JPH01156700A - 短波長光学系コリメート装置 - Google Patents
短波長光学系コリメート装置Info
- Publication number
- JPH01156700A JPH01156700A JP62316830A JP31683087A JPH01156700A JP H01156700 A JPH01156700 A JP H01156700A JP 62316830 A JP62316830 A JP 62316830A JP 31683087 A JP31683087 A JP 31683087A JP H01156700 A JPH01156700 A JP H01156700A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- short wavelength
- focus
- light
- collimated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 23
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 abstract description 3
- 101710133576 Slit homolog 2 protein Proteins 0.000 abstract description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 101700004678 SLIT3 Proteins 0.000 description 1
- 102100027339 Slit homolog 3 protein Human genes 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Lenses (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は短波長光源のコリメート装置に関するものであ
る。
る。
従来この種の装置は第２図または第３図に示すような構
造であった。第２図に於いて短波長光源３から出力され
たビームは光源の一部を焦点とする放物面鏡ｌで反射さ
れコリメートされる。第３図の例では短波長光源３から
出力されたビームは２個のアパーチャまたはスリット２
によりビームが制限され、コリメート機能を構成してい
た。
造であった。第２図に於いて短波長光源３から出力され
たビームは光源の一部を焦点とする放物面鏡ｌで反射さ
れコリメートされる。第３図の例では短波長光源３から
出力されたビームは２個のアパーチャまたはスリット２
によりビームが制限され、コリメート機能を構成してい
た。
短波長（波長く画人程度）領域で使われる光源に於て、
代表的なＸ線を例にとると点光源ではなくむしろ有限の
大きさを持った面光源が多い、第２図に於いて放物面鏡
１の焦点Ｆに配置した光源３から出力されるビームのう
ち、焦点Ｆから出力されたビームのみが反射した後、放
物面鏡１の光軸ＸＸ°に対して平行にコリメートされる
が、焦点Ｆから離れた位置より出力されるビームは第２
図に示すように収斂、発散の各射線を持ったビームとな
る。第３図の例でも同様で収斂及び発散の各射線を有す
るビームとなる。しかるにコリメートされる光はアパー
チャ又はスリット面に垂直に入射されるものだけであり
、光量の低下が問題となる。
代表的なＸ線を例にとると点光源ではなくむしろ有限の
大きさを持った面光源が多い、第２図に於いて放物面鏡
１の焦点Ｆに配置した光源３から出力されるビームのう
ち、焦点Ｆから出力されたビームのみが反射した後、放
物面鏡１の光軸ＸＸ°に対して平行にコリメートされる
が、焦点Ｆから離れた位置より出力されるビームは第２
図に示すように収斂、発散の各射線を持ったビームとな
る。第３図の例でも同様で収斂及び発散の各射線を有す
るビームとなる。しかるにコリメートされる光はアパー
チャ又はスリット面に垂直に入射されるものだけであり
、光量の低下が問題となる。
更にはアパーチャ又はスリットの間隔ｌを長くするか、
開口を小さくしなければならないと云う問題点があった
。
開口を小さくしなければならないと云う問題点があった
。
本発明はかかる問題点を解決したコリメート装置を提供
することを目的とする。
することを目的とする。
上記目的のため本発明では第１図に示すようにコリメー
ト機能を有する反射光学素子１とアパーチャまたはスリ
ット２を組合せて構成するコリメート装置とした。
ト機能を有する反射光学素子１とアパーチャまたはスリ
ット２を組合せて構成するコリメート装置とした。
本発明に於いては、反射光学系のみの場合問題となるコ
リメートされていない光の除去はアパーチャ又はスリッ
トが行ない、アパーチャ又はスリットのみの場合に問題
となる光量の減少、光学系の長さは共に反射光学系によ
って解決される。
リメートされていない光の除去はアパーチャ又はスリッ
トが行ない、アパーチャ又はスリットのみの場合に問題
となる光量の減少、光学系の長さは共に反射光学系によ
って解決される。
上記の如き構成により短波長光のコリメートが効率良〈
実施出来る。
実施出来る。
第１図は本発明の第１の実施例であって、放物面鏡１の
焦点に配置された短波長光源３から放射されたビームは
放物面鏡１で反射されコリメートされる。しかし光源３
は点光源ではなく面光源であるので焦点から離れた位置
より放射されたビームはコリメートされず、収斂もしく
は発散する。
焦点に配置された短波長光源３から放射されたビームは
放物面鏡１で反射されコリメートされる。しかし光源３
は点光源ではなく面光源であるので焦点から離れた位置
より放射されたビームはコリメートされず、収斂もしく
は発散する。
つまり放物面鏡１からの反射光はコリメートされたビー
ムだけでなく発散・収斂するビームを含んでいる。アパ
ーチャ又はスリット２によりコリメートされていないビ
ームは除去され、コリメートされたビームのみを得るこ
とができる。
ムだけでなく発散・収斂するビームを含んでいる。アパ
ーチャ又はスリット２によりコリメートされていないビ
ームは除去され、コリメートされたビームのみを得るこ
とができる。
第４図は本発明の第２の実施例である。反射光学素子は
、焦点を共有した双曲面鏡４と放物面鏡ｌとで構成され
ている。双曲面鏡４の焦点Ｆ２から放射されたビームは
双曲面鏡４で反射されるとあたかも、焦点Ｆ、から放射
されたような光路をとって放物面鏡１に入射される。Ｆ
、は双曲面鏡４と放物面鏡１の共通焦点なので放物面鏡
１からの反射光は光軸ＸＸ° と平行になりコリメート
される。上述のような構成により光路長の短縮が可能と
なる。
、焦点を共有した双曲面鏡４と放物面鏡ｌとで構成され
ている。双曲面鏡４の焦点Ｆ２から放射されたビームは
双曲面鏡４で反射されるとあたかも、焦点Ｆ、から放射
されたような光路をとって放物面鏡１に入射される。Ｆ
、は双曲面鏡４と放物面鏡１の共通焦点なので放物面鏡
１からの反射光は光軸ＸＸ° と平行になりコリメート
される。上述のような構成により光路長の短縮が可能と
なる。
〔発明の効果］
以上の様に本発明によれば従来知られていたコリメート
素子を組合せることで、良好にコリメートされた短波長
ビームを簡単に得ることが可能となったばかりでなく、
アパーチャ又はスリットのみで実現したコリメート系と
比較して、光量損失の少ないコリメート系が出来る。
素子を組合せることで、良好にコリメートされた短波長
ビームを簡単に得ることが可能となったばかりでなく、
アパーチャ又はスリットのみで実現したコリメート系と
比較して、光量損失の少ないコリメート系が出来る。
更に第４図に示すように反射光学系を工夫することでコ
リメート光学系をコンパクトにまとめられる利点もある
