JPH01163204A - 光重合用触媒組成物 - Google Patents

光重合用触媒組成物

Info

Publication number
JPH01163204A
JPH01163204A JP62321325A JP32132587A JPH01163204A JP H01163204 A JPH01163204 A JP H01163204A JP 62321325 A JP62321325 A JP 62321325A JP 32132587 A JP32132587 A JP 32132587A JP H01163204 A JPH01163204 A JP H01163204A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
heterocyclic compound
group
benzophenone
photosensitivity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62321325A
Other languages
English (en)
Inventor
Junichi Ito
順一 伊藤
Tomoki Okamoto
朋己 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokuyama Corp
Original Assignee
Tokuyama Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokuyama Corp filed Critical Tokuyama Corp
Priority to JP62321325A priority Critical patent/JPH01163204A/ja
Publication of JPH01163204A publication Critical patent/JPH01163204A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0076Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、光重合性組成物の一成分として添加すること
により、増大された光感度を得ることができる釈規な光
重合用触媒組成物に関する。
(従来技術及びその問題点) 光重合性組成物、すなわち光照射によりラジカル等の活
性種を発生させ1重合、架橋などの化学反応を誘起する
組成物は、塗料、印刷インキ、フォトレジスト、接着剤
、歯科用コンポジットレジン等の用途に用いられている
上記したいずれの用途においても、光重合  −性組成
物の重合速度を増大させること、すなわち光重合性組成
物の光感度を増大させることは、活性光による露光時間
を短縮できることから工業上有益である。そこで、従来
は、専ら光開始剤を開発する研究が主に行なわれてきた
例えば、エチレン性不飽和化合物を含有する光重合性組
成物に対し、種々の光開始剤を添加する方法が行なわれ
ている。これらの光開始剤としては、2−エチルアント
ラキノン。
2−t−ブチルアントラキノン等の多核キノン類、ベン
ゾフェノン等の芳香族ケトン、アゾビスイソブチロニト
リル等のジアゾ化合物、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル等のベンゾイン誘導体等が挙げ
られる。
しかしながら、これらの光開始剤を使用して得られる光
重合性組成物は、必ずしもその光感度が十分なものでは
な(、前記した光開始剤に種々の増感剤を組合わせて、
さら忙光感度を増大させる方法が行なわれている。これ
らの光開始剤と増感剤の組合わせとしては、例えばカン
ファーキノン又はベンゾフェノンと、4.4’−(ジメ
チルアミノ)ベンゾフェノンの系が知られている。
また、前記した光開始剤と、光開始助剤を組合わせて光
感度を増大させる方法も行なわれてbる。これらの光開
始剤と光開始助剤の組合わせとしては、例えばベンゾフ
ェノン・又は種々のアミノフェニルケトンと、Nフェニ
ルクリシン、N−(P−ニトロフェニル)グリシン等の
活性メチレン化合物やエタノールアミン、ジェタノール
アミン等の水素供給体との組合わせたよるもの、あるい
はベンゾフェノン又は種々のアミノフェニルケトンと、
2.4.5−)リアリールイミダゾールニ量体の組合わ
せによるもの等が挙げられる。
しかしながら、上記従来技術による光重合性組成物の光
感度を増大させる方法では、必らずしも十分な光感度が
得られないか、または十分な光感度が得られても、十分
な保存安定性が得られないか、あるいはこれをプリント
回路基板製造にポーた場合に、銅表面の変色を引き起こ
す等の問題点があった。
C問題を解決するための手段) 我々は、この様な従来の問題点を改善するために、鋭意
研究の結果、十分な光感度を持ち、かつ保存安定性にす
ぐれた光重合性組成物を得るために必要な光重合用触媒
組成物を見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は、 (a)  一般式(I) は炭素数1〜4のアルキル基、又は炭素数6〜14のア
リール基、R5、R4は水素原子又は炭素数1〜4のア
ルキル基を示す。)で表わされる化合物100重量部、
及び(b)  少なくとも1個以上の窒素原子を含有す
る複素環式化合物及び該複素環式化合物にカルボニル基
及び/又はアミノ基を有する置換基を結合した誘導体よ
りなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物0.1〜
500ii−i部よりなる光重合用触媒組成物iるSゆ 本発明で使用される、一般式(1)で表わされる化合物
(以下、単に芳香族ケトンという。)は、光開始剤とし
て作用し、特に、前記した少なくとも1個の窒素原子を
含有する複素環式化合物及び該複素環式化合物にカルボ
ニル基及び/又はアミン基を有する置換基を結合した誘
導体よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物(
以下、単に「窒素含有複素環式化合物」という。)と組
合わせることにより、保存安定性にすぐれ、かつ光感度
が増大した光重合用触媒組成物を得ることができる。
該芳香族ケトンとしては、例えばベンゾフェノン、アセ
トフェノン、トリクロロアセトフェノン、2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロピオフェノン、2−ヒドロキシ−2
−メチル−4′−イソプロピルプロピオフェノン、1−
ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン。
2.2−ジェトキシアセトフェノン、ペンジルジメチル
ケヌール、ペンジルメチルベンゾイルホルメートなどの
フェニルケトン類;P−アミノベンゾフェノン、P−ブ
チルアミノフェノン、P−ジメチルアミノアセトフェノ
ン、P−ジメチルアミノプロピオフェノン。
P−ジエチルアミノブチロフェノン、P−ジブチルアミ
ノアセトフェノン、P−ジメチルアミノベンゾフェノン
、P−ジメチルアミノフェニル−P −トIJルケトン
、P−ジエチルアミノベンゾフェノン、  p、p’−
ビス(エチルアミノ)ベンゾフェノン、  p、p’−
ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン〔ミヒラーケト
ン]、p、p’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、  p、p’−ビス(ジブチルアミン)ベンゾフェ
ノンなどのアミノフェニルケトン類が挙げられる。また
、これらは単独、又は2種以上の混合物として使用でき
る。
本発明の光重合用触媒組成物の他の必須成分である窒素
含有複素環式化合物は、上記芳香族ケトンと併用するこ
とにより、芳香族ケトン単独の場合に比べ、すぐれた光
感度な発揮する。該窒素含有複素環式化合物としては例
えば、4H、−1,2,4−トリアゾール。
カルバゾール、ビロール、キノリン、3−インドール酢
酸、3−インドールプロピオン酸。
3−インドールアルデヒド、L−ヒスチジン。
4−(3−インドリル)酪酸、2−(3−インドール)
エタノール、3−7ミ/−1−イミノインインドール、
6−アミノ−1,2−ジヒドロ−2−ビリジノール、3
−(2−アミノエチル)−1H−ピラゾール、2−(5
−アミノペンチル)ベンゾイミダゾール等が挙げられる
。該窒素含有複素環式化合物は単独、又は二種以上混合
して用いられる。
本発明の光重合用触媒組成物中における上記芳香族ケト
ン−及び窒素含有複素環式化合物の組成割合は、芳香族
ケトン100重量部に対し、窒素含有複素環式化合物が
0.1〜500重量部、好オしくは1〜200重景部が
景気である。窒素含有複素環式化合物の添加量が、0.
1重量部以下であると光感度の増大は微小であり一添加
しない場合と実質的に同じ光感度しか得られない。また
、500重量部以上であると、その効果は飽和に達し、
それ以上の光感度の増大はみられない。
本発明の光重合用触媒組成物は、光重合性組成物の成分
の1つとして公知の熱可塑性重合体、および/又は少な
くとも1つのエチレン性不飽和基を有する単量体とを組
合わせて使用できる。この場合、本発明の光重合用触媒
組成物は、光重合性組成物中に0.01〜15重量%、
好1しくば0.1〜10重量%添加するのが好適である
。触媒組成物の添加量が0.01重量%より少ないと、
十分な光感度が得られない。また15重景気より多いと
光重合性組成物の保存安定性が低下し好ましくない。
上記熱可塑性重合体として一般に不飽和カルボン酸と不
飽和カルボン酸エステルとの共重合体が好適に使用でき
る。具体的に例示すれば、不飽和カルボン酸としては、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸等
が挙げられる。不飽和カルボン酸エステルとしては、ア
クリル酸又はメタクリル酸のメチル、エチル、フチル、
2−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。その他、
熱可塑性重合体としては、不飽和カルボン酸や、不飽和
カルボン酸エステルの単一重合体、スチレン−無水マレ
イン酸共重合体等の交互共重合体、テレフタル酸、イリ
フタル酸、およびセパシン酸の重縮合体、セルロース系
重合体等も用いることができる。
該熱可塑性重合体は、光重合用組成物中に、必要に応じ
て通常0〜80重量%用いる。80重量%より多いと、
他の成分が相対的に少なぐなるため光感度が低下し、又
