JPH01155251A - 表面分析装置 - Google Patents
表面分析装置Info
- Publication number
- JPH01155251A JPH01155251A JP62314781A JP31478187A JPH01155251A JP H01155251 A JPH01155251 A JP H01155251A JP 62314781 A JP62314781 A JP 62314781A JP 31478187 A JP31478187 A JP 31478187A JP H01155251 A JPH01155251 A JP H01155251A
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- Pending
Links
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- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 19
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 claims description 6
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- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 abstract description 11
- 238000012797 qualification Methods 0.000 abstract 1
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は、未知試料の元素について迅速な定性分析を行
うことができる表面分析装置に関する。
うことができる表面分析装置に関する。
(ロ)従来技術とその問題点
表面分析装置として、たとえばEPMAを適用して未知
試料の元素の定性分析を行う場合には、従来、始めに電
子ビームを二次元走査しつつ、試料からの二次電子ある
いは反射電子を検出してCRTモニタに第2図に示すよ
うなSEM像あるいは反射電子像を表示する。そして、
その表示画像を観察して介在物■等が見付かった場合に
は、その介在物I等の存在する部分に対して改めて電子
ビームを照射するとともに、分光器を動かして広範囲に
波長走査を行い、試料から発生される特性X線を検出す
ることで介在物I等に含まれる元素を特定するようにし
ている。
試料の元素の定性分析を行う場合には、従来、始めに電
子ビームを二次元走査しつつ、試料からの二次電子ある
いは反射電子を検出してCRTモニタに第2図に示すよ
うなSEM像あるいは反射電子像を表示する。そして、
その表示画像を観察して介在物■等が見付かった場合に
は、その介在物I等の存在する部分に対して改めて電子
ビームを照射するとともに、分光器を動かして広範囲に
波長走査を行い、試料から発生される特性X線を検出す
ることで介在物I等に含まれる元素を特定するようにし
ている。
このように、従来、未知試料の定性分析を行うには、S
EM像や反射電子像を表示し、その後に、改めて全波長
範囲に渡って分光器を走査する必要があるため、定性分
析に時間がかかっていた。
EM像や反射電子像を表示し、その後に、改めて全波長
範囲に渡って分光器を走査する必要があるため、定性分
析に時間がかかっていた。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、未知試料の定性分析を迅速に行えるようにすること
を目的とする。
て、未知試料の定性分析を迅速に行えるようにすること
を目的とする。
(ハ)問題点を解決するための手段
試料に電子ビームを照射した場合、試料からは二次電子
や特性X線の外に反射電子も発生する。
や特性X線の外に反射電子も発生する。
この反射電子の信号レベルは平均原子番号に対応してい
る。したがって、予め既知試料の元素についてその反射
電子の信号レベルを測定しておき、未知試料からの反射
電子の信号レベルと比較すれば、未知試料の定性を一次
近似的に行うことが可能となる。
る。したがって、予め既知試料の元素についてその反射
電子の信号レベルを測定しておき、未知試料からの反射
電子の信号レベルと比較すれば、未知試料の定性を一次
近似的に行うことが可能となる。
本発明は、かかる点に着目したものであって、上述した
目的を達成するために、次の構成を採る。
目的を達成するために、次の構成を採る。
すなわち、本発明の表面分析装置では、既知試料に対し
て電子ビームを照射することにより発生される反射電子
を検出して得られるBSE信号を記憶する既知データメ
モリと、未知試料に対して電子ビームを二次元走査する
ことにより発生される反射電子を検出して得られるBS
E信号を記憶する画像メモリと、前記画像メモリに記憶
された未知試料のBSE信号と前記既知データメモリに
記憶されたBSE信号とのレベルを比較して未知試料の
元素を判定する比較判定部とを備えている。
