JP3146634B2 - 半導体装置のワイヤボンディング装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置のワイヤボンディング装置及び半導体装置の製造方法

Info

Publication number
JP3146634B2
JP3146634B2 JP15009492A JP15009492A JP3146634B2 JP 3146634 B2 JP3146634 B2 JP 3146634B2 JP 15009492 A JP15009492 A JP 15009492A JP 15009492 A JP15009492 A JP 15009492A JP 3146634 B2 JP3146634 B2 JP 3146634B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
die pad
lead
wire bonding
heat
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP15009492A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05326609A (ja
Inventor
寛隆 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP15009492A priority Critical patent/JP3146634B2/ja
Publication of JPH05326609A publication Critical patent/JPH05326609A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3146634B2 publication Critical patent/JP3146634B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置のワイヤボ
ンディング装置及びそれを用いたワイヤボンディング
程を有する半導体装置の製造方法に関し、特に半導体素
子電極とリードとの接合強度の安定性を高めるように改
良されたワイヤボンディング装置及び半導体装置の製造
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造における後の工程にお
いて、半導体素子(チップ)上に形成された接続電極と
それら電極に対応する個々の引き出し用端子(リード)
との電気的接続が、従来からパッケージアセンブリの段
階でチップに対してワイヤボンディング法により施され
ている。ワイヤボンディング法は、極細線のAuワイヤ
等のワイヤでAl電極等のチップ電極とリードとの間を
接続するために、例えば熱エネルギー(200〜300
°Cの温度雰囲気)と超音波エネルギーとを利用して極
細線のAuワイヤ先端のAuボールとAl電極とを融合
させてAu−Al合金を形成し、Al電極とAuワイヤ
とを接続する方法である。熱と超音波を利用してワイヤ
の接合を行う超音波ボンディング装置は、ボンディング
時に熱と超音波振動を与えるように構成されている。
【0003】熱エネルギーと超音波エネルギーとを利用
してワイヤボンディングを行う従来の装置は、典型的に
は図11に示されているような装置である。図11に示
す装置は、多数のリード部を備えたリードフレームを使
用するパッケージングにワイヤボンディングを施すもの
で、次のような構成になっている。図中、50はヒート
アダプタ、52はウインドクランパーを夫々示す。ヒー
トアダプタ50は、ワイヤボンディング時、ヒートブロ
ック.(図示せず)とリードフレーム54の間に装着す
る治具であり、ウインドクランパー52は、そのリード
フレーム54を上から押さえてヒートアダプタ50に押
し付けるための治具である。
【0004】使用リードフレームは、そのリード部56
先端近傍(インナーリード先端近傍)がウインドクラン
パー52でクランプされており、一方ダイパット吊り部
58(吊りリード)がリード部面56よりやや下方に屈
曲してリードフレームダイパット部60と連接してい
る。ICチップ62は、ダイパット部60上に例えばA
gペースト64を介して搭載されている。ヒートアダプ
タ50は、図示のように下方に1段下がって配置されて
いるチップ部及びダイパット部を収容するために、それ
らに対応する個所が一段掘り下げられた形状に放電加工
により堀り込んで加工されている。更には、ワイヤボン
ディング時にそのチップ部及びダイパット部60をヒー
トアダプタ側へ引張って保持するように、ヒートアダプ
タ50にはダイパット部60を真空吸引するための真空
室65が設けてあり、真空室65にはヒートアダプタ5
0を貫通した真空吸引穴66が連通している。真空室6
5は、その縁部がダイパット部60に当接して真空を保
