JPH01155647A - 半導体パッケージ - Google Patents
半導体パッケージInfo
- Publication number
- JPH01155647A JPH01155647A JP62314041A JP31404187A JPH01155647A JP H01155647 A JPH01155647 A JP H01155647A JP 62314041 A JP62314041 A JP 62314041A JP 31404187 A JP31404187 A JP 31404187A JP H01155647 A JPH01155647 A JP H01155647A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor package
- semiconductor
- bubbles
- liquid nitrogen
- nitrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 67
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 18
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 235000019592 roughness Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
Landscapes
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体パッケージに関するものであり、特に
、冷却液中に浸漬することによって、収納した半導体チ
ップから発生した熱を冷却する半導体パッケージに関す
るものである。
、冷却液中に浸漬することによって、収納した半導体チ
ップから発生した熱を冷却する半導体パッケージに関す
るものである。
近年、半導体チップを収納した半導体装置を液体窒素中
に浸漬することによって、前記半導体チップを極低温に
冷却して動作させる技術が開発されている[エレクトロ
ン・デバイス、ボリュウム・イーデイ−34・ナンバー
ト1987年1月号(Electron Device
、Vol ED 34.NOI、Jan、、1987.
pi67〜p313)] 、この冷却技術は、液体窒素
を加熱された半導体パッケージで沸騰させることにより
、半導体チップを冷却するものである。
に浸漬することによって、前記半導体チップを極低温に
冷却して動作させる技術が開発されている[エレクトロ
ン・デバイス、ボリュウム・イーデイ−34・ナンバー
ト1987年1月号(Electron Device
、Vol ED 34.NOI、Jan、、1987.
pi67〜p313)] 、この冷却技術は、液体窒素
を加熱された半導体パッケージで沸騰させることにより
、半導体チップを冷却するものである。
本発明者は、前記半導体チップを液体窒素で冷却する技
術を検討した結果、次の問題点を見出した。
術を検討した結果、次の問題点を見出した。
前記半導体装置を液体窒素中に浸漬した時、液体窒素は
、半導体パッケージの表面で沸騰する際に気泡となる。
、半導体パッケージの表面で沸騰する際に気泡となる。
このとき、従来の半導体パッケージでは、その基板や蓋
の外側の表面が、鏡面のように平担になっているため、
発生した気泡が半導体パッケージの表面から離れにくく
、大きく成長し易い。このため、大きく成長した気泡に
よって、液体窒素と半導体パッケージの接触が妨げられ
て、冷却効率を著しく低下するという問題があった。
の外側の表面が、鏡面のように平担になっているため、
発生した気泡が半導体パッケージの表面から離れにくく
、大きく成長し易い。このため、大きく成長した気泡に
よって、液体窒素と半導体パッケージの接触が妨げられ
て、冷却効率を著しく低下するという問題があった。
本発明の目的は、半導体パッケージの表面に発生する窒
素の気泡を離脱し易くして、冷却効率を高める技術を提
供することにある。
素の気泡を離脱し易くして、冷却効率を高める技術を提
供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、半導体パッケージの外側の表面を粗面にした
ものである。
ものである。
前述した手段によれば、半導体パッケージの蓋や基板の
外側の表面が粗面にされるため、窒素の気泡が半導体パ
ッケージの表面で均一に発生して、大きくならないうち
に離脱していく。これにより、気泡が液体窒素と半導体
パッケージの接触を妨げることがなくなるので、冷却効
率を高くすることができる。
外側の表面が粗面にされるため、窒素の気泡が半導体パ
ッケージの表面で均一に発生して、大きくならないうち
に離脱していく。これにより、気泡が液体窒素と半導体
パッケージの接触を妨げることがなくなるので、冷却効
率を高くすることができる。
以下、本発明の一実施例を図面を用いて説明する。
第1図は、本発明の一実施例の半導体パッケージを説明
するための図である。
するための図である。
第1図において、10は半導体装置であり1例えば単結
晶シリコン基板からなる半導体チップ1と、例えばセラ
ミックからなる半導体パッケージ基板3と、この半導体
パッケージ基板3に形成された例えば銅(Cu)からな
る配線7と、配線7とポンディングパッド5の間を接続
するボンディングワイヤ(例えばAu)6と、配、17
に接続したリード4と、例えばセラミックからなる蓋9