、場合によっては該光重合性組成物を塗布した時に、塗
布層の柔軟性が著しく減少し、使用時に塗布層が割れた
りするので好tL<ない。
また、少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する単
量体として一般に使用できるものを具体的に例示すれば
、アクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエステル、例
えハ、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸−n−ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシ
ル/または多価アルコールの不飽和カルボン酸エステル
、例えば、トリエチレングリコールジアクリレート、ト
リメチロールメタンジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート/またはグリシジル基含有化合物の不飽
和カルボン酸エステル、例えば、トリメチロールメタン
ジグリシジルエーテルジアクリレート、トリメチロール
プロパントリグリシジルエーテルトリアクリレート/ビ
スフェノールA誘導体のアクリル酸又はメタクリル酸エ
ステル、例、tJf、2゜2ビスC4−(メタクリロキ
シ−ジェトキシ)フェニル〕プロパン、  2.2ビス
C4−(メタクリロキシ−ポリエトキシ)フェニル〕プ
ロパン等が用いられる。尚、これらの単量体は一種又は
二種以上の混合物として使用される。該単量体の光重合
性組成物中の組成割合は、10〜90重量%、好ましく
は20〜60重量%である。10i!量%以下であると
、露光後の硬化反応が不十分となり好ましくない。
又90重量%以上であると、相対的に他の成分の添加量
が少なくなり十分な光感度が得られないし、場合によっ
ては、該光重合性組成物の流動性が大きくなりすぎて、
塗布及び固定が不可能となる。
本発明の光重合用触媒組成物を添加してなる光重合性組
成物には、前記した各成分の他に、稲々の公知の熱硬化
性重合体、フィラー等の充填剤、あるいはP−メトキシ
フェノール、ハイドロキノン、ビaガロール、ナフチル
アミン、フェノチアジン、t−ブチルカテコール等の熱
重合禁止剤、あるいは、クリスタルバイオレット、ビク
トリアブルー、アラカイドグタン、メチルオレンジ等の
染料又は顔料等を添加してもよい。
更に、また、上記成分の他に可塑剤、接着促進剤等の公
知の添加剤、ある騒は露光部が発色するようK、ロイコ
染料とハロゲン化合物を組合わせて添加してもよい。
本発明の触媒組成物を添加してなる光重合性組成物は、
前記各成分を溶解する溶剤、例えばアセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアルコー
ル、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルセロンルブ
、エチルセロンルブ等の、単一、又は混合物を用いて混
合、溶解することにより、均一な溶液とすることができ
る。
光重合させるために必要な光源は、特に限定されず公知
のものが使用出来、一般に好ましいのは波長300〜4
50 nmの光を発光するものである。具体的に示せば
、例えば水銀蒸気アーク、カーボンアーク、キセノンア
ークが挙げられる。
(発明の効果→ 本発明の光重合用触媒組成物は、十分な光感度を有し、
かつ保存安定性にすぐれた性能を持つ光重合性組成物を
与える。また、本発明の光重合用触媒組成物を添加して
なる光重合性組成物を1例えばプリント回路板製造に用
いる際には、銅基板表面の変色を抑制し、細線密着性に
すぐれたフォトレジストとして使用することができる。
(実施例) 以下、フォトレジストとして応用した場合を例として、
実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実
施例によって何ら制約を受けるものではない。
実施例1〜10.比較例1〜2 次の光重合性組成物を調製した。即ち、壕ず アクリル系コポリマー(46%の・・・70重量部アク
リル酸エチル、37%のメタ クリル酸メチルおよび15%のア クリル酸を含み、メチルエチルケ トン中、30℃で0.458の対数 粘度を有する) トリエチレングリコールジメタ・・・20重量部クリレ
ート ベンゾフェノン       ・・・・ s x置部4
.41−ビス(ジメチルアミノ)・・・・0.3重量部
ベンゾフェノン ブリリアント・グリーン染料・・・0.04重量部(C
,1,す42040) ロイコクリスタルバイオレット・・・・0.5 i量s
テトラブロモメタン     ・・・・1.0重i部メ
チルエチルケトン    ・・・・600重量部を均一
に溶解して溶液Aを得る。次いで、この溶液Aに表1に
示した添加割合の種々の化合物を添加して、本発明の、
あるいは比較例としての光重合性組成物を得た。
この光重合性組成物の性能を以下の方法により評価した
。まず、黄色ケイ光灯の照明のもとで、厚さ25μのポ
リエステルフィルム上にドクターブレードを用いて塗布
し、30分風乾したのち、オーブン中で80℃、5分間
乾燥してドライフィルムとした。ドライフィルムの厚さ
は68μであった。このドライフィルムをホットローラ
ー式ラミネーターで、表面を研磨した銅張積層板に13
0”0.1m/minの条件でラミネートした。これを
10分間放置して室温まで冷却したのち、紫外線露光機
を用いて、ドライフィルム表面にテストパターンの画像
を形成させた。ホールドタイムとして10分間放置した
後、30”C,1%炭酸す) I)ラム水溶液で現像を
行なった。
現像後のテストパターンから感度、解像度。
密着性、ライン幅の再現性の評価を、以下に示す評価基
準に従って行なった。感度は、ストファー・ステップタ
ブレット(21段ステップ)が9を示すために必要な露
光量をmJ/−で示した。また、解像度は、ライン幅と
ライン間のスペース幅の等しい平行ナラインパターンに
おいて、現像終了後の段階で画像形成が可能な最小のラ
イン(スペース)幅全10μ単位で表わした。密着性は
、ライン間のスペース幅が250μの平行なうインパタ
ーンにおいて、現像終了後の段階で、鋼表面に良好な状
態で画像形成が可能な最小のライン幅を10μ単位で表
わした。ライン幅の再現性は、ライン幅、ライン間のス
ペース幅がいずれも250μの平行なうインパターンの
ライン部分の幅について、テストパターンのライン幅か
らのずれを表示した。このようにして得られた結果を表
−2に示した。
表−1 *1 添加量は、溶液A中のメチルエチルケトンを除く
全溶液Aiを基準にした値。
実施例1〜7、および比較例1より、窒素含有複素環式
化合物を添加することにより、光感度が向上した。特に
、3−インドール酢酸あるいは2−インドール酢酸をポ
ーた場合は、感度とともに密着性も改善された。
一方、比較例2に示したように、N−フェニルグリシン
は高い増感効果を示すが、密着性が悪い。また、銅表面
の変色やラミネート時にドライフィルムが発色するなど
の問題が生じた。
実施例8〜10より、ベンゾフェノン。
4.4′−ビス(ジメチルアs))ベンゾフェノン、及
び6−インドール酢酸よりなる系では、光感度の増大が
認められた。
実施例 11 実施例Iにおいて、ベンゾフェノン5重量部及び4,4
′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン0.5重量
部のかわりに、アセトフェノン5!f部及びP−ジメチ
ルアミノアセトフェノン0.6重量部を用いた以外は同
様に行なった。結果は表6に示す。
実施例 12 実施例1において4.4′−ビス(ジメチルアミノ)ベ
ンゾフェノンを用いなかった以外は同様に行なった。結
果を表6に示す。
比較例 6 −   実施例12において、3−インドール酸i10
.2重号%を用いなかった以外は同様に行なった。結果
を表6に示す。
実施例 16 実m例1において、ベンゾフェノン54.ft部及び4
,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン0.3
重量部の代りに、芳香族ケトンとしてP−ジメチルアミ
ノアセトフェノン5重量部を用いた以外は同様洗行なっ
た。結果は表3に示す。
比較例 4 実施例15においてろ一インドール酢fio、2Mm%
を用すなかった以外は同様に行なった。
結果は表6に示すっ 比較例 5 実施例12において3−インドール61に代えて、N−
フェニルグリシンを用いた以外は実施例12と同様に行
なった。結果を表3に示す。
実施例 14 実施例12において、6−インドール酢酸0.2重量%
に代えて、2−(5−アミノペンチルベンゾイミダゾー
ル0.2i債%を用いた以外は同様に行なった。結果は
表3に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1(a)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は水素原子又は▲数式、化学式、表等が
    あります▼、 R_2は炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数6〜1
    4のアリール基、R_3、R_4は水素原子又は炭素数
    1〜4のアルキル基を示す。)で表わされる化合物10
    0重量部、及び (b)少なくとも1個以上の窒素原子を含有する複素環
    式化合物及び該複素環式化合物にカルボニル基及び/又
    はアミノ基を有する置換基を結合した誘導体よりなる群
    から選ばれた少なくとも1種の化合物0.1〜500重
    量部、よりなる光重合用触媒組成物
JP62321325A 1987-12-21 1987-12-21 光重合用触媒組成物 Pending JPH01163204A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62321325A JPH01163204A (ja) 1987-12-21 1987-12-21 光重合用触媒組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62321325A JPH01163204A (ja) 1987-12-21 1987-12-21 光重合用触媒組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01163204A true JPH01163204A (ja) 1989-06-27

Family

ID=18131332

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62321325A Pending JPH01163204A (ja) 1987-12-21 1987-12-21 光重合用触媒組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01163204A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05135415A (ja) * 1991-11-08 1993-06-01 Toagosei Chem Ind Co Ltd 光デイスクの製造方法
JP2011253152A (ja) * 2010-06-04 2011-12-15 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 感光性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルタ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05135415A (ja) * 1991-11-08 1993-06-01 Toagosei Chem Ind Co Ltd 光デイスクの製造方法
JP2011253152A (ja) * 2010-06-04 2011-12-15 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 感光性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルタ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0107792B1 (en) Photopolymerizable compositions
TWI401531B (zh) A photohardenable resin composition and a hardened product thereof
JPH0629285B2 (ja) 光重合性組成物
JPH05345790A (ja) アルキルビスアシルホスフインオキシド
US5112721A (en) Photopolymerizable compositions containing sensitizer mixtures
JP2505637B2 (ja) 光重合性組成物および光重合性エレメント
EP0295044B1 (en) Photoinitiator and photopolymerizable composition using the same
JPH01126302A (ja) 光重合性組成物
JPH06236031A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPH01163204A (ja) 光重合用触媒組成物
JP3824338B2 (ja) カルバゾリルトリアジン化合物および光重合開始剤
WO1988007042A1 (en) Substituted acridine derivatives and their use
JP3111708B2 (ja) 光重合性組成物及び光重合性エレメント
JP2505541B2 (ja) 光重合用触媒組成物
EP0551697B1 (en) Photoinitiator system and photopolymerizable composition using the same
JPS63146903A (ja) 光開始剤およびこれを用いた光重合性組成物
JPS59229553A (ja) 光重合性組成物
WO2024194943A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び配線基板の製造方法
JPS61123603A (ja) 光重合性組成物
JP4230209B2 (ja) 感光性樹脂組成物
WO2024195502A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び配線基板の製造方法
JPS61173242A (ja) 光重合性組成物
JPH07103165B2 (ja) 光重合性組成物
JPH07330814A (ja) 光開始剤、感光性組成物、感光材料及びレリーフパターンの製造法
JPS61188533A (ja) 感光性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040401

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20041005

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041203

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050111

A521 Written amendment

Effective date: 20050309

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050405

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050418

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080513

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090513

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 5

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100513

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110513

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110513

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120513

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120513

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130513

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513

Year of fee payment: 9