持するように形成されている。
【0005】ワイヤボンディング工程は、チップ、リー
ドフレーム及び各治具を図11に図示のような位置にセ
ットし、Auワイヤ68をボンディングワイヤとして用
いてチップ62とリードフレームリード部56との接続
を行う。ワイヤボンディング方法は、チップ部上に所定
電極ピッチで設けられた電極、例えばアルミニウム製の
Al電極と極細線のAuワイヤ先端のAuボールにヒー
トアダプタ50を介し熱を加えながら、振動を与えつつ
圧着することによりAl電極とAuワイヤとを接合す
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の従来装
置は、ヒートアダプタ50とダイパット部60との間か
ら空気が漏れ、その漏れた空気が真空室65に流入して
温度を低下させ、かつヒートアダプタ50とダイパット
部60との間から超音波振動エネルギーが放散すると言
う問題を有していた。そのため、熱エネルギーと超音波
パワーの不足を来たし、Au−Al接合強度が低下し
た。また、ダイパット部60の不安定な保持のためチッ
プ部が共振し、更にAu−Al接合の不安定化を招い
た。更には、チップあおりによるベースボンドレベルの
ばらつきなども生じた。これらは、いずれも、効率的で
かつ安定性、信頼性の高いワイヤボンディングを行う上
での解決すべき問題であった。
【0007】半導体装置の高性能化、薄型化等の要求に
つれ、特にパッケージ本体外四方へ引き出される板状の
リード部を多数有したリードフレームを使用して組み立
てられるIC、例えばQFP120pin 以上のタイプの
ような半導体装置等にみられる多ピン化傾向などに伴
い、素子組立品の封止に先立って行われるチップとリー
ドフレームとの電気的接続が、より効率的で安定性、信
頼性の高いものとなるように、その方法及び装置を改良
することの必要性は大きく、また強く要望されている。
【0008】本発明は、以上の状況に鑑み、ヒートアダ
プタを用いてワイヤボンディングするに当たり、電極と
ボンディングワイヤとの接合における接合強度の安定性
を向上させるように改良された半導体装置のワイヤボン
ディング装置及びそれを用いたワイヤボンディング工程
を有する半導体装置の製造方法を提供することを目的と
するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者は、研究の末、
上記従来の装置では、ダイパット部60を注意してヒー
トアダプタ50上に配置してもダイパット部60がどう
しても片浮き状で配置されることを見い出した。それ
は、従来の装置ではチップ部、従ってリードフレームダ
イパット部60を下方に下げて配置するために、ヒート
アダプタ50を掘り下げ、かつ真空吸引のための真空室
65をダイパット部60とほぼ線接触状に接触する壁を
設けることにより形成し、しかも、それを放電加工を用
いて形成しているため、そのダイパット部60に対する
保持面(即ち線接触状に接触している放電加工面)がフ
ラットになり難く、その結果、それらの密着性に欠け、
以上に挙げた種々の問題が引き起こされたことに着目し
た。
【0010】この知見に基づいて、上記目的を達成する
ために、本発明に係る半導体装置のワイヤボンディング
装置は、 半導体装置のワイヤボンディング装置におい
て、ヒートアダプタのダイパット載置部とインナーリー
ド載置部とを同一平面になるように構成し、前記ヒート
アダプタのダイパット載置部にダイパット吸着用の真空
吸引穴を設け、前記ヒートアダプタの少なくともダイパ
ット端部の吊りリードが当接する部分に凹部を設けたこ
とを特徴としている。以上の構成により、リードフレー
ムとヒートアダプタとの密着性が向上する。好適には、
ダイパット載置部を平坦な平滑面に形成すれば、更にリ
ードフレームとヒートアダプタとの密着性が良くなる。
また、ダイパット端部の吊りリードが当接する部分に加
えて、ダイバット周辺に凹部を設けることにより、更に
一層密着性を確実にできる。
【0011】本発明に係る半導体装置の製造方法は、半
導体装置のワイヤボンディング工程において、半導体素
子が搭載されたリードフレームのダイパットをヒートア
ダプタのダイパット載置部に吸着し、ヒートアダプタの
インナーリード載置部にダイパット吊りリードとインナ
ーリードの先端近傍をクランプすることで、リードフレ
ームのダイパットとインナーリードをヒートアダプタ上
に同一平面で保持し、ワイヤボンディングするワイヤボ
ンディング工程を有することを特徴としている。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。図1は、本発明の好適な第1の実施例の半導体装置
のワイヤボンディング装置10を示す。また、図2は、
本装置10の構成部品であるヒートアダプタの一例を示
す平面図であり、図4はウインドクランパーの一例を示
す平面図であり、更に図3は本実施例によりワイヤボン