て電子ビームを照射することにより発生される反射電子
を検出して得られるBSE信号を記憶する既知データメ
モリと、未知試料に対して電子ビームを二次元走査する
ことにより発生される反射電子を検出して得られるBS
E信号を記憶する画像メモリと、前記画像メモリに記憶
された未知試料のBSE信号と前記既知データメモリに
記憶されたBSE信号とのレベルを比較して未知試料の
元素を判定する比較判定部とを備えている。
(ニ)作用
未知試料の定性分析に先立って、既知試料に対して電子
ビームを照射し、これにより発生される反射電子を検出
して得られるBSE信号を既知データメモリにデータベ
ースとして記憶しておく。
ビームを照射し、これにより発生される反射電子を検出
して得られるBSE信号を既知データメモリにデータベ
ースとして記憶しておく。
次に、未知試料について既知試料と同一の分析条件の下
で電子ビームを二次元走査すると、これにより発生され
る反射電子を検出して得られるBSE信号が画像メモリ
に記憶される。続いて、比較判定部は、画像メモリに記
憶された未知試料のBSE信号と既知データメモリに記
憶されたBSE信号とのレベルを比較し、これから未知
試料の元素を判定する。
で電子ビームを二次元走査すると、これにより発生され
る反射電子を検出して得られるBSE信号が画像メモリ
に記憶される。続いて、比較判定部は、画像メモリに記
憶された未知試料のBSE信号と既知データメモリに記
憶されたBSE信号とのレベルを比較し、これから未知
試料の元素を判定する。
このため、特性X線の波長走査を再度行わなくても未知
試料に含まれる元素を特定することができる。
試料に含まれる元素を特定することができる。
(ホ)実施例
以下、本発明の表面分析装置について、EPMAに適用
した場合について説明する。
した場合について説明する。
第1図はEPMAの要部を示すブロック構成図である。
同図において、符号■はEPMA本体、2は試料、4電
子ビーム銃、6は光電子増倍管等の検出器、8は試料2
に電子ビームを照射することにより発生される反射電子
を検出器6で検出して得られるBSE信号を増幅する増
幅器、10は増幅器8の出力をデジタル化するA/D変
換器である。
子ビーム銃、6は光電子増倍管等の検出器、8は試料2
に電子ビームを照射することにより発生される反射電子
を検出器6で検出して得られるBSE信号を増幅する増
幅器、10は増幅器8の出力をデジタル化するA/D変
換器である。
12は既知試料に対して電子ビームを照射することによ
り発生される反射電子を検出して得られるBSE信号を
記憶する既知データメモリ、14は未知試料に対して電
子ビームを二次元走査することにより発生される反射電
子を検出して得られるBSE信号を記憶する画像メモリ
、!6け“パE信号を既知データメモ′す12と画像メ
モリ!4とに選択して出力するデータ選択部、18は画
像メモリ14に記憶された未知試料のBSB信号と既知
データメモリ!2に記憶されたBSE信号とのレベルを
比較して未知試料の元素を判定する比較判定部である。
り発生される反射電子を検出して得られるBSE信号を
記憶する既知データメモリ、14は未知試料に対して電
子ビームを二次元走査することにより発生される反射電
子を検出して得られるBSE信号を記憶する画像メモリ
、!6け“パE信号を既知データメモ′す12と画像メ
モリ!4とに選択して出力するデータ選択部、18は画
像メモリ14に記憶された未知試料のBSB信号と既知
データメモリ!2に記憶されたBSE信号とのレベルを
比較して未知試料の元素を判定する比較判定部である。
画像メモリ14に記憶されているBSE信号および比較
判定部18での判定信号を画像表示信号に変換する表示
回路、22はCRTモニタ、24は分析条件の設定等を
行う操作部、26は操作部24で設定された分析条件に
基づいて電子ビーム銃4の加速電圧やビーム走査範囲を
制御するとともに、検出器6の検出感度、データ選択部
16、両メモリ!2.14の信号の書き込み、読み出し
、比較判定部18の各動作を制御するCPUである。
判定部18での判定信号を画像表示信号に変換する表示
回路、22はCRTモニタ、24は分析条件の設定等を
行う操作部、26は操作部24で設定された分析条件に
基づいて電子ビーム銃4の加速電圧やビーム走査範囲を
制御するとともに、検出器6の検出感度、データ選択部
16、両メモリ!2.14の信号の書き込み、読み出し
、比較判定部18の各動作を制御するCPUである。
次に、上記構成の動作について説明する。
未知試料の定性分析に先立って、まず、操作部24から
電子ビームの加速電圧、検出器の検出感度等の分析条件
を設定し、かつ、データ選択部16を既知データメモリ
12側に接続した後、設定された分析条件の下で、元素
含有量の既知試料に対して電子ビームを照射し、これに
より既知試料から発生される反射電子を検出器6で検出
する。
電子ビームの加速電圧、検出器の検出感度等の分析条件
を設定し、かつ、データ選択部16を既知データメモリ
12側に接続した後、設定された分析条件の下で、元素
含有量の既知試料に対して電子ビームを照射し、これに
より既知試料から発生される反射電子を検出器6で検出
する。
検出器6から出力されるBSE信号は、増幅器8、A/
D変換器IOおよびデータ選択部16を介して既知デー
タメモリ12に記憶される。
D変換器IOおよびデータ選択部16を介して既知デー
タメモリ12に記憶される。
こうして、AI、Si、Fe、Or等の各元素について
得られるBSE信号の強度レベルが既知データメモリ1
2にデータベースとして記憶されると、次に、操作部2
4により既知試料と同一の分析条件を設定し、かつ、デ
ータ選択部16を画像メモリ14側に接続した後、上記
の分析条件の下で、未知試料について電子ビームを二次
元走査する。これに伴って未知試料から発生される反射
電子を検出器6で検出する。検出器6から出力されるB
SE信号は、増幅器8、A/D変換変換器l上びデータ
選択部16を介して画像メモリ14に記憶される。
得られるBSE信号の強度レベルが既知データメモリ1
2にデータベースとして記憶されると、次に、操作部2
4により既知試料と同一の分析条件を設定し、かつ、デ
ータ選択部16を画像メモリ14側に接続した後、上記
の分析条件の下で、未知試料について電子ビームを二次
元走査する。これに伴って未知試料から発生される反射
電子を検出器6で検出する。検出器6から出力されるB
SE信号は、増幅器8、A/D変換変換器l上びデータ
選択部16を介して画像メモリ14に記憶される。
画像メモリ14に記憶されたBSE信号は、CPU2B
によってTV走査に同期して読み出され、表示回路20
で映像信号に変換された後、CrtTモニタ22に出力
される。これにより、CRTモニタ22には反射電子像
が表示される。
によってTV走査に同期して読み出され、表示回路20
で映像信号に変換された後、CrtTモニタ22に出力
される。これにより、CRTモニタ22には反射電子像
が表示される。
反射電子像を観察した結果、たとえば第2図に示すよう
な介在物■が存在し、その介在物!を定性する必要があ
る場合?こは、操作部24からCPU26に指令を与え
、画像メモリ14の介在物■を含む部分に対応する記憶
領域についてウィンドを設定するなどして、その領域内
に含まれるBSE信号を読み出す。同時に既知データメ
モリ12に記憶されている既知元素のBSE信号のデー
タを読み出す。両メモリ14.12から読み出された各
BSE信号データは比較判定部18に送出される。
な介在物■が存在し、その介在物!を定性する必要があ
る場合?こは、操作部24からCPU26に指令を与え
、画像メモリ14の介在物■を含む部分に対応する記憶
領域についてウィンドを設定するなどして、その領域内
に含まれるBSE信号を読み出す。同時に既知データメ
モリ12に記憶されている既知元素のBSE信号のデー
タを読み出す。両メモリ14.12から読み出された各
BSE信号データは比較判定部18に送出される。
比較判定部18は、画像メモリ14からの未知試料のB
SE信号と既知データメモリ12からのBSE信号のレ
ベルを比較する。この場合、反射電子の信号レベルは平
均原子番号に対応しているので、未知試料のBSB信号
のレベルが既知データメモリ12からのBSE信号のレ
ベルと一致した場合、その一致したレベルを示す既知の
元素が未知試料に含まれる元素であると判定する。そし
て、その判別結果が表示回路20を介してCRTモニタ
22に元素名等で表示される。したがって、特性X線の
波長走査を再度行わなくても未知試料に含まれる元素を
特定することができる。
SE信号と既知データメモリ12からのBSE信号のレ
ベルを比較する。この場合、反射電子の信号レベルは平
均原子番号に対応しているので、未知試料のBSB信号
のレベルが既知データメモリ12からのBSE信号のレ
ベルと一致した場合、その一致したレベルを示す既知の
元素が未知試料に含まれる元素であると判定する。そし
て、その判別結果が表示回路20を介してCRTモニタ
22に元素名等で表示される。したがって、特性X線の
波長走査を再度行わなくても未知試料に含まれる元素を
特定することができる。
こうして特定された未知試料の元素を確定したい場合に
は、未知試料について再度電子ビームを照射して特性X
線を検出する必要があるが、その際においても、従来の
ように全波長範囲を走査する必要はなく、−次近似とし
ての元素名が分かつているので、その該当する元素が含
まれると想定される波長を含む限られた範囲についての
み波長走査すれば良い。このため、定性分析に要する時
間を短縮することができる。
は、未知試料について再度電子ビームを照射して特性X
線を検出する必要があるが、その際においても、従来の
ように全波長範囲を走査する必要はなく、−次近似とし
ての元素名が分かつているので、その該当する元素が含
まれると想定される波長を含む限られた範囲についての
み波長走査すれば良い。このため、定性分析に要する時
間を短縮することができる。
(へ)効果
以上のように本発明によれば、反射電子の信号レベルは
平均原子番号に対応しているという事実に着目し、予め
測定した既知試料の元素についての反射電子の信号レベ
ルに対して未知試料の反射電子の信号レベルを比較する
ので、−次近似的に未知試料の元素を特定することがで
きる。したがって、従来に比べて定性分析を迅速に行え
るようになる等の優れた効果が発揮される。
平均原子番号に対応しているという事実に着目し、予め
測定した既知試料の元素についての反射電子の信号レベ
ルに対して未知試料の反射電子の信号レベルを比較する
ので、−次近似的に未知試料の元素を特定することがで
きる。したがって、従来に比べて定性分析を迅速に行え
るようになる等の優れた効果が発揮される。
第1図は本発明の実施例に係る表面分析装置のブロック
構成図、第2図は試料に対する電子ビームの走査の説明
図である。 1・・・EPMA本体、12・・・既知データメモリ、
14・・・画像メモリ、18・・・比較判定部。
構成図、第2図は試料に対する電子ビームの走査の説明
図である。 1・・・EPMA本体、12・・・既知データメモリ、
14・・・画像メモリ、18・・・比較判定部。
Claims (1)
- (1)既知試料に対して電子ビームを照射することによ
り発生される反射電子を検出して得られるBSE信号を
記憶する既知データメモリと、未知試料に対して電子ビ
ームを二次元走査することにより発生される反射電子を
検出して得られるBSE信号を記憶する画像メモリと、 前記画像メモリに記憶された未知試料のBSE信号と前
記既知データメモリに記憶されたBSE信号とのレベル
を比較して未知試料の元素を判定する比較判定部と、 を備えることを特徴とする表面分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62314781A JPH01155251A (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | 表面分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62314781A JPH01155251A (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | 表面分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01155251A true JPH01155251A (ja) | 1989-06-19 |
Family
ID=18057516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62314781A Pending JPH01155251A (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | 表面分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01155251A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007220317A (ja) * | 2006-02-14 | 2007-08-30 | Jeol Ltd | 電子ビーム検査方法および装置 |
JP2016085917A (ja) * | 2014-10-28 | 2016-05-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び情報処理装置 |
JP2016114547A (ja) * | 2014-12-17 | 2016-06-23 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 試料中の元素の測定方法、濃度分布の可視化方法、及び測定装置 |
-
1987
- 1987-12-11 JP JP62314781A patent/JPH01155251A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007220317A (ja) * | 2006-02-14 | 2007-08-30 | Jeol Ltd | 電子ビーム検査方法および装置 |
JP2016085917A (ja) * | 2014-10-28 | 2016-05-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び情報処理装置 |
US10453648B2 (en) | 2014-10-28 | 2019-10-22 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle bean device and information-processing device |
JP2016114547A (ja) * | 2014-12-17 | 2016-06-23 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 試料中の元素の測定方法、濃度分布の可視化方法、及び測定装置 |
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