とで構成されている。3Aは、半導体パッケージ基板3
の側壁であり、半導体パッケージ基板3と一体に形成さ
れている。半導体パッケージ基板3(側壁3Aを含む)
と、蓋9と、配線7と、蓋9と側壁3Aの間を密封して
いるAu−5n共晶層8は、半導体パッケージを構成す
るものである。半導体チップ1の表面には、Nチャネル
MISFETとPチャネルMISFETとからなるC−
MISFETあるいはバイポーラトランジスタによって
集積回路が構成されている。半導体チップ1は、例えば
Au−5n共晶層2で半導体パッケージ基板3の所定部
分に固定して搭載されている。半導体パッケージ基板3
の底面と蓋9の上面は、第1図に示したように、多数の
凹凸を有する形状にして粗面されている。半導体装置1
0は、半導体チップ1を極低温で動作させるために、液
体窒素12の中に浸漬される。13は液体窒素12の保
温槽である。
晶シリコン基板からなる半導体チップ1と、例えばセラ
ミックからなる半導体パッケージ基板3と、この半導体
パッケージ基板3に形成された例えば銅(Cu)からな
る配線7と、配線7とポンディングパッド5の間を接続
するボンディングワイヤ(例えばAu)6と、配、17
に接続したリード4と、例えばセラミックからなる蓋9
とで構成されている。3Aは、半導体パッケージ基板3
の側壁であり、半導体パッケージ基板3と一体に形成さ
れている。半導体パッケージ基板3(側壁3Aを含む)
と、蓋9と、配線7と、蓋9と側壁3Aの間を密封して
いるAu−5n共晶層8は、半導体パッケージを構成す
るものである。半導体チップ1の表面には、Nチャネル
MISFETとPチャネルMISFETとからなるC−
MISFETあるいはバイポーラトランジスタによって
集積回路が構成されている。半導体チップ1は、例えば
Au−5n共晶層2で半導体パッケージ基板3の所定部
分に固定して搭載されている。半導体パッケージ基板3
の底面と蓋9の上面は、第1図に示したように、多数の
凹凸を有する形状にして粗面されている。半導体装置1
0は、半導体チップ1を極低温で動作させるために、液
体窒素12の中に浸漬される。13は液体窒素12の保
温槽である。
半導体パッケージ3及び蓋9の液体窒素12が接してい
る外側の表面では、液体窒素12が半導体チップ1の動
作時に発生した熱によって沸騰するため、気泡17が発
生する。このとき、半導体パッケージ基板3の表面及び
蓋9の表面が凹凸状すなわち粗面になっていると、泡1
7がそれらの表面で均一発生し、また、泡17が大きく
成長しないうちに前記表面から離脱していく、この為、
気泡17が蓋9や半導体パッケージ基板3の表面を覆わ
なくなり、液体窒素12との接触が良好になるので、半
導体装置10の冷却効率を高めることができる。なお、
発熱体の表面を粗面にすると、その表面での気泡の発生
が盛んになることは、例えば、日本機械学会発行、「機
械工学便覧」第11編32ページに記載されている。
る外側の表面では、液体窒素12が半導体チップ1の動
作時に発生した熱によって沸騰するため、気泡17が発
生する。このとき、半導体パッケージ基板3の表面及び
蓋9の表面が凹凸状すなわち粗面になっていると、泡1
7がそれらの表面で均一発生し、また、泡17が大きく
成長しないうちに前記表面から離脱していく、この為、
気泡17が蓋9や半導体パッケージ基板3の表面を覆わ
なくなり、液体窒素12との接触が良好になるので、半
導体装置10の冷却効率を高めることができる。なお、
発熱体の表面を粗面にすると、その表面での気泡の発生
が盛んになることは、例えば、日本機械学会発行、「機
械工学便覧」第11編32ページに記載されている。
前記半導体装置10の冷却装置は、第2図に示したよう
になっている。第2図は、本発明の一実施例の半導体装
置を液体窒素で冷却するための冷却装置の概要を示した
ものである。
になっている。第2図は、本発明の一実施例の半導体装
置を液体窒素で冷却するための冷却装置の概要を示した
ものである。
第2図に示したように、半導体装置10はプリント基板
11に複数実装された状態で液体窒素12の中に浸漬さ
れる。それぞれのプリント基板11には、配管14の中
を通して信号ケーブル15が接続されている。液体窒素
12を入れる保温槽13の底や壁は、中空になっており
、その内部は真空状態にされている。16は冷却器であ
り、気化した液体窒素12を冷却して液体にもどすため
のものである。
11に複数実装された状態で液体窒素12の中に浸漬さ
れる。それぞれのプリント基板11には、配管14の中
を通して信号ケーブル15が接続されている。液体窒素
12を入れる保温槽13の底や壁は、中空になっており
、その内部は真空状態にされている。16は冷却器であ
り、気化した液体窒素12を冷却して液体にもどすため
のものである。
以上、本発明を実施例にもとづき具体的に説明したが1
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は言うまでもない。
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は言うまでもない。
例えば、半導体パッケージ基板3及び蓋9の液体窒素1
2が接する粗面は、前記凹凸状に限られたものではなく
、多孔質状であってもよい。
2が接する粗面は、前記凹凸状に限られたものではなく
、多孔質状であってもよい。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