。
リメート光学系をコンパクトにまとめられる利点もある
。
第１図は本発明による装置の実用例を示す構成図、第２
、第３図は従来方法である。第４図は本発明の第２の実
施例である。 〔主要部分の符号の説明〕 １・・・・・・放物面鏡等 ２・・・・・・アパーチャまたはスリット３・・・・・
・短波長光源 ４・・・・・・双曲面ミラー 出願人 日本光学工業株式会社
、第３図は従来方法である。第４図は本発明の第２の実
施例である。 〔主要部分の符号の説明〕 １・・・・・・放物面鏡等 ２・・・・・・アパーチャまたはスリット３・・・・・
・短波長光源 ４・・・・・・双曲面ミラー 出願人 日本光学工業株式会社
Claims (2)
- （１）短波長反射光学素子と該短波長反射光学素子の反
射光側の光軸に平行な光路上に少なくとも２個のアパー
チャ又はスリットを配置したことを特徴とする短波長光
学系コリメート装置。 - （２）前記短波長反射光学素子は放物面鏡、放物面鏡と
双曲面鏡の組合せ及び放物面鏡と楕円鏡の組合せから成
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の短波
長光学系コリメート装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62316830A JPH01156700A (ja) | 1987-12-15 | 1987-12-15 | 短波長光学系コリメート装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62316830A JPH01156700A (ja) | 1987-12-15 | 1987-12-15 | 短波長光学系コリメート装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01156700A true JPH01156700A (ja) | 1989-06-20 |
Family
ID=18081394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62316830A Pending JPH01156700A (ja) | 1987-12-15 | 1987-12-15 | 短波長光学系コリメート装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01156700A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52136592A (en) * | 1976-05-10 | 1977-11-15 | Searle & Co | Radiation picture device improving resolution with small radioactive injury |
| JPS5627930A (en) * | 1979-08-13 | 1981-03-18 | American Science & Eng Inc | Xxray lithographic system |
| JPS61167846A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
| JPH01102398A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-04-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | コリメート光学系 |
-
1987
- 1987-12-15 JP JP62316830A patent/JPH01156700A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52136592A (en) * | 1976-05-10 | 1977-11-15 | Searle & Co | Radiation picture device improving resolution with small radioactive injury |
| JPS5627930A (en) * | 1979-08-13 | 1981-03-18 | American Science & Eng Inc | Xxray lithographic system |
| JPS61167846A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Ｘ線による被測定物の組成分析方法 |
| JPH01102398A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-04-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | コリメート光学系 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101183858B1 (ko) | 선택적인 광선 각도 재순환을 이용한 ｌｅｄ의 광도 향상 | |
| JPH0412039B2 (ja) | ||
| US4017163A (en) | Angle amplifying optics using plane and ellipsoidal reflectors | |
| US5217299A (en) | Reflection type lighting apparatus | |
| US3442591A (en) | Apparatus for measuring the raman effect of samples of infinitesimal quantities | |
| US5651086A (en) | Trilaminar dual reflex light guide | |
| US5724183A (en) | Light gathering apparatus | |
| JPH01156700A (ja) | 短波長光学系コリメート装置 | |
| US3397024A (en) | Optical prism for use in beam divergence reducing apparatus | |
| CN111148986B (zh) | 一种紧凑型传感器件 | |
| JPS62180343A (ja) | 投射光学装置 | |
| JPS60233600A (ja) | Ｘ線レンズ | |
| JP3254939B2 (ja) | 光通信用の光学装置 | |
| JPS62186219A (ja) | 半導体レ−ザ−装置 | |
| JP2777851B2 (ja) | 光アイソレータ | |
| US4214817A (en) | Prismatic light beam expansion or compression system | |
| US20230208095A1 (en) | Lighting optical system | |
| KR930001644Y1 (ko) | 집속성이 개선된 평행광학장치 | |
| JPWO2020180972A5 (ja) | ||
| JPS5917523A (ja) | 光学装置 | |
| JPH04174422A (ja) | 光源システム | |
| JPH0685399A (ja) | レーザ光源装置 | |
| JPS5852545Y2 (ja) | 光波距離計 | |
| GB2213955A (en) | Reflectors providing constant angle between input and output beams | |
| JPS60129941A (ja) | 光学ヘツド |