JPH01158766A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPH01158766A
JPH01158766A JP62318143A JP31814387A JPH01158766A JP H01158766 A JPH01158766 A JP H01158766A JP 62318143 A JP62318143 A JP 62318143A JP 31814387 A JP31814387 A JP 31814387A JP H01158766 A JPH01158766 A JP H01158766A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mos transistor
gate
type mos
input
transistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62318143A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasushi Kawanami
河南 靖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP62318143A priority Critical patent/JPH01158766A/ja
Publication of JPH01158766A publication Critical patent/JPH01158766A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高速動作をする半導体装置において、入力段
での信号遅延を減じた上で、効果的な静電保護機能を有
した半導体装置に関するものである。
従来の技術 近年、半導体装置は、その動作速度の高速化が要求され
るなかで、静電保護回路を有したことによる入力初段で
の遅延が無視できなくなっている。
以下に従来の半導体装置について説明する。
第2図は従来の静電保護機能を有する半導体装置の等価
回路を示すものである。第2図において、■は入力端子
であり、2は入力保護抵抗である。3はP型MO8トラ
ンジスタであり、正電位側の静電保護素子である。4は
N型MOSトランジスタであり、負電位側の静電保護素
子である。
5はP型MOSトランジスタ、6はN型MOSトランジ
スタである。P型MOSトランジスタ3は、そのゲート
部とソース部とが共通に電源端子に接続され、ドレイン
部が入力初段から保護抵抗2を介した後の入力信号ノー
ドに接続される。N型MO3トランジスタ4は、そのゲ
ート部とソース部とが共通に接地され、トレイン部がP
型MOSトランジスタ3のドレイン部と同一の入力信号
ノードに接続される。P型MOSトランジスタ5および
N型MO3hランジスタロは、トレイン部とゲート部と
をそれぞれ共通接続し、相補型インバータ回路を構成し
ている。
まず、入力端子1に過大な正電位側のサージが印加され
た場合、保護抵抗2およびP型MO8+−ランジスタ3
とN型MO8トランジスタ4て形成される両静電保護素
子の各トレイン部のPN接合容量成分およびP型MOS
トランジスタ5およびN型MO8)ランシスタロで形成
されるCMO8のゲート部容量によって決定される時定
数分て、入力波形は遅延する。
電源電圧とP型MO3hランシスタ3のしきい値電圧の
和よりも高い電圧印加成分は、P型MOSトランジスタ
3がオン状態となるため印加されることはない。また、
負電位側の過大なサージが印加された場合も同様に、入
力初段部がらの時定数分で入力波形は遅延し、接地電位
とN型MOSトランジスタ4のしきい値電圧との和より
低い電圧印加成分は、N型MOSトランジスタ4がオン
状態となるため印加されることはない。このようにして
、過大なサージ印加からP型MOSトランジスタ5およ
びN型MOSトランジスタ6てなる相補型MOSインバ
ータ回路は保護される。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記の従来の構成では、高速半導体装置
にそのまま適用した場合、入力段に挿入する保護抵抗2
と入力段に付随する容量成分とによって発生する入力信
号の遅延が、全体の高速化に対し、無視てきな(なる。
本発明は、上記従来の問題点を解決するもので、入力段
での保護素子による、RC時定数成分での入力信号遅延
を減じなからも、従来と同等のサージ保護機能を有した
半導体装置を提供することを10勺とするものである。
問題点を解決するための手段 本発明は、相補対MO3)ランシスタロ成の各ゲートと
入力端子上の間に、おのおの抵抗を挿入するとともに、
前記各ゲートを対応導電型MOSトランジスタを介して
、電源の正負各端に接続した等個結合の半導体装置であ
る。
作用 この発明によると、高速動作する半導体装置において、
入力段での信号遅延を減した上で、効果的な静電気保護
機能を有することができろ。
実施例 以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
第1図は本発明の実施例における半導体装置の構成を示
す等価回路である。第1図において、1は入力端子、2
1および22は入力保護抵抗、3はP型MO3トランジ
スタ、4はN型MO8+−ランシスタ、5はP型MOS
トランジスタ、6はN型MOSトランジスタである。P
型MO3トランジスタ3は、そのゲート部とソース部と
が共通に電源端子に接続され、そのドレイン部が入力端
子1から保護抵抗21の他端と共に、P型MO3トラン
ジスタ5のゲート部に接続される。また、N型MO8ト
ランジスタ4は、そのゲート部とソース部とが共通に接
地され、そのドレイン部が入力初段から保護抵抗22の
他端と共に、N型MOSトランジスタ6のゲート部に接
続される。つまり、P型MOSトランジスタ5とN型M
O3hランシスタロとて構成される相補型インバータは
、その各ゲート部が、個々の保護抵抗21.22を介し
接続されている点か従来例と大きく異なる点である。
まず、入力端子1に過大な正電位側のサージが印加され
た場合、保護抵抗21および、P型MOSトランジスタ
3のドレイン部のPN接合容量成分およびP型MOSト
ランジスタ5のゲート部MO8容量によって決定される
RC時定数分で、入力波形は減衰され、電源電圧とP型
MOSトランジスタ3のしきい値電圧との和より高い電
圧印加成分は、P型MO8トランジスタ3がオン状態と
なるため、印加されることはない。ここで、保護抵抗2
1は、P型MO3)ランシスタ3のトレイン部およびP
型MO8+−ランジスタ5のゲート部の各容量成分を充
電する電流制限素子としての役割を持つ。従って、第2
図で示す従来例と同等の抵抗値で同等のサージ保護機能
を持たせることが可能である。この実施例の構成による
と、保護抵抗の相補型インバータ側に接続される容量成
分は、従来例の半分もしくはそれ以下となる。そのため
、P型MO8I−ランシスタ3をオン状態にする波形の
遅延は、従来例よりも大幅に改善される。入力端子1に
過大な負電位側のサージが印加された場合も、正電位側
のサージか印加された場合と同様、保護抵抗22および
、N型MO8+−ランシスタ4のドレイン部のPN接合
容量成分および、N型MOSトランジスタ6のゲート部
MOS容量によって決定されるRC時定数分で、入力波
形は減衰され、接地電位とN型MOSトランジスタ4の
しきい値電圧との和より低い電圧印加成分は、N型Mo
Sトランジスタ4かオン状態となるため印加されること
はない。この場合も、保護抵抗22の入力初段部MOS
トランジスタ側に接続される容量成分は、従来例の半分
もしくはそれ以下となり、N型MO8)−ランシスタ4
をオン状態にする波形の遅延は、従来例よりも大幅に改
善される。
以上のように本実施例によれば、入力端子より分岐後、
相補対のMO8型トランジスタの各ゲート部に接続する
際、個々のゲート部それぞれに、独立した静電保護回路
を有することにより、静電保護機能を減じることなく、
入力部からの高速な、信号伝達を可能どすることかでき
る。
なお、実施例において、相補型インバータに入力段が接
続されるとしたが、これは複数のゲートに入力信号が接
続される半導体装置すへてに適用可能である。
発明の効果 以上のように、本発明によると、入力初段部より分岐後
、複数のMO8型トランジスタのゲート部に接続する際
、個々のゲート部それぞれに、静電保護回路を有し、こ
の保護回路は、保護抵抗も含めて、入力初段部からの分
岐点より後方であり、かつMO8型トランジスタのゲー
ト部に到る間に設けることにより、有効な静電保護機能
を有し、かつ高速な入力信号の伝達を可能ならしめる半
導体装置を実現できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例における半導体装置の等価回路
図、第2図は従来の半導体装置の等価回路図である。 1・・・・・・入力端子、2,2]、、22・・・・・
・入力保護抵抗、3,5・・・・・・P型MO8+−ラ
ンシスタ、4゜6・・・・・・N型MOSトランジスタ
。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名第1図 第2図 /3 7s \4   ゝp

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  入力端子と相補対のMOSトランジスタの各ゲートと
    の間に、おのおの抵抗を挿入するとともに、前記各ゲー
    トを、対応導電型MOSトランジスタを介して、電源の
    正負各端に接続した構成をそなえた半導体装置。
JP62318143A 1987-12-16 1987-12-16 半導体装置 Pending JPH01158766A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62318143A JPH01158766A (ja) 1987-12-16 1987-12-16 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62318143A JPH01158766A (ja) 1987-12-16 1987-12-16 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01158766A true JPH01158766A (ja) 1989-06-21

Family

ID=18095976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62318143A Pending JPH01158766A (ja) 1987-12-16 1987-12-16 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01158766A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998020564A1 (en) * 1996-11-07 1998-05-14 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device and its manufacture
US6825504B2 (en) 1999-05-03 2004-11-30 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device and method of manufacturing the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998020564A1 (en) * 1996-11-07 1998-05-14 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device and its manufacture
US6825504B2 (en) 1999-05-03 2004-11-30 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device and method of manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0693497B2 (ja) 相補型mis集積回路
US5825601A (en) Power supply ESD protection circuit
US10181721B2 (en) Area-efficient active-FET ESD protection circuit
JP3061260B2 (ja) 静電気保護回路
JP3407975B2 (ja) 薄膜半導体集積回路
JP2570610B2 (ja) 半導体装置
JPH01158766A (ja) 半導体装置
JPH0379120A (ja) 入力保護回路
EP0424394A1 (en) AGENT FOR REDUCING DAMAGE TO JFETS BY ELECTROSTATIC DISCHARGE.
JPH0282570A (ja) 半導体装置
JPH01278771A (ja) 半導体集積回路の入力保護装置
JP2704065B2 (ja) 半導体集積回路
US6271705B1 (en) Data output circuits having enhanced ESD resistance and related methods
JP2747306B2 (ja) 半導体装置
JPH04213869A (ja) 集積回路の端子保護用回路装置
JPS62109354A (ja) 半導体集積回路
JPH03139121A (ja) 半導体装置
JPH02192760A (ja) 半導体集積回路装置の過電圧吸収回路
JPS63219153A (ja) 半導体集積回路
JPH0510829B2 (ja)
JP2000022075A (ja) 半導体集積回路
JPH025616A (ja) 出力レベル回路
JPS62287659A (ja) 半導体集積回路装置
JPH07176997A (ja) シュミットトリガ回路
JPH0244153B2 (ja)