの不生成という開路
があった。
般r(Sueなどの硬い材料であるため、フレーム押え
とヒートブロックの相対位置が平行でない場合、7レー
ム押えとヒートブロックでフレームリードをはさんだ際
、フレームリートトフレーム押え、あるいはヒートブロ
ックとの間に間隙が生じ、フレームリードがヒートブロ
ックから浮いた状態となり、ポンディング不良、すなわ
ち、上記の接合部の剥れや金ポールの不生成という開路
があった。
この発明は、上記の問題点を解消するためになされたも
ので、金w444B線と表面電極あるいは外部リードと
の接続に際して、この接続器での接続不良を防止すると
ともに、金ポールボンディングの場合、會ボールの不生
成を防止すること?目的とする。
ので、金w444B線と表面電極あるいは外部リードと
の接続に際して、この接続器での接続不良を防止すると
ともに、金ポールボンディングの場合、會ボールの不生
成を防止すること?目的とする。
この発明にかかわる製造方法は、フレーム押えのフレー
ムリード押え部分を、硬度の小さい材料とすることによ
り、フレームリードのヒートブロック上での浮きを無く
したものである。
ムリード押え部分を、硬度の小さい材料とすることによ
り、フレームリードのヒートブロック上での浮きを無く
したものである。
この発明では、半導体チップの表面電極あるいけ外部リ
ードと金属細線とを接続する際、フレームリードをヒー
トブロックに密着させているので、フレームリードの浮
きにより発生するボンデイング不良が防止できる。
ードと金属細線とを接続する際、フレームリードをヒー
トブロックに密着させているので、フレームリードの浮
きにより発生するボンデイング不良が防止できる。
41図は、この発明による半導体装置の製造方法の一実
施F!AIを示す断面図であり、硬度の小さい材料を用
いたフレーム押えIllで、外部り一部31をヒートブ
ロック1B)に押え付け、外部り一ト−31がヒートブ
ロック16)に密着している状態である。ここで硬度の
小さい材料とけ、耐熱性を考えて、例えばポリイミド樹
脂やシリコン樹脂を使用する。
施F!AIを示す断面図であり、硬度の小さい材料を用
いたフレーム押えIllで、外部り一部31をヒートブ
ロック1B)に押え付け、外部り一ト−31がヒートブ
ロック16)に密着している状態である。ここで硬度の
小さい材料とけ、耐熱性を考えて、例えばポリイミド樹
脂やシリコン樹脂を使用する。
上記のような半導体装置の製造方法によれば金属フレー
ム12)とヒートブロック+61とを密着させているの
で、金属細線を半導体チップ15)の表面電極あるいは
外部リード13+に接続する際、圧接する荷重や超音波
振動が十分に伝わり、また ・ボンディング面の温度が
十分昇温しているため、接合に十分な合金形成が安定し
て得られ、接合部が剥れる現象が防止できる。また、金
ポールボンディングにおいては、外部リード13)のボ
ンディング面の高さが上下にばらつかないので舎ボール
生成時、電気トーチと金線との距離が安定して、スパー
ク不発、すなわち金ボール不生成の発生を防止できる。
ム12)とヒートブロック+61とを密着させているの
で、金属細線を半導体チップ15)の表面電極あるいは
外部リード13+に接続する際、圧接する荷重や超音波
振動が十分に伝わり、また ・ボンディング面の温度が
十分昇温しているため、接合に十分な合金形成が安定し
て得られ、接合部が剥れる現象が防止できる。また、金
ポールボンディングにおいては、外部リード13)のボ
ンディング面の高さが上下にばらつかないので舎ボール
生成時、電気トーチと金線との距離が安定して、スパー
ク不発、すなわち金ボール不生成の発生を防止できる。
この発明は1以上の説明のようにフレームリードとヒー
トブロックとを密着させたので、ボンディング面に対す
る圧接の荷重や超音波振動、及びボンディング面の温度
などポンディング条件のばらつきがなく、金属細線とポ
ンディング而との接合部での剥れケ防止する効果がある
。また、フレームリードのボンディング面の高さのばら
つきが無いため金ボールポンディングにおいては、電気
トーチと金線の距離が安定し、安定した金ポール生成が
できる効果がある。
トブロックとを密着させたので、ボンディング面に対す
る圧接の荷重や超音波振動、及びボンディング面の温度
などポンディング条件のばらつきがなく、金属細線とポ
ンディング而との接合部での剥れケ防止する効果がある
。また、フレームリードのボンディング面の高さのばら
つきが無いため金ボールポンディングにおいては、電気
トーチと金線の距離が安定し、安定した金ポール生成が
できる効果がある。
第1図はこの発明による半導体装置の製造方法の一実施
例を示す断面図、a42図はこの発明、及び従来の製造
方法を示す平面図、第8図は従来の半導体装置の製造方
法ケ示す断面図である。 図において、111iフレーム押え、(21け金属フレ
ーム、+31H外部リード、141iダイパツドとフレ
ーム枠の接研リード、・6)は半導体チップ、(61は
ヒートブロックである。 なお、図中、同一符号は、同−又は相当部分を示す。
例を示す断面図、a42図はこの発明、及び従来の製造
方法を示す平面図、第8図は従来の半導体装置の製造方
法ケ示す断面図である。 図において、111iフレーム押え、(21け金属フレ
ーム、+31H外部リード、141iダイパツドとフレ
ーム枠の接研リード、・6)は半導体チップ、(61は
ヒートブロックである。 なお、図中、同一符号は、同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 金属フレーム上に搭載された半導体チップの表面電極
と、外部リードとを金属細線を用いて接続する工程にお
いて、フレームリードを固定する治具、(以下、フレー
ム押えという)の上記フレームリードとの接触面を、硬
度の小さい材料とすることにより、上記フレームリード
とその台座となるヒートブロック、及び上記フレーム押
えとの密着性を高めたことを特徴とする半導体装置の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62333438A JPH01173746A (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62333438A JPH01173746A (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01173746A true JPH01173746A (ja) | 1989-07-10 |
Family
ID=18266106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62333438A Pending JPH01173746A (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01173746A (ja) |
-
1987
- 1987-12-28 JP JP62333438A patent/JPH01173746A/ja active Pending
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