半導体パッケージの蓋や基板の外側の表面を粗面にした
ことにより、窒素の気泡が半導体パッケージの表面で均
一に発生して、大きくならないうちに離脱していくよう
になる。これから、気泡が液体窒素と半導体パッケージ
の接触を妨げなくなるので、半導体装置の冷却効率を高
くすることができる。
ことにより、窒素の気泡が半導体パッケージの表面で均
一に発生して、大きくならないうちに離脱していくよう
になる。これから、気泡が液体窒素と半導体パッケージ
の接触を妨げなくなるので、半導体装置の冷却効率を高
くすることができる。
第1図は、本発明の一実施例の半導体パッケージを説明
するための図、 第2図は、本発明の一実施例の半導体装置を液体窒素で
冷却するための冷却装置の概要を示したものである。 図中、1・・・半導体チップ、2,8・・・Au−3n
層、3・・・半導体パッケージ基板(セラミック)、4
・・・リード、5・・・ポンディングパッド、6・・・
ボンディングワイヤ、7・・・配線、9・・・蓋(セラ
ミック)、10・・・半導体装置、11・・・プリント
基板、12・・・液体窒素、13・・・保温槽、14・
・・配管、15・・・信号ケーブル。 16・・・冷却器、17・・・気泡。 、°・1:]む゛1、 代理人 弁理士 小川勝男 ゛(シ
するための図、 第2図は、本発明の一実施例の半導体装置を液体窒素で
冷却するための冷却装置の概要を示したものである。 図中、1・・・半導体チップ、2,8・・・Au−3n
層、3・・・半導体パッケージ基板(セラミック)、4
・・・リード、5・・・ポンディングパッド、6・・・
ボンディングワイヤ、7・・・配線、9・・・蓋(セラ
ミック)、10・・・半導体装置、11・・・プリント
基板、12・・・液体窒素、13・・・保温槽、14・
・・配管、15・・・信号ケーブル。 16・・・冷却器、17・・・気泡。 、°・1:]む゛1、 代理人 弁理士 小川勝男 ゛(シ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、冷却液中に浸漬させて、収納した半導体チップから
発生した熱を冷却する半導体パッケージにおいて、前記
半導体パッケージの外側の表面を粗面にしたことを特徴
とする半導体パッケージ。 2、前記粗面は、半導体パッケージの上面及び下面に形
成されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の半導体パッケージ。 3、前記粗面は、半導体パッケージの表面を凹凸または
多孔質に形成したものであることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の半導体パッケージ。 4、前記冷却液は、液体窒素等の極低温液体であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体パッケ
ージ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62314041A JPH01155647A (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 半導体パッケージ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62314041A JPH01155647A (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 半導体パッケージ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01155647A true JPH01155647A (ja) | 1989-06-19 |
Family
ID=18048501
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62314041A Pending JPH01155647A (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 半導体パッケージ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01155647A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006073660A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Corp | 電気素子収納用パッケージ、電気素子ユニットおよび電気素子冷却モジュール |
JP2006073659A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Corp | 電気素子収納用パッケージ、電気素子ユニットおよび電気素子冷却モジュール |
JP2006073658A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Corp | 電気素子収納用パッケージ、電気素子ユニットおよび電気素子冷却モジュール |
JP2006073661A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Corp | 電気素子収納用パッケージ、電気素子ユニットおよび電気素子冷却モジュール |