ディングを施したた4点吊り形式のリードフレームの一
例を示す。図1に示すワイヤボンディング装置10は、
ヒートアダプタ12とウインドクランパー14とを備え
る。ヒートアダプタ12は、ワイヤボンディング時、ヒ
ートブロック(図示せず)とリードフレーム16の間に
装着される治具であって、ヒートアダプタ12上に図3
に示すようなリードフレーム16が半導体素子(ICチ
ップ)18とともに載置される。
【0013】本実施例では、図11に示した従来装置と
は異なり、ヒートアダプタ12において、リードフレー
ムダイパット部20(図2)を載置するダイパット載置
部22とリードフレームリード部(インナーリード)2
4(図2)を載置するインナーリード載置部26とが同
一平面となるように構成されている。本実施例では、ダ
イパット載置部22は、表面が平坦な平板状の金属板材
によりインナーリード載置部26と同一平面のフラット
な面に形成されており、更にヒートアダプタ12上でダ
イパット載置部22とインナーリード載置部26との間
には、図2及び一部を拡大した図6に示すようなほぼ四
角形状の環状の凹部28がダイバット部裏のメッキもれ
で部分的に浮くのを防ぐため設けられている。
【0014】また、この環状の凹部28のの四隅部分に
は、リードフレーム16を載置する際、その4点吊りの
ダイパット端部の吊りリード30(図1,図2)が邪魔
にならないようにするために、四隅から外方へ更に一部
延びるような溝29が設けられている。このような凹部
28は、上記の四隅から外方に延びる溝29も含めて、
該当する部分を放電加工等により刻設されている。ダイ
パット載置部22には、その面にダイパット部20を真
空吸着で密着させるためダイパット吸着用の真空吸引穴
32が設けられている。真空吸着でダイパット部20を
ダイパット載置部22を密着させた場合に図1の如くに
吊りリード30がダイパット載置部面より下方に変形し
ても、上述の溝29の空間により、ダイパット部20と
ダイパット載置部22面との密着は妨げられない。
【0015】一方、ウインドクランパー14は、リード
フレーム16を上から押さえて上記ヒートアダプタ12
に押し付けるための治具として用いられる。使用リード
フレーム16は、インナーリード24が図3に示すよう
に全周囲に延出しており、それらインナーリード先端近
傍が図1に示す如くにウインドクランパー14でインナ
ーリード載置部26面にクランプされる。図4に示すよ
うに、ウインドクランパー14は、図2のリードフレー
ム16の形態に整合する開口部34を有し、リードフレ
ーム16のインナーリード24に対応する開口部34の
下端には、図5(a)のようにクランプ端36を備えて
いる。図5(a)は、図4のA−A線の断面形状を示し
ている。一方、本実施例のようにダイパットの4点の吊
りリード30をクランプしない場合には、吊りリード3
0に対する開口部34の下端には、B−B線の断面形状
を示す図5(b)のようにクランプ端は設けられていな
い。従って、開口部34の下端に設けられたクランプ端
36は、連続していないで、吊りリード30に対応する
部分が欠如している。
【0016】なお、ICチップ18はリードフレーム1
6のダイパット部20上にAgペースト38を介して搭
載し、ボンディングワイヤとしてAuワイヤ40を用い
る点については、図11に示した従来の装置と同様であ
る。このように、本ワイヤボンディング実施例装置10
は、それぞれ同一平面になるように形成されたダイパッ
ト載置部22とインナーリード載置部26と有し、ダイ
パット載置部22に真空吸引穴32と、かつダイパット
載置部22とインナーリード載置部26との間に凹部2
8及び溝29を備える構成のヒートアダプタ12と、吊
りリード30に対応する開口部の下端にはクランプ端を
有しないウインドクランパー14とを具備している。こ
のような構成とすることにより、本実施例装置は、リー
ドフレーム16のリード部とリードフレームダイパット
部20とを同一平面上に乗せること、並びにリード24
及び吊りリード30をその平面の下に逃がすことができ
る。
【0017】それにより、本実施例装置は、従来の装置
のような保持不安定性を排除して確実な密着を可能と
し、超音波と熱を加える方式の機能をよく発揮させて、
ボンダビィリティーが安定した良好なワイヤボンディン
グが行える。リードフレームとチップの保持が安定して
いるため、小ボールワイヤボンディングを容易に実現さ
せことができる。ダイパット載置部22を平面化するこ
とにより、ダイパット載置部22を放電加工でなく簡単
な機械加工により形成することができる。そこで、粗い
放電加工面でなく平滑な機械加工面となるため、ダイパ
ットの密着が緊密強固になり、その結果ヒートアダプタ
12からの熱伝導が良好になり、同時に超音波振動の逃
げも減少し、従って熱と超音波パワーを効率よく利用す
ることができる。
【0018】以下、図7以下も参照して、ヒートアダプ
タ12の製作方法をも含めて実施例装置によるワイヤボ
ンディングについて、更に具体的に説明する。ヒートア
ダプタ12は、その一例の製作過程を横断面で図7に示
すように、例えば次のようにして容易に製作することが
できる。まず、同図(a)のように、一般的にヒートア
ダプタ材料として使用されている板面がフラットな金属
板をヒートアダプタ12に使用し、その面に凹部28及
び溝29を、又はリードフレーム吊り部用の溝29のみ
(図8A,C参照)を放電加工により、又はその他の加
工法により堀り込む。この場合、加工精度、その凹所部
分のフラット性は、特に問題としないため、簡単に作れ
る。従来装置の場合は、その放電加工を極めて精度良く
行わなければならず、そのための技術も要求され、工数
もかかるが、そのような難点もなく、本実施例装置では
ヒートアダプタ12の加工は、極めて簡単である。堀り
込量は、例えば0.05〜0.2mm程度でよい。
【0019】次いで、図示の如くに横方向に連絡穴42
を設け、更に同図(b)のように内径約2mmの真空吸引
穴32を連絡穴42に連通するように縦に穿設する。し
かして、同図(c)のように連絡穴42の端部に真空源
に接続するためのパイプ44を接続すれば、真空吸着部
が形成される。以上で、ダイパット載置部22及びイン
ナーリード載置部26が同一フラット面に設けられた本
実施例装置のヒートアダプタ12が得られる。
【0020】上述のようにして得たヒートアダプタ12
を用いた本ワイヤボンディング実施例装置10を使用し
て、次のようにしてワイヤボンディングを行うことがで
きる。先ず、チップ18を搭載したリードフレーム16
のダイパット部20及びインナーリード24をそれぞれ
ヒートアダプタ12のダイパット載置部22とインナー
リード載置部26に載せ、ダイパット部20を真空で吸
着する。この時、吊りリード30がダイパット載置部の
フラット面より下に変形しても、逃げとしての凹部28
及び溝29が設けてあるから、ダイパット部20とその
載置部22のフラット面との密着が妨げられることはな
い。
【0021】次に、ヒートアダプタ12のインナーリー
ド載置部26に対してインナーリード24の先端近傍を
ウインドクランパー14でクランプすることにより、リ
ードフレーム16のダイパット20とインナーリード2
4をヒートアダプタ12上に同一平面で保持する。次い
で、従来装置と同様に熱と超音波振動によるワイヤボン
ディングを実施する。即ち、Auワイヤ40を使用し、
チップAl電極とAuボールを熱(200〜300℃)
と超音波パワーを用いて、Au−Al合金を形成させて
接合することにより、ワイヤボンディングを行う。ヒー
トアダプタ12がフラットのため、密着は確実であり、
熱伝導もよく、真空の逃げもなく、温度の低下も確実に
防げ、チップあおりなどもなく、Au−Al接合強度の
安定化が向上する。
【0022】なお、ヒートアダプタ12での凹部28及
び溝29は、本実施例装置10では図2及び図6に示す
ように刻設されている。別法として、ダイパットの吊り
方が4点の場合は、ヒートアダプタ12の少なくとも吊
りリード30に対応する溝29のみを設ける図8(a)
に示すパターンであってもよく、また、2点の場合に
は、同図(b)に示すように凹部28と溝29の双方を
設けるパターン、又は同図(c) に示すような溝29の
みを設けるパターンでもよい。
【0023】図9及び図10は、本発明に係る第2実施
例のウインドクランパー15を示している。本実施例
は、第1実施例装置とはウインドクランパー15のクラ
ンプ端に関して異なるのみで、本実施例ではリードフレ
ームダイパットの吊りリード30もインナーリード24
同様にクランプされる。そのため、図9に示すウインド
クランパー15のの開口部35の下端には、図4及び図
5に示すウインドクランパー14のの開口部34と異な
り、クランプ端36が連続的に設けてある。図10
(a)は図9のウインドクランパー15のC−C線の断
面形状を、図10(b)はそのD−D線の断面形状を夫
々示す。尚、他の構成は、前記実施例と同様である。
【0024】第2実施例のワイヤボンディング装置によ
るワイヤボンディング方法は、ワイヤボンディング工程
においてヒートアダプタ12のインナーリード載置部2
6に対してダイパット26のインナーリード24の先端
近傍と吊りリード30の双方をクランプすること以外
は、第1の実施例装置を使用した方法と同様である。吊
りリード部30をクランプすることにより更に一層安定
してリードフレームを保持できる。また、図8の変形例
も同じように本第2の実施例である本装置のヒートアダ
プタ12の凹部刻設に適用できる。
【0025】本発明を説明するに当たり、Auワイヤを
用いてワイヤボンディングする例について説明したが、
他の金属、例えばCu,Ag,Al等や、あるいはこれ
らを主体とした合金でもよい。また、ワイヤボールボン
ディングを例として述べたが、ウェッジボンディングに
も適用できる。
【0026】
【発明の効果】本発明は、真空吸引穴が設けられたダイ
パット載置部とインナーリード載置部とを同一平面にな
るように構成し、少なくともダイパット端部の吊りリー
ドが臨む部分に凹部を設けたヒートアダプタを備える構
成であるから、ダイパットは真空吸着によりダイパット
載置部に密着保持され、しかもダイパット吊りリードが
下方に変形しても、凹部が設けてあるため、その密着は
妨げられることがない。これにより、半導体素子電極と
リードとの接合強度の安定性が向上する。
【0027】本発明装置では、ワイヤ先端の小ボールを
チップ上Al電極に適切にワイヤボンディングできるの
で、Al電極及びAl電極ピッチを小さくすることが可
能になり、またチップ上Al電極の配置上での自由度が
増大する。従って、チップサイズがAl電極ピッチの寸
法に依存しているようなチップでは、チップサイズが小
さくなり、1ウェハ当たりの頭個数が増え、コストダウ
ンが図れる。更に、Al電極を小さくできるので、Au
ワイヤの使用量が減少し、チップ上でAl電極の占める
面積の割合が減少する等の利点も得られることになる。
また、本発明装置を使用する本発明方法により、半導体
素子の接続電極とボンディングワイヤとの接合強度が安
定した高品質の製品を歩留りよく製造することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る第1実施例の半導体装置のワイヤ
ボンディング装置の構成を示す縦断面図である。
【図2】図1に示す装置のヒートアダプタの全体的構造
の一例を示す平面図である。
【図3】図1に示す装置を使用してワイヤボンディング
する4点吊り形式のリードフレームの一例を示す平面図
である。
【図4】図1に示す装置のウインドクランパーの一例を
示す平面図である。
【図5】図5(a)及び(b)は、それぞれ図4のA−
A線に沿って見たウインドクランパー先端部の形状及び
B−B線に沿うウインドクランパー先端部の形状の縦断
面図である。
【図6】図2のヒートアダプタの主としてダイパット載
置部、凹部近傍の拡大平面図である。
【図7】ヒートアダプタの製作過程の説明に供する断面
図である。
【図8】ヒートアダプタの凹部及び溝の他の態様を示す
図である。
【図9】本発明の第2の実施例に係るウインドクランパ
ーを示すものにして、リード部に加えて吊りリードをも
クランプする場合に適用できるウインドクランパーの平
面図である。
【図10】図10(a)及び(b)は、それぞれ図9の
C−C線及びD−D線に沿う夫々のウインドクランパー
先端部形状を表す断面図である。
【図11】従来の半導体装置のワイヤボンディング装置
の構成を示す縦断面図である。
【符号の説明】
10 ワイヤボンディング装置 12 ヒートアダプタ 14、15 ウインドクランパー 16 リードフレーム 18 チップ(ICチップ) 20 ダイパット部 22 ダイパット部載置部 24 インナーリード 26 インナーリード部 28 凹部 29 溝 30 吊りリード 32 真空吸引穴 34、35 開口部 36 クランプ端 38 Agペースト 40 Auワイヤ 42 連絡穴 44 パイプ

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体装置のワイヤボンディング装置に
    おいて、 ヒートアダプタのダイパット載置部とインナーリード載
    置部とを同一平面になるように構成し、 前記ヒードアダプタのダイパット載置部にダイパット吸
    着用の真空吸着穴を設け、 前記ヒートアダプタの少なくともダイパット端部の吊り
    リードが当接する部分に凹部を設けたことを特徴とする
    半導体装置のワイヤボンディング装置。
  2. 【請求項2】 半導体素子が搭載されたリードフレーム
    のダイパットをヒートのダイパット載置部に吸着し、 前記ヒートアダプタのインナーリード載置部に前記ダイ
    パット吊りリードと前記インナーリードの先端近傍をク
    ランプすることで、 前記リードフレームのダイパットとインナーリードを前
    記ヒートアダプタ上に同一平面で保持し、 ワイヤボンディングするワイヤボンディング工程を有す
    ることを特徴とする半導体装置の製造方法。
JP15009492A 1992-05-19 1992-05-19 半導体装置のワイヤボンディング装置及び半導体装置の製造方法 Expired - Fee Related JP3146634B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15009492A JP3146634B2 (ja) 1992-05-19 1992-05-19 半導体装置のワイヤボンディング装置及び半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15009492A JP3146634B2 (ja) 1992-05-19 1992-05-19 半導体装置のワイヤボンディング装置及び半導体装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05326609A JPH05326609A (ja) 1993-12-10
JP3146634B2 true JP3146634B2 (ja) 2001-03-19

Family

ID=15489384

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15009492A Expired - Fee Related JP3146634B2 (ja) 1992-05-19 1992-05-19 半導体装置のワイヤボンディング装置及び半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3146634B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10394148T5 (de) * 2003-02-24 2006-02-09 Infineon Technologies Ag Verbessertes Verfahren und verbesserte Vorrichtung zum Positionieren von integrierten Schaltungen auf Plättchenkontaktflächen

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05326609A (ja) 1993-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5379189B2 (ja) 半導体装置
US6454158B1 (en) Wire bonding apparatus and wire bonding method of semiconductor device
JP2006013512A (ja) ワイヤボンディング用キャピラリ
JP2001274206A (ja) 半導体パッケージ用接続導体、半導体パッケージ、及び半導体パッケージの組立方法
US6199743B1 (en) Apparatuses for forming wire bonds from circuitry on a substrate to a semiconductor chip, and methods of forming semiconductor chip assemblies
TW381326B (en) Semiconductor device and lead frame therefor
JP3146634B2 (ja) 半導体装置のワイヤボンディング装置及び半導体装置の製造方法
US9997490B2 (en) Window clamp
JPH0864748A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPS5948947A (ja) 半導体装置
JPS6178128A (ja) 半導体装置およびその製造において用いるボンデイングツ−ル
JPH0697350A (ja) リ−ドフレ−ム
JPS63239852A (ja) 半導体装置
JPH11297918A (ja) リードフレーム及び半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP3293757B2 (ja) 半導体装置製造用リードフレーム組立体の製造方法
JPH08250545A (ja) 半導体装置およびその製造方法
US3996659A (en) Bonding method for semiconductor device manufacture
JPH09289276A (ja) リードフレームおよびそれを用いた半導体装置
JP3257266B2 (ja) 半導体装置
JP2700434B2 (ja) 半導体装置
JPH08181165A (ja) 半導体集積回路
JP2003209133A (ja) 半導体装置製造用のワイヤボンディング用治具
JPH09148358A (ja) ワイヤボンディングダメージ防止用キャピラリー
JPH10199913A (ja) ワイヤボンディング方法
WO2001013431A1 (en) Apparatuses for forming wire bonds from circuitry on a substrate to a semiconductor chip, and methods of forming semiconductor chip assemblies

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees