JPH01143094A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH01143094A
JPH01143094A JP62300977A JP30097787A JPH01143094A JP H01143094 A JPH01143094 A JP H01143094A JP 62300977 A JP62300977 A JP 62300977A JP 30097787 A JP30097787 A JP 30097787A JP H01143094 A JPH01143094 A JP H01143094A
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JP
Japan
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bit line
bit lines
pair
line pair
bit
Prior art date
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Pending
Application number
JP62300977A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Matsuda
吉雄 松田
Kazuyasu Fujishima
一康 藤島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
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Priority to US07/276,741 priority patent/US5012447A/en
Publication of JPH01143094A publication Critical patent/JPH01143094A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/06Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • G11C5/063Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4097Bit-line organisation, e.g. bit-line layout, folded bit lines

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ダイナミック型半導体記憶装置に関し、特
に信号読み出し誤りの防止に関するものである。
〔従来の技術〕
第3図は従来のダイナミック型半導体記憶装置のビット
線対の構造を示す。ビット線対BL、BLには複数個の
メモリセルC8及びメモリセルとビット線を接続するた
めの、ゲートにワード線信号(wL、、、WL+ ・・
・・・・)を受けるトランスファゲートTGが接続され
る。また、各ビット線にはレファレンスレベル発生のた
めのダミーセルDC,。
D C+及びこれとビット線を接続するダミーワード線
D W L o 、 D W L +が接続され、また
ワード線、ダミーワード線が立ち上がって、ビット線対
に信号電圧差が現われた後に、このビット線電位をセン
ス増幅するためのセンスアンプSAが接続されている。
また、コラムアドレスに従って選択されたビット線対を
データ人出力線対I10,110に接続するトランスフ
ァゲートQ、、Q、があり、このゲートにはコラムデコ
ーダ1出力が入力される。
次に、信号読み出し時に、各ビット線対上に現われる信
号電圧を考える。
各ビット線は第4図に示すように、各々セルプレートあ
るいは基板を介して接地電圧(固定電位)に対してCI
+対をなすビット線に対してC2+隣接するビット線対
のビット線に対してC3なる容量を存するものとする。
ビット線長を2、メモリセル容量をC3とする。
メモリセルには、 “H”レベル: Cs Vcc (Vce書き込み)“
L′″レベル:Q     (OV書き込み)ダミーセ
ルには、HCsVcc (C,の容量に’AVcc@き込み等)なる電荷が蓄え
られているものとする。
ビット線のプリチャージレベルをVCCとすると、例え
ばビット線BL、に接続されるメモリセルが選択され、
ビット¥aBL1にダミーセルが接続された場合、ビッ
ト線BL、、BL、の電位VIILI+■笛は、 (“L″読み出し時)   ・・・(11(“L″読み
出し時)   ・・・(2)但し、ΔViT了、ΔV富
、Δv、、、、 l  ΔVILEは各々、添字で示し
たビット線の電位変化である。
式(1)〜(3)より、ビット線BL、、BL、は共に
プリチャージレベルが等しいことを考え、式(1)−(
21,(11−(31の演算より、ビット線対間の電圧
差は次のようになる。
VIILI   VIILI =ΔV ILI −ΔV
IL11+α   2 ・・・(4) “十”は“H”読み出し時、“−”は“L”読み出し時 (4)式の右辺第1項は本来の読み出し電圧差、第2項
は隣接するビット線対のビット線BLO,BL2からの
結合容量を介したノイズ成分である。
ところでメモリの高集積化が進んで、ビット線ピッチが
減少してくると、ビット線対間容’] C3が増大し、
(4)式の第2項が大きくなってくる。従ってこれによ
り、読み出し電圧を著しく損ない、読み出し余裕が低下
するとともに、ソフトエラー率が悪化し、ついには誤動
作に至るという問題を生ずる。
以下の例は上記の装置のもつ問題点を解消したもので、
ビット線間容量による隣接ビット線対間での雑音による
読み出し電圧振幅の低下を完全に零にすることができる
半導体記憶装置を示すものである。
この例に係る半導体記憶装置では、ビット線対上の1箇
所又は複数箇所に交差部分を設けることにより、対をな
すビット線の各々が隣接ビット線対から受ける容量結合
雑音を全く同一にし、読み出し電圧差の低下をな(すよ
うにしている。
次に、この従来の改良例による半導体記憶装置を第5図
に従って説明する。
本改良例においては、図に示すように、各ビット線対(
BLo 、BLo 、BL+ 、BL+・・・・・・)
は、4等分の区分a、b、c、dに分がれ、これらの等
分点CP+ 、CPt 、CPgで、以下のように交差
している。
■ BL、、百Tτは、cp、で交差、■ BL、、B
L、は、cp、及びCP3で交差、 ■’ B Lx 、  B Ltは、cp、で交差、■
’ B L3 、  B Loは、CP、及びcpsで
交差、 即ち、ビット線対B Lo 、 B Loから数えて、
奇数番目のビット線対はCP、で交差し、偶数番目のビ
ット線対はCP、及びCP、で交差している。これによ
り、各ビット線対が隣接するビット線対から受ける容量
結合ノイズは、前述の従来例と同様に考えると、以下の
ようになる。
■ ビット線BL、及び正工了が、隣接ビット線対から
受ける容量結合ノイズΔVILIZ ΔVi〒′は、 区分a 区分b 区分C区分d であり、両者は全く等しい。
■ ビット線BLz及びBL、が、隣接ビット線対から
受ける容量結合ノイズΔVIL2′+ Δ■m′は、 区分a 区分b 区分C区分d であり、両者は全く等しい。
以下、同様に、全ビット線対について、それぞれ対をな
すビット線が、隣接ビット線対から受ける容量結合ノイ
ズは全く等しいものとなる。なお、メモリアレイ端のビ
ット線対BLo、BL、についても、 区分C区分d 区分a 区分す となり、両者は全く等しい。
このように、本改良例では、対をなすビット線の各々が
信号読み出し時に隣接するビット線対から受ける容量結
合ノイズが、全く等しくなっているので、このノイズに
よる読み出し電圧差の低下を全くなくすることができ、
読み出しマージンの拡大、ソフトエラー率の向上を達成
できる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
次に、このような従来の半導体記憶装置の問題点につい
て述べる。従来の半導体記憶装置で設ける交差CP+ 
、CPg 、CPsはいずれも、これらをビット線対に
ついて、完全な対称形でレイアウトすることは不可能で
ある。第5図の装置の基金、偶数番目のビット線対(B
L、、BL、、BL3 、 B r−s ・”・・・)
については、各々、交差が2ケ所あるので、ビット線対
全体については、バランスしたレイアウトが可能である
。例えば、ビット線をA1層、これと交差可能な配線層
をポリSi層とすると、交差CPIでは、ビット線BL
をAl、ビット線BL、をポリSi、交差cp3では、
ビットvABLIをポリ3i、ビット線BL。
をA1とすればよく、これにより、ビット線対の浮遊容
量のアンバランスを避けることができる。
しかし、奇数番目のビット線対については、交差が1ケ
所であるため、偶数番目のビット線対のような構成がと
れず、ビット線対の浮遊容量がアンバランスになるとい
う問題点がある。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、異なるビット線間の容量結合ノイズをキャン
セルできるとともに、すべてのビット線対の浮遊容量が
バランスする半導体記憶装置を得ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る半導体記憶装置は、各ビット線対を偶数
箇所で交差させ、各ビット線対の各々のビット線をとも
に、隣接するビット線対の各々のビット線と隣接するそ
れぞれの部分の長さが等しくなるように配置したもので
ある。
〔作用〕
この発明においては、各ビット線対を偶数箇所で交差さ
せ、各ビット線対の各々のビット線をともに、隣接する
ビット線対の各々のビット線と隣接する部分の長さが等
しくなるように配置することにより、ビット線対間の容
量ノイズはキャンセルされ、かつ、すべてのビット線対
の浮遊容量がバランスするようにできる。
〔実施例〕
第1図に、本発明の一実施例による半導体記憶装置の構
成図を示す。本装置が第5図の装置と異なるのは、奇数
番目のビット線対<B Lo 、B Lo 。
BL2.BLt・・・・・・)に、更に、cp、の交差
が追加されている点である。図に示すように一各ビyl
″嶽河(t3Lo 、 BLo 、 BLt 、 BL
t ・・・・・・)は、5つの区間a、b、c、d、e
に分かれ、CP+ 、CPz 、CP3 、CPaで、
以下のように交差している。
■ BL、、B工τは、CPt、CPaで交差、■ B
L、、 酊は、CP、、CPSで交差、■ BLt、 
口]は、crt、cpaで交差、■ BL3.BL2は
、CP+ 、CP3で交差、即ち、ビット線対BL、、
BL、から数えて、奇数番目のビット線対はCPZ、C
P4で交差し、偶数番目のビット線対はCP+ 、CP
3で交差している。また、これらの交差部はビット線の
長さをlとしたとき、各区間の長さが、区間aないし区
間eにおいて、それぞれtt、 、  l/4.  j
!/4゜1/4,12.であり、It、+12=l/4
となるように設けられている。
これにより、各ビット線対が隣接するビット線対から受
ける容量結合ノイズは、前述の従来例と同様に考えると
、以下のようになる。
■ ビット線BL、及びBL、が、隣接ビット線対から
受ける容量結合ノイズΔVILI+ ΔVIILI。
は、 区間a 区間b 区間C区間d 区間eとなり、l、+
12=l/4であることを考慮すると、両者が受けるノ
イズは全く等しい。
■ ビット線BLz及び「]が、隣接ビット線対から受
ける容量結合ノイズΔ■BL!+ ΔVIIL丁は、 となり、やはり、lt +lx =l/4であるから、
両者が受けるノイズは全く等しい。
以下、同様に、全ビット線対について、それぞれ対をな
すビット線が、隣接ビット線対から受ける容量結合ノイ
ズは全く等しいものとなる。なお、メモリアレイ端のビ
ット′線対BL、、B工τについても、両者の受ける容
量結合ノイズは全(等しいことは明らかである。
本実施例においては、奇数番目のビット線対(BLo 
、BLo 、BLz 、BLz・・・・・・)に、更に
、ビット線端cp、゛で交差が追加されているため、従
来例の偶数番目のビット線対のように、ビット線対全体
について、バランスしたレイアウトが可能となる。例え
ば、ビット線をA1層、これと交差可能な配線層をポリ
Si層とすると、交差CP tテハ、ヒツト線BLoを
A l 、  ヒン) Wt B L oをポリSt、
交差CP4では、ビット線BL、をポリSi、ビットv
AB L oをAIとすればよい。これにより、全ビッ
ト線対について容量がバランスした状態を実現できる。
なお、上記実施例では、各ビット線対に交差を2ケ所設
け、全ビット線対を5区間に分ける場合を示したが、各
ビット線対に交差を4,6.・・・・・・等その整数倍
設け、9区間、13区間・・・・・・に分割するように
しても上記実施例と同様な効果を奏する。但し、この場
合、両端の区間のビット線長を合計したものは、その間
にある区間のビット線の長さに等しいように分割されな
ければならないことは明らかである。例えば、第2図は
、各ビット線対に4つの交差を設け、ビット線対を9区
間に分割した例を示す図であり、基本的には、第1図を
2回繰り返した形である。もちろん、この場合、ビット
線の長さをlとしたとき、1.  +j!、 =1/8
を満たしていることは言うまでもない。なお、この第2
図においては、センスアンプSA、コラムデコーダ等は
省略されている。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明に係る半導体記憶装置によれば
、各ビット線対に偶数個の交差部を設け、各ビット線対
の各々のビット線をともに、隣接するビット線対の各々
のビット線と隣接する部分の長さが等しくなるように配
置したので、ビット線対間の容量ノイズはキャンセルさ
れ、かつ、すべてのビット線対の浮遊容量をバランスさ
せることができ、読み出し電圧差の劣化を防ぎ、信号読
み出し動作余裕を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による半導体記憶装置を示す
構成図、第2図は本発明の他の実施例による半導体記憶
装置を示す構成図、第3図は従来の半導体記憶装置を示
す回路図、第4図は従来の半導体記憶装置の各部の容量
を模式的に示した図、第5図は従来のビット線交差を有
する半導体記憶装置を示す構成図である。 BLO,BLτ+BLI+W口・・・・・・はビット線
、WL+、、WL+・・・・・・はワード線、C8はメ
モリセル、SAはセンスアンプ、CP、、CP、。 CPU、C’P、は交差部分。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)複数のワード線、複数のビット線、及びこれらの
    交点に位置する複数のメモリセルからなるメモリセルア
    レイを有し、上記ビット線2本が対をなし、該ビット線
    対間の電圧を検出する1つのセンスアンプに入力される
    構成をもつ半導体記憶装置において、上記各ビット線対
    は偶数箇所で交差部分をもち、かつ、該各ビット線対を
    構成する各ビット線は、隣接するビット線対の各々のビ
    ット線と隣接するそれぞれの部分の長さが等しくなるよ
    う配置されてなることを特徴とする半導体記憶装置。
  2. (2)上記各ビット線対の交差部の数が等しいことを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。
  3. (3)上記各ビット線対は、上記交差部の半数の交差部
    において第1のビット線が第1の配線層で形成され、第
    2のビット線が第2の配線層で形成され、残りの半数の
    交差部において第1のビット線が第2の配線層で形成さ
    れ、第2のビット線が第1の配線層で形成されているこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の半導体記憶
    装置。
JP62300977A 1987-11-28 1987-11-28 半導体記憶装置 Pending JPH01143094A (ja)

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