JPH01169048U - - Google Patents

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JPH01169048U
JPH01169048U JP6617188U JP6617188U JPH01169048U JP H01169048 U JPH01169048 U JP H01169048U JP 6617188 U JP6617188 U JP 6617188U JP 6617188 U JP6617188 U JP 6617188U JP H01169048 U JPH01169048 U JP H01169048U
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electrode
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  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)

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【図面の簡単な説明】
第1図は高出力型のトランジスタを示す平面図
、第2図は第1図のA―A′線における断面図、
第3図は従来の半導体装置の断面図、第4図は高
出力型トランジスタと低出力型トランジスタが混
在する半導体集積回路の平面図である。 1……半導体基板、2……エピタキシヤル層、
3……埋込み層、4……ベース領域、5……エミ
ツタ領域、6……コレクタ領域、7……コンタク
ト領域、8……第1の拡散領域、9……エミツタ
電極、10……ベース電極、11……コレクタ電
極、12……コンタクト領域、13……第2の拡
散領域。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) コレクタ領域となる一導電型の半導体基板
    と、この半導体基板に形成される逆導電型のベー
    ス領域と、このベース領域内に形成される一導電
    型のエミツタ領域と、前記コレクタ領域、ベース
    領域およびエミツタ領域と夫々オーミツクコンタ
    クトするコレクタ電極、ベース電極およびエミツ
    タ電極とを備えた半導体装置に於いて、前記エミ
    ツタ領域とベース電極のコンタクト領域との間に
    、ベース電極のコンタクト領域と一部重畳した一
    導電型の拡散領域を具備することを特徴とした半
    導体装置。 (2) 夫々の島領域に高出力型のトランジスタと
    低出力型のトランジスタとを有する半導体装置に
    於いて、前記高出力型のトランジスタに前記半導
    体装置を使つた請求項第1項記載の半導体装置。 (3) コレクタ領域下に設けられた一導電型の埋
    込み層と、この埋込み層と前記コレクタ電極とを
    接続する一導電型の第2の拡散領域とを具備する
    請求項第1項または第2項記載の半導体装置。
JP6617188U 1988-05-19 1988-05-19 Pending JPH01169048U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001085443A (ja) * 1999-09-09 2001-03-30 Rohm Co Ltd 半導体装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001085443A (ja) * 1999-09-09 2001-03-30 Rohm Co Ltd 半導体装置
JP4707203B2 (ja) * 1999-09-09 2011-06-22 ローム株式会社 半導体装置

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