JP2006073662A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Corp | 電気素子収納用パッケージ、電気素子ユニットおよび電気素子冷却モジュール |
-
1987
- 1987-12-14 JP JP62314041A patent/JPH01155647A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006073660A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Corp | 電気素子収納用パッケージ、電気素子ユニットおよび電気素子冷却モジュール |
JP2006073659A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Corp | 電気素子収納用パッケージ、電気素子ユニットおよび電気素子冷却モジュール |
JP2006073658A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Corp | 電気素子収納用パッケージ、電気素子ユニットおよび電気素子冷却モジュール |
JP2006073661A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Corp | 電気素子収納用パッケージ、電気素子ユニットおよび電気素子冷却モジュール |
JP2006073662A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Kyocera Corp | 電気素子収納用パッケージ、電気素子ユニットおよび電気素子冷却モジュール |
JP4496041B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2010-07-07 | 京セラ株式会社 | 電気素子冷却モジュール |
JP4496042B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2010-07-07 | 京セラ株式会社 | 電気素子冷却モジュール |
JP4496044B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2010-07-07 | 京セラ株式会社 | 電気素子冷却モジュール |
JP4496040B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2010-07-07 | 京セラ株式会社 | 電気素子冷却モジュール |
JP4496043B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2010-07-07 | 京セラ株式会社 | 電気素子冷却モジュール |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5598031A (en) | Electrically and thermally enhanced package using a separate silicon substrate | |
US4684975A (en) | Molded semiconductor package having improved heat dissipation | |
KR880008437A (ko) | 반도체 장치 및 그 제조방법과 이에 사용하는 와이어 본딩장치 | |
JPH01155647A (ja) | 半導体パッケージ | |
JPH07106468A (ja) | 液体を含有する微小電子デバイス・パッケージとその方法 | |
JPH0945827A (ja) | 半導体装置 | |
US5093713A (en) | Semiconductor device package | |
JPH0342512B2 (ja) | ||
JPH04249353A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPS58114500A (ja) | 高密度実装基板 | |
JP2690248B2 (ja) | 表面実装型半導体装置 | |
US7181835B2 (en) | Universal clamping mechanism | |
JPS62194653A (ja) | 半導体装置 | |
JPH10294403A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0334863B2 (ja) | ||
JPS635250Y2 (ja) | ||
JPH02288255A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0444419B2 (ja) | ||
JPH11289031A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPH04225554A (ja) | 樹脂パッケージ | |
JPH04207059A (ja) | 半導体装置 | |
JPH01132145A (ja) | 半導体装置 | |
JPH01238099A (ja) | 混成集積回路装置 | |
JPS60254637A (ja) | 沸騰冷却用の半導体素子パツケ−ジ | |
JPS5927544A (ja) | 半導体基板とその製造方法およびこれを用いた半導体装置 |