JPH01169394A - 真空容器用ｘｙステージ - Google Patents
真空容器用ｘｙステージInfo
- Publication number
- JPH01169394A JPH01169394A JP62326931A JP32693187A JPH01169394A JP H01169394 A JPH01169394 A JP H01169394A JP 62326931 A JP62326931 A JP 62326931A JP 32693187 A JP32693187 A JP 32693187A JP H01169394 A JPH01169394 A JP H01169394A
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- JP
- Japan
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- stage
- drive shaft
- vacuum chamber
- guide rail
- rollers
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- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000002783 friction material Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、真空容器内に設置されるＸＹスデージの移動
機構に関する。
機構に関する。
近年、薄膜技術、半導体プロセス等において、真空中で
のエツチング薄膜形成・レジストｇ光・イオン打ち込み
を行なう必要性が急速に高まっており、さらに最近では
超ＬＳＩ開発の動向の中で微細加工が重要な焦点の一つ
となっている。これに伴い、真空容器（以下、真空チェ
ンバと称す）の小形化と、この真空チェンバ内を高精度
で広範囲に移動可能な試料移動台（以下、ステージと称
す）の必要性がますます高まって来ている。この真空チ
ェンバ内に設置されるステージは、Ｘ−Ｙ・Ｚ方向の自
由度、さらＫは回転・傾斜などを必要とするものが多く
、自由度が多くなるほど機構的に複雑になり、したがっ
て、真空チェンバ内での専有スペースも大きくなる。一
方、短時間に真空排気するためには、真空チェンバの容
積を小さくする必要がある。そこで、特開昭５２−６０
８４号に記載のように、ＸＸステージの駆動モータと駆
動軸を真空チェンバの外部に配置し７、Ｘ、Ｙいずれか
１軸のステージとその駆動軸とを、駆動軸先端に設置た
ローラとステージの端に設けた案内レールの係合によシ
連結することが提案されている。
のエツチング薄膜形成・レジストｇ光・イオン打ち込み
を行なう必要性が急速に高まっており、さらに最近では
超ＬＳＩ開発の動向の中で微細加工が重要な焦点の一つ
となっている。これに伴い、真空容器（以下、真空チェ
ンバと称す）の小形化と、この真空チェンバ内を高精度
で広範囲に移動可能な試料移動台（以下、ステージと称
す）の必要性がますます高まって来ている。この真空チ
ェンバ内に設置されるステージは、Ｘ−Ｙ・Ｚ方向の自
由度、さらＫは回転・傾斜などを必要とするものが多く
、自由度が多くなるほど機構的に複雑になり、したがっ
て、真空チェンバ内での専有スペースも大きくなる。一
方、短時間に真空排気するためには、真空チェンバの容
積を小さくする必要がある。そこで、特開昭５２−６０
８４号に記載のように、ＸＸステージの駆動モータと駆
動軸を真空チェンバの外部に配置し７、Ｘ、Ｙいずれか
１軸のステージとその駆動軸とを、駆動軸先端に設置た
ローラとステージの端に設けた案内レールの係合によシ
連結することが提案されている。
上記従来技術を第２図および第３図を用いて説明する。
Ｘステージ６はＸ駆動軸５の先端に取付けられておシ、
真空チェンバ１内のステージベース２４上を摺動する。
真空チェンバ１内のステージベース２４上を摺動する。
Ｘステージ７はＸステージ６上にｔｆｆｉされ、このＸ
ステージ７上に試料台８が設けられる。Ｘステージ７の
端には案内レール１０’が設けられておシ、この案内レ
ール１０′をはさむよ５に、Ｘ駆動軸５の先端のローラ
受１１に１対のローラ９（Ｌ’、９ｂ’が取付けられて
いる。このローラ９α′、９ｂ′と案内レール１０′か
らなる軸継手は、ロー２９α’、９ｋｌ’のころがシに
よシ、Ｘステージ６の移動を妨げることなく、Ｘ駆動軸
５の連動をＸステージ７に伝え、Ｙ軸方向への移動を可
能にして（・る。
ステージ７上に試料台８が設けられる。Ｘステージ７の
端には案内レール１０’が設けられておシ、この案内レ
ール１０′をはさむよ５に、Ｘ駆動軸５の先端のローラ
受１１に１対のローラ９（Ｌ’、９ｂ’が取付けられて
いる。このローラ９α′、９ｂ′と案内レール１０′か
らなる軸継手は、ロー２９α’、９ｋｌ’のころがシに
よシ、Ｘステージ６の移動を妨げることなく、Ｘ駆動軸
５の連動をＸステージ７に伝え、Ｙ軸方向への移動を可
能にして（・る。
しかし、」二記構成では、Ｘステージ６が移動する際、
案内レール１０′もＸ軸方向に移動し、レール移動領域
の方がＸステージ乙の移動領域よシも大きいため、真空
チェンバ１内の有効スペースをステージ移動領域として
十分に活用できず、Ｘステージ移動量音大きくしようと
して案内レール１０′を長くすると、真空チェンバ１全
体がＸ軸方向に大きくなってしまう。したがって、この
構成は真空チェンバを小形化するためには不適であるこ
とがわかる。
案内レール１０′もＸ軸方向に移動し、レール移動領域
の方がＸステージ乙の移動領域よシも大きいため、真空
チェンバ１内の有効スペースをステージ移動領域として
十分に活用できず、Ｘステージ移動量音大きくしようと
して案内レール１０′を長くすると、真空チェンバ１全
体がＸ軸方向に大きくなってしまう。したがって、この
構成は真空チェンバを小形化するためには不適であるこ
とがわかる。
本発明の目的は、同一スペース内でステージ移動量をよ
シ大ぎ（することができ、真空チェンバの小形化が可能
な真空チェンバ用ＸＸステージ移動機構を提供すること
にある。
シ大ぎ（することができ、真空チェンバの小形化が可能
な真空チェンバ用ＸＸステージ移動機構を提供すること
にある。
上記目的は、真空容器内に位置し、独立した駆動軸を有
するＸＸステージの、Ｘ、Ｙいずれか１軸のステージ上
に載置された他の１軸のステージの端部中央位置に、１
対のローラを該ステージの軸方向に並べて取付け、該ス
テージの駆動軸の先端には案内レール全１字状に設け、
該案内レールの互に反対側の面に上記１対のローラをそ
れぞれ接触させることＫより、該ステージとその駆動軸
とを、該ステージが上記案内レールに沿って移動可能な
ように連結した構成とすることで達成される。
するＸＸステージの、Ｘ、Ｙいずれか１軸のステージ上
に載置された他の１軸のステージの端部中央位置に、１
対のローラを該ステージの軸方向に並べて取付け、該ス
テージの駆動軸の先端には案内レール全１字状に設け、
該案内レールの互に反対側の面に上記１対のローラをそ
れぞれ接触させることＫより、該ステージとその駆動軸
とを、該ステージが上記案内レールに沿って移動可能な
ように連結した構成とすることで達成される。
Ｘステージ上にＸステージが載置されているＸＸステー
ジにおいて、Ｘステージはステージペース上罠載置され
ているため、Ｘステージの移動量はステージベースの大
きさＫよシ決定される。同様に、Ｘステージ上に載置さ
れているＸステージの移動量は、Ｘステージの大きさに
よシ決定される。
ジにおいて、Ｘステージはステージペース上罠載置され
ているため、Ｘステージの移動量はステージベースの大
きさＫよシ決定される。同様に、Ｘステージ上に載置さ
れているＸステージの移動量は、Ｘステージの大きさに
よシ決定される。
本発明では、案内レールがＹ駆動軸の先端に設けられて
おシ、Ｘステージが移動しても案内レールはＸ軸方向に
は移動しないため、ステージペース全真空チェンバ内の
有効スペース分だけ大きくすれば（実際には構成部品の
配置の関係上、真空チェンバ内の有効スペース分を全て
利用することはできないが）、その分Ｘステージの移動
量を大きくすることができる。また、Ｘステージの端部
中央位置にＹ駆動軸の先端に設けた案内レールをはさむ
ように１対のローラが設けられているので、Ｘステージ
が最小ストローク位置から最大ストローク位置までのど
の位置にあっても、Ｘステージは上記１対のローラと上
記案内レールからなる軸継手を介してＹ駆動軸に連結さ
れ、Ｙ軸方向への移動が十分可能である。したがって、
真空チェンバ内の有効スペースを活用してステージ移動
ｆｆｉをより大きくとることができ、真空チェンバの小
形化が可能となる。
おシ、Ｘステージが移動しても案内レールはＸ軸方向に
は移動しないため、ステージペース全真空チェンバ内の
有効スペース分だけ大きくすれば（実際には構成部品の
配置の関係上、真空チェンバ内の有効スペース分を全て
利用することはできないが）、その分Ｘステージの移動
量を大きくすることができる。また、Ｘステージの端部
中央位置にＹ駆動軸の先端に設けた案内レールをはさむ
ように１対のローラが設けられているので、Ｘステージ
が最小ストローク位置から最大ストローク位置までのど
の位置にあっても、Ｘステージは上記１対のローラと上
記案内レールからなる軸継手を介してＹ駆動軸に連結さ
れ、Ｙ軸方向への移動が十分可能である。したがって、
真空チェンバ内の有効スペースを活用してステージ移動
ｆｆｉをより大きくとることができ、真空チェンバの小
形化が可能となる。
以下、本発明の一実施例を図面によシ説明する。
まず、第１図を用いて本発明の一実施例である集束イオ
ンビーム加工装置の真空チェンバ内試料位置決め機構の
全体構成を説明する。図において、真空チェンバ１は上
面を開放して示してあシ、その内部に設置されたステー
ジペース２４上にＸスチーシロがａｌｌされ、さらにこ
のＸステージ６上にＸステージ７が載置されている。試
料台８はＸステージ７上に設けられている。真空チェン
バ１の一側面にねじ２２で固定されたＸ駆動チェンバ１
２内には、Ｘ駆動軸３、軸受１４、スライダ１６、ボー
ルねじ１８、ガイド軸２０が設けられており、Ｘ軸モー
タ２に連結されたボールねじ１８の回転によりｘ駆動＠
５に連結されたスライダ１６がガイド軸２０に沿って移
動し、Ｘ駆動軸５の先端に取付けられたＸステージ６を
Ｘ軸方向に動かす。同様に、真空チェンバ１の他の側面
にねじ２３で固定されたＸ駆動チェンバ１５内には、Ｘ
駆動軸５、軸受１５、スライダ１７、ボールねじ１９、
ガイド軸２１が設けられており、Ｙ軸モータ４に連結さ
れたボールねじ１９０回転によシＹ駆動＠５に連結され
たスライダ１７がガイド軸２１に沿って移動する。この
Ｘ駆動軸５の運動ｋＹステージ７に伝え、かつＸ軸方向
の移動動作にも適応させるために、Ｘ駆動軸５の先端に
は案内レール１ｏを１字状に設け、またＸステージ７の
端部中央位［ＩＫは上記案内レール１０の互に反対側の
面に接して転動するよう１対のローラ９α、９ｂ’）Ｙ
軸方向に並べて取付け、この案内レール１０と１対のロ
ーラ９ｆｌｌ、９ｂからなる軸継手によシ、Ｘステージ
６の移動を妨げることなく、Ｘステージ７のＹ軸方向へ
の移動を可能にしている。上記したＸステージ７とＸ駆
動軸５の連結部分の構成については後に詳しく説明する
。ここで、スライダ１７に取付けられたＸ駆動軸５が２
本あるのは、Ｙステージ移動時の負荷に対する駆動系の
剛性を高めるためである。また、ＸＹＸステージ６７の
移動負荷となる摺動摩擦を軽減するために、ステージ相
互間およびステージ・ベース間の接触面積を極力少なく
するよう凹凸状の溝加工を施し、さらに、ステージ相互
間およびステージ・ベース間の接触面にはテフロン等の
低摩擦材のコーティングを施している。また、ステージ
相互間およびステージ・ベース間の振動を抑制するため
に、ＸＹＸステージ６７の底部にはローラ受２５，２６
’ｉ取付けている。
ンビーム加工装置の真空チェンバ内試料位置決め機構の
全体構成を説明する。図において、真空チェンバ１は上
面を開放して示してあシ、その内部に設置されたステー
ジペース２４上にＸスチーシロがａｌｌされ、さらにこ
のＸステージ６上にＸステージ７が載置されている。試
料台８はＸステージ７上に設けられている。真空チェン
バ１の一側面にねじ２２で固定されたＸ駆動チェンバ１
２内には、Ｘ駆動軸３、軸受１４、スライダ１６、ボー
ルねじ１８、ガイド軸２０が設けられており、Ｘ軸モー
タ２に連結されたボールねじ１８の回転によりｘ駆動＠
５に連結されたスライダ１６がガイド軸２０に沿って移
動し、Ｘ駆動軸５の先端に取付けられたＸステージ６を
Ｘ軸方向に動かす。同様に、真空チェンバ１の他の側面
にねじ２３で固定されたＸ駆動チェンバ１５内には、Ｘ
駆動軸５、軸受１５、スライダ１７、ボールねじ１９、
ガイド軸２１が設けられており、Ｙ軸モータ４に連結さ
れたボールねじ１９０回転によシＹ駆動＠５に連結され
たスライダ１７がガイド軸２１に沿って移動する。この
Ｘ駆動軸５の運動ｋＹステージ７に伝え、かつＸ軸方向
の移動動作にも適応させるために、Ｘ駆動軸５の先端に
は案内レール１ｏを１字状に設け、またＸステージ７の
端部中央位［ＩＫは上記案内レール１０の互に反対側の
面に接して転動するよう１対のローラ９α、９ｂ’）Ｙ
軸方向に並べて取付け、この案内レール１０と１対のロ
ーラ９ｆｌｌ、９ｂからなる軸継手によシ、Ｘステージ
６の移動を妨げることなく、Ｘステージ７のＹ軸方向へ
の移動を可能にしている。上記したＸステージ７とＸ駆
動軸５の連結部分の構成については後に詳しく説明する
。ここで、スライダ１７に取付けられたＸ駆動軸５が２
本あるのは、Ｙステージ移動時の負荷に対する駆動系の
剛性を高めるためである。また、ＸＹＸステージ６７の
移動負荷となる摺動摩擦を軽減するために、ステージ相
互間およびステージ・ベース間の接触面積を極力少なく
するよう凹凸状の溝加工を施し、さらに、ステージ相互
間およびステージ・ベース間の接触面にはテフロン等の
低摩擦材のコーティングを施している。また、ステージ
相互間およびステージ・ベース間の振動を抑制するため
に、ＸＹＸステージ６７の底部にはローラ受２５，２６
’ｉ取付けている。
以上のように構成された本発明による真空チェンバ用Ｘ
Ｙステージの動作を第４図、第５図を用いて説明する。
Ｙステージの動作を第４図、第５図を用いて説明する。
真空チェンバ１内のＸステージ６はＸ軸方向にのみ移動
できればよいので、Ｘ駆動軸５の先端に直接取付けられ
ているが、Ｘステージ上に載置されたＸステージ７はＹ
軸方向だけでな（、Ｘ軸方向にも移動可能でなければな
らないため、Ｘ駆動軸５にＸステージ７′５ｒ−直接取
付けることはできない。そこで、前述したように、Ｘ駆
動軸５の先端に設けた案内レール１０とＸステージ７の
端部中央位置く取付けた１対のａ−ラ９α。
できればよいので、Ｘ駆動軸５の先端に直接取付けられ
ているが、Ｘステージ上に載置されたＸステージ７はＹ
軸方向だけでな（、Ｘ軸方向にも移動可能でなければな
らないため、Ｘ駆動軸５にＸステージ７′５ｒ−直接取
付けることはできない。そこで、前述したように、Ｘ駆
動軸５の先端に設けた案内レール１０とＸステージ７の
端部中央位置く取付けた１対のａ−ラ９α。
９ｂからなる軸継手を用い、ローラ９α、９ｂのころが
、ＤＫよシ、Ｘ軸方向の移動動作？妨げることなく、Ｙ
軸方向への移動全可能にしている。
、ＤＫよシ、Ｘ軸方向の移動動作？妨げることなく、Ｙ
軸方向への移動全可能にしている。
ここで、ＸＹＸステージ６７の移動領域を第２図、粥３
図に示した従来例と比較して説明する。
図に示した従来例と比較して説明する。
まず第２図において、Ｘステージ７に設ケラしている案
内レール１０′とＸ駆動軸５の先端のローラ９α、 ９
ｂ’の相対移動距離は案内レール１０′の長さによシ
決定されるが、この構成では、案内レール１０′自体も
Ｘ軸方向に移動し、レール移動領域の方がＸステージ移
動領域よυも大きいため、真空チェンバ１内でのＸステ
ージ６の実移動社は寸法Ｓ′分しかとれず、真空チェン
バ内の有効スペースを十分に活用できない。これに対し
、本発明では、第４図、第５図に示すように１案内レー
ル１０はＸ軸方向には移動せず、案内レール１０の長さ
即Ｘステージ６の移動距離となるため、真空チェンバ１
内でのＸステージ移動量を寸法ＳのようＫより大きくと
ることができ、真空チェンバ１内の有効スペースを十分
に活用できることがわかる。
内レール１０′とＸ駆動軸５の先端のローラ９α、 ９
ｂ’の相対移動距離は案内レール１０′の長さによシ
決定されるが、この構成では、案内レール１０′自体も
Ｘ軸方向に移動し、レール移動領域の方がＸステージ移
動領域よυも大きいため、真空チェンバ１内でのＸステ
ージ６の実移動社は寸法Ｓ′分しかとれず、真空チェン
バ内の有効スペースを十分に活用できない。これに対し
、本発明では、第４図、第５図に示すように１案内レー
ル１０はＸ軸方向には移動せず、案内レール１０の長さ
即Ｘステージ６の移動距離となるため、真空チェンバ１
内でのＸステージ移動量を寸法ＳのようＫより大きくと
ることができ、真空チェンバ１内の有効スペースを十分
に活用できることがわかる。
次に、第６図を用いてＹステージとその駆動軸の連結部
分の構成全詳しく説明する。Ｘステージ７の端面にロー
ラ取付具５０とローラ固定台３１をねじ５２ 、３３に
よシ取付け、ローラ固定台３１上にローラ９αを取付け
る。また、ローラ９ｂｌ取付けたローラ受３４をねじ２
９で板ばね２７の先端に取付け、板ばね２７の基端にロ
ーラ取付具５０にねじ２８で固定する。そして、Ｘステ
ージ７の端部中央位置で、Ｘ駆動軸５の先端に設けられ
た案内レール１０の内外両面を前記１対のローラ９α、
９ｂと案内レール１０の保合により、Ｘステージ７のＸ
・７両方向への移動を可能にしている。さらに、片方の
ローラ９ｂが板ばね２７を介してローラ取付具３０に取
付けられているため、Ｘステージ７がＸ軸方向に移動す
る際、ローラ９α、９ｂと案内レール１０の接触面の多
少のギャップは板はね２７のばね力によシ吸収でき、Ｘ
駆動軸５とＸステージ７の相互間における振動を抑制す
ることができる。
分の構成全詳しく説明する。Ｘステージ７の端面にロー
ラ取付具５０とローラ固定台３１をねじ５２ 、３３に
よシ取付け、ローラ固定台３１上にローラ９αを取付け
る。また、ローラ９ｂｌ取付けたローラ受３４をねじ２
９で板ばね２７の先端に取付け、板ばね２７の基端にロ
ーラ取付具５０にねじ２８で固定する。そして、Ｘステ
ージ７の端部中央位置で、Ｘ駆動軸５の先端に設けられ
た案内レール１０の内外両面を前記１対のローラ９α、
９ｂと案内レール１０の保合により、Ｘステージ７のＸ
・７両方向への移動を可能にしている。さらに、片方の
ローラ９ｂが板ばね２７を介してローラ取付具３０に取
付けられているため、Ｘステージ７がＸ軸方向に移動す
る際、ローラ９α、９ｂと案内レール１０の接触面の多
少のギャップは板はね２７のばね力によシ吸収でき、Ｘ
駆動軸５とＸステージ７の相互間における振動を抑制す
ることができる。
したがって、本実施例によれば、真空チェンバ内でのス
テージ移動量をより大きくとることができ、かつ精度の
良い試料位置決めができる。
テージ移動量をより大きくとることができ、かつ精度の
良い試料位置決めができる。
以上述べたように本発明によれば、真空チェンバ内の有
効スペースを十分に活用してステージ移動Ｍをよシ大き
くすることができ、真空チェンバの小形化、排気系のコ
ンダクタンスの向上が図れる。さらに、比較的簡単な構
造であるため、経済性にすぐれている。
効スペースを十分に活用してステージ移動Ｍをよシ大き
くすることができ、真空チェンバの小形化、排気系のコ
ンダクタンスの向上が図れる。さらに、比較的簡単な構
造であるため、経済性にすぐれている。
第１図は本発明の一実施例である真空チェンバ内試料位
置決め機構の全体構成図で、（α）は平面図、（ｂ）は
そのＡ−Ａ断面図、（０）は同Ｂ−Ｂ断面図、第２図は
従来の真空チェンバ内ＸＹステージの移動領域を示す平
面図、第５図はそのＣ−Ｃ断面図、第４図は第１図に示
す実施例のステージ移動領域を示す平面図、第５図はそ
のＤ−Ｄ断面図、第６図は第１図中のＸステージとその
駆動軸の連結部分を示す詳細斜視図である。 １・・・真空チェンバ、２・・・Ｘ軸モータ、３・・・
Ｘ駆動軸、４・・・Ｙ軸モータ、５・・・Ｘ駆動軸、６
・・・Ｘステージ、７・・・Ｘステージ、９α、９ｂ・
・・ローラ、１０・・・案内レール、２７・・・板ばね
。 ／、−−’、 代理人弁理士 小 川 ＃ 摺１１、７゛Ｎ へ
ｑｆｙＭｃｘ’ｔ”０
置決め機構の全体構成図で、（α）は平面図、（ｂ）は
そのＡ−Ａ断面図、（０）は同Ｂ−Ｂ断面図、第２図は
従来の真空チェンバ内ＸＹステージの移動領域を示す平
面図、第５図はそのＣ−Ｃ断面図、第４図は第１図に示
す実施例のステージ移動領域を示す平面図、第５図はそ
のＤ−Ｄ断面図、第６図は第１図中のＸステージとその
駆動軸の連結部分を示す詳細斜視図である。 １・・・真空チェンバ、２・・・Ｘ軸モータ、３・・・
Ｘ駆動軸、４・・・Ｙ軸モータ、５・・・Ｘ駆動軸、６
・・・Ｘステージ、７・・・Ｘステージ、９α、９ｂ・
・・ローラ、１０・・・案内レール、２７・・・板ばね
。 ／、−−’、 代理人弁理士 小 川 ＃ 摺１１、７゛Ｎ へ
ｑｆｙＭｃｘ’ｔ”０
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空容器内に位置し、独立した駆動軸を有するＸＹ
ステージの移動機構において、ＸＹいずれか１軸のステ
ージ上に載置された他の１軸のステージの端部中央位置
に、１対のローラを該ステージの軸方向に並べて取付け
、該ステージの駆動軸の先端には案内レールをＴ字状に
設け該案内レールの互に反対側の面に上記１対のローラ
をそれぞれ接触させることにより、該ステージとその駆
動軸とを、該ステージが上記案内レールに沿って移動可
能なように連結したことを特徴とする真空容器用ＸＹス
テージ移動機構。 ２、上記１対のローラのうち、片方のローラはばねを介
してステージに取付けられ、そのばね力により両方のロ
ーラを案内レールの面に密着させていることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の真空容器用ＸＹステージ
移動機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62326931A JPH01169394A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 真空容器用ｘｙステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62326931A JPH01169394A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 真空容器用ｘｙステージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01169394A true JPH01169394A (ja) | 1989-07-04 |
Family
ID=18193364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62326931A Pending JPH01169394A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 真空容器用ｘｙステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01169394A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0541143U (ja) * | 1991-11-08 | 1993-06-01 | 日本電子株式会社 | Ｘｙ移動テーブル駆動機構 |
| JP2002270673A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-20 | Canon Inc | 移動案内装置及びそれを用いた露光装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS526084A (en) * | 1975-06-30 | 1977-01-18 | Ibm | Device for positioning specimen |
| JPS5817616A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 移動ステ−ジ |
| JPS5844144B2 (ja) * | 1976-03-26 | 1983-10-01 | 大同特殊鋼株式会社 | 熱間加工性および被削性の良好なＮｉ−Ｆｅ系高透磁率合金 |
-
1987
- 1987-12-25 JP JP62326931A patent/JPH01169